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| 講演抄録／キーワード | ||
| 講演名 | 2015-06-19 13:55 化学気相成長法を用いて作製した単層グラフェンの積層による2層グラフェンの作製と電気特性 ○星野 崚・林 佑太郎・今井健太郎・鈴木 希・永田知子・岩田展幸・山本 寛（日大）  EMD2015-13 CPM2015-23 OME2015-26 エレソ技報アーカイブへのリンク：EMD2015-13 CPM2015-23 OME2015-26 |
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| 抄録 | （和） | 単層グラフェンを積み重ねることで２層グラフェンを作製した。化学気相成長(Chemical Vapor Deposition: CVD)法により成長させたグラフェンを、ポリメチルメタクリレート(Poly methyl methacrylate : PMMA)を保護膜としてSiO2/Si 基板へ転写した。Cu箔とPMMA膜を除去するためFe(NO)3と酢酸を用いてエッチングを行った。この転写・エッチングのプロセスを2回行うことにより2層グラフェンを作製した。この２層グラフェンの電気伝導特性を測定した。シート抵抗は290Kで1300Ω/sqであり、275Kから40Kまでは金属的伝導を示し、40K以下では半導体的伝導を示した。 |
| （英） | Bilayer graphene was fabricated by stacking two single-layered graphene sheets. The single layered graphene was prepared by chemical vapor deposition (CVD) method on Cu foil and transferred on SiO2/Si substrate. For the transport, poly methyl methacrylate (PMMA) was used as a tentative protection film. Cu foil and PMMA film were removed after the transport by soaking in Fe(NO)3 aqueous solution and CH3COOH. The sheet resistance was 1300Ω/sq at 290K. The metallic conductivity was observed above 40K while semiconductive property was observed below 40K. | |
| キーワード | （和） | 化学気相成長法 / グラフェン / 積層 / 2層グラフェン / / / / |
| （英） | Chemical Vapor Deposition / Graphene / Deposition / Bi-layers Graphene / / / / | |
| 文献情報 | 信学技報, vol. 115, no. 104, CPM2015-23, pp. 11-15, 2015年6月. | |
| 資料番号 | CPM2015-23 | |
| 発行日 | 2015-06-12 (EMD, CPM, OME) | |
| ISSN | Print edition: ISSN 0913-5685 Online edition: ISSN 2432-6380 | |
| 著作権に ついて |
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します．(許諾番号：10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034) | |
| PDFダウンロード | EMD2015-13 CPM2015-23 OME2015-26 エレソ技報アーカイブへのリンク：EMD2015-13 CPM2015-23 OME2015-26 |
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| 研究会情報 | |
| 研究会 | EMD CPM OME |
| 開催期間 | 2015-06-19 - 2015-06-19 |
| 開催地（和） | 機械振興会館 |
| 開催地（英） | Kikai-Shinko-Kaikan Bldg. |
| テーマ（和） | 材料デバイスサマーミーティング |
| テーマ（英） | |
| 講演論文情報の詳細 | |
| 申込み研究会 | CPM |
| 会議コード | 2015-06-EMD-CPM-OME |
| 本文の言語 | 日本語 |
| タイトル（和） | 化学気相成長法を用いて作製した単層グラフェンの積層による2層グラフェンの作製と電気特性 |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Synthesis and Evaluation of Bi-layers Graphene by accumulating the Single-layered Graphene by the Chemical Vapor Deposition method |
| サブタイトル（英） | |
| キーワード(1)（和/英） | 化学気相成長法 / Chemical Vapor Deposition |
| キーワード(2)（和/英） | グラフェン / Graphene |
| キーワード(3)（和/英） | 積層 / Deposition |
| キーワード(4)（和/英） | 2層グラフェン / Bi-layers Graphene |
| キーワード(5)（和/英） | / |
| キーワード(6)（和/英） | / |
| キーワード(7)（和/英） | / |
| キーワード(8)（和/英） | / |
| 第1著者 氏名（和/英/ヨミ） | 星野 崚 / Ryo Hoshino / ホシノ リョウ |
| 第1著者 所属（和/英） | 日本大学 (略称： 日大) Nihon University (略称： Nihon Univ.) |
| 第2著者 氏名（和/英/ヨミ） | 林 佑太郎 / Yutaro Hayashi / ハヤシ ユウタロウ |
| 第2著者 所属（和/英） | 日本大学 (略称： 日大) Nihon University (略称： Nihon Univ.) |
| 第3著者 氏名（和/英/ヨミ） | 今井 健太郎 / Kentaro Imai / イマイ ケンタロウ |
| 第3著者 所属（和/英） | 日本大学 (略称： 日大) Nihon University (略称： Nihon Univ.) |
| 第4著者 氏名（和/英/ヨミ） | 鈴木 希 / Nozomi Suzuki / スズキ ノゾミ |
| 第4著者 所属（和/英） | 日本大学 (略称： 日大) Nihon University (略称： Nihon Univ.) |
| 第5著者 氏名（和/英/ヨミ） | 永田 知子 / Tomoko Nagata / ナガタ トモコ |
| 第5著者 所属（和/英） | 日本大学 (略称： 日大) Nihon University (略称： Nihon Univ.) |
| 第6著者 氏名（和/英/ヨミ） | 岩田 展幸 / Nobuyuki Iwata / イワタ ノブユキ |
| 第6著者 所属（和/英） | 日本大学 (略称： 日大) Nihon University (略称： Nihon Univ.) |
| 第7著者 氏名（和/英/ヨミ） | 山本 寛 / Hiroshi Yamamoto / ヤマモト ヒロシ |
| 第7著者 所属（和/英） | 日本大学 (略称： 日大) Nihon University (略称： Nihon Univ.) |
| 第8著者 氏名（和/英/ヨミ） | / / |
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| 講演者 | 第1著者 |
| 発表日時 | 2015-06-19 13:55:00 |
| 発表時間 | 25分 |
| 申込先研究会 | CPM |
| 資料番号 | EMD2015-13, CPM2015-23, OME2015-26 |
| 巻番号（vol） | vol.115 |
| 号番号（no） | no.103(EMD), no.104(CPM), no.105(OME) |
| ページ範囲 | pp.11-15 |
| ページ数 | 5 |
| 発行日 | 2015-06-12 (EMD, CPM, OME) |
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