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講演抄録/キーワード
講演名 2015-07-10 15:20
パルス電析法を用いたFePtナノドットアレイの高保磁力化の検討
西家大貴ヴォダルツ ジギー謝 承達齋藤 学阿部純也早大)・Giovanni Zangariバージニア大)・本間敬之早大MR2015-13 エレソ技報アーカイブへのリンク:MR2015-13
抄録 (和) 我々は電気化学的手法とリソグラフィ技術を組み合わせたビットパターンドメディア(BPM)形成手法を検討してきた.本研究では,電解析出法により膜厚20 nm程度のL10-FePt薄膜及び,15 nm径,35 nm周期のFePtナノドットアレイを形成し特性評価を行った.また保磁力の向上及びアニール処理温度の低温化を目的として,パルス電析法によりFePt多層膜を形成した.その結果,膜厚20 nm程度でアニール処理後に12.0 kOeと従来より高い保磁力が確認された.また,アニール処理温度の低温化では,FePt多層膜にアニール処理を施した結果,加熱温度450℃においても7.1 kOeの保磁力が確認された.FePtナノドットアレイの形成では,アニール処理を施すと磁性粒子同士が焼結する問題が生じていたが,アニール処理条件を最適化することで形態保持が確認された.また,パルス電析法により均一なFePtナノドットアレイの形成が確認された. 
(英) We have been developing the combination process of electrochemical and lithography techniques to fabricate ferromagnetic nanodot arrays for bit patterned media(BPM). In this work, we attempted to fabricate L10-FePt thin films with 20 nm thicknesses and FePt nanodot arrays (diameter; 15 nm, pitch; 35 nm) by electrodeposition and characterized their properties. For obtaining higher coercivity and capability of lower annealing temperature, we also utilized multilayer structure by pulse electrodeposition. As a result, L10-FePt with 20 nm thicknesses exhibited higher coercivity of 12.0 kOe. Moreover, applying pulse electrodeposition to form FePt multilayer enabled to lower the annealing temperature, e.g., perpendicular coercivity of 7.1 kOe was obtained by 450°C annealing. The FePt nanodot array could be formed after annealing, by optimizing the deposition and annealing parameters.
キーワード (和) BPM / 電解析出法 / パルス電析法 / L10-FePt / 電子線描画法 / / /  
(英) BPM / Electrodeposition / Pulse Electrodeposition / L10-FePt / Electron Beam Lithography / / /  
文献情報 信学技報, vol. 115, 2015年7月.
資料番号  
発行日 2015-07-03 (MR) 
ISSN Print edition: ISSN 0913-5685  Online edition: ISSN 2432-6380
著作権に
ついて
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034)
PDFダウンロード MR2015-13 エレソ技報アーカイブへのリンク:MR2015-13

研究会情報
研究会 MRIS ITE-MMS  
開催期間 2015-07-10 - 2015-07-10 
開催地(和) 早稲田大学 
開催地(英) Waseda Univ. 
テーマ(和) 固体メモリ・媒体+一般 
テーマ(英) Solid State Memory, Media, etc. 
講演論文情報の詳細
申込み研究会 MRIS 
会議コード 2015-07-MR-MMS 
本文の言語 日本語 
タイトル(和) パルス電析法を用いたFePtナノドットアレイの高保磁力化の検討 
サブタイトル(和)  
タイトル(英) Fabrication of FePt Nanodot Arrays with High Coercivity by Pulse Electrodeposition 
サブタイトル(英)  
キーワード(1)(和/英) BPM / BPM  
キーワード(2)(和/英) 電解析出法 / Electrodeposition  
キーワード(3)(和/英) パルス電析法 / Pulse Electrodeposition  
キーワード(4)(和/英) L10-FePt / L10-FePt  
キーワード(5)(和/英) 電子線描画法 / Electron Beam Lithography  
キーワード(6)(和/英) /  
キーワード(7)(和/英) /  
キーワード(8)(和/英) /  
第1著者 氏名(和/英/ヨミ) 西家 大貴 / Daiki Nishiie / ニシイエ ダイキ
第1著者 所属(和/英) 早稲田大学 (略称: 早大)
Waseda University (略称: Waseda Univ.)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) ヴォダルツ ジギー / Siggi Wodarz / ヴォダルツ ジギー
第2著者 所属(和/英) 早稲田大学 (略称: 早大)
Waseda University (略称: Waseda Univ.)
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) 謝 承達 / Chen Tar Hsieh / シャ ショウタツ
第3著者 所属(和/英) 早稲田大学 (略称: 早大)
Waseda University (略称: Waseda Univ.)
第4著者 氏名(和/英/ヨミ) 齋藤 学 / Manabu Saito / サイトウ マナブ
第4著者 所属(和/英) 早稲田大学 (略称: 早大)
Waseda University (略称: Waseda Univ.)
第5著者 氏名(和/英/ヨミ) 阿部 純也 / Junya Abe / アベ ジュンヤ
第5著者 所属(和/英) 早稲田大学 (略称: 早大)
Waseda University (略称: Waseda Univ.)
第6著者 氏名(和/英/ヨミ) Giovanni Zangari / Giovanni Zangari / Giovanni Zangari
第6著者 所属(和/英) バージニア大学 (略称: バージニア大)
University of Virginia (略称: UVA)
第7著者 氏名(和/英/ヨミ) 本間 敬之 / Takayuki Homma / ホンマ タカユキ
第7著者 所属(和/英) 早稲田大学 (略称: 早大)
Waseda University (略称: Waseda Univ.)
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講演者
発表日時 2015-07-10 15:20:00 
発表時間 25 
申込先研究会 MRIS 
資料番号 IEICE-MR2015-13 
巻番号(vol) IEICE-115 
号番号(no) no.136 
ページ範囲 pp.25-29 
ページ数 IEICE-5 
発行日 IEICE-MR-2015-07-03 


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