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講演抄録/キーワード
講演名
2015-11-06 14:35
低ダメージスパッタ堆積プロセスを利用した有機EL素子用電極膜の作製
○
星 陽一
・
濱口大地
・
小林信一
・
内田孝幸
・
澤田 豊
(
東京工芸大
)・
清水英彦
(
新潟大
)
CPM2015-87
エレソ技報アーカイブへのリンク:
CPM2015-87
抄録
(和)
(まだ登録されていません)
(英)
(Not available yet)
キーワード
(和)
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(英)
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文献情報
信学技報, vol. 115, no. 297, CPM2015-87, pp. 19-22, 2015年11月.
資料番号
CPM2015-87
発行日
2015-10-30 (CPM)
ISSN
Print edition: ISSN 0913-5685 Online edition: ISSN 2432-6380
著作権に
ついて
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034)
PDFダウンロード
CPM2015-87
エレソ技報アーカイブへのリンク:
CPM2015-87
研究会情報
研究会
CPM
開催期間
2015-11-06 - 2015-11-07
開催地(和)
まちなかキャンパス長岡
開催地(英)
Machinaka Campus Nagaoka
テーマ(和)
薄膜プロセス・材料,一般
テーマ(英)
Thin film processing, etc.
講演論文情報の詳細
申込み研究会
CPM
会議コード
2015-11-CPM
本文の言語
日本語
タイトル(和)
低ダメージスパッタ堆積プロセスを利用した有機EL素子用電極膜の作製
サブタイトル(和)
タイトル(英)
Deposition of Top Electrode Films for OLED by Low Damage Sputter-deposition Process
サブタイトル(英)
キーワード(1)(和/英)
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キーワード(2)(和/英)
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キーワード(3)(和/英)
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キーワード(4)(和/英)
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キーワード(5)(和/英)
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キーワード(6)(和/英)
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キーワード(7)(和/英)
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キーワード(8)(和/英)
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第1著者 氏名(和/英/ヨミ)
星 陽一
/
Yoichi Hoshi
/
ホシ ヨウイチ
第1著者 所属(和/英)
東京工芸大学
(略称:
東京工芸大
)
Tokyo Polytechnic University
(略称:
Tokyo Polytechnic Univ.
)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ)
濱口 大地
/
Daichi Hamaguchi
/
ハナグチ ダイチ
第2著者 所属(和/英)
東京工芸大学
(略称:
東京工芸大
)
Tokyo Polytechnic University
(略称:
Tokyo Polytechnic Univ.
)
第3著者 氏名(和/英/ヨミ)
小林 信一
/
Shin-ichi Kobayashi
/
コバヤシ シンイチ
第3著者 所属(和/英)
東京工芸大学
(略称:
東京工芸大
)
Tokyo Polytechnic University
(略称:
Tokyo Polytechnic Univ.
)
第4著者 氏名(和/英/ヨミ)
内田 孝幸
/
Takayuki Uchida
/
ウチダ タカユキ
第4著者 所属(和/英)
東京工芸大学
(略称:
東京工芸大
)
Tokyo Polytechnic University
(略称:
Tokyo Polytechnic Univ.
)
第5著者 氏名(和/英/ヨミ)
澤田 豊
/
Yutaka Sawada
/
シミズ ヒデヒコ
第5著者 所属(和/英)
東京工芸大学
(略称:
東京工芸大
)
Tokyo Polytechnic University
(略称:
Tokyo Polytechnic Univ.
)
第6著者 氏名(和/英/ヨミ)
清水 英彦
/
Hidehiko Shimizu
/
第6著者 所属(和/英)
新潟大学
(略称:
新潟大
)
Niigata University
(略称:
Niigata Uinv.
)
第7著者 氏名(和/英/ヨミ)
/ /
第7著者 所属(和/英)
(略称: )
(略称: )
第8著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第8著者 所属(和/英)
(略称: )
(略称: )
第9著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第9著者 所属(和/英)
(略称: )
(略称: )
第10著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第10著者 所属(和/英)
(略称: )
(略称: )
第11著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第11著者 所属(和/英)
(略称: )
(略称: )
第12著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第12著者 所属(和/英)
(略称: )
(略称: )
第13著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第13著者 所属(和/英)
(略称: )
(略称: )
第14著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第14著者 所属(和/英)
(略称: )
(略称: )
第15著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第15著者 所属(和/英)
(略称: )
(略称: )
第16著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第16著者 所属(和/英)
(略称: )
(略称: )
第17著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第17著者 所属(和/英)
(略称: )
(略称: )
第18著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第18著者 所属(和/英)
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第19著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第19著者 所属(和/英)
(略称: )
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第20著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第20著者 所属(和/英)
(略称: )
(略称: )
講演者
第1著者
発表日時
2015-11-06 14:35:00
発表時間
20分
申込先研究会
CPM
資料番号
CPM2015-87
巻番号(vol)
vol.115
号番号(no)
no.297
ページ範囲
pp.19-22
ページ数
4
発行日
2015-10-30 (CPM)
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