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講演抄録/キーワード
講演名 2015-06-19 13:30
ペチーニ法で作製したBi1+xFeO3 (x = 0.0, 0.2)ターゲットおよび パルスレーザー堆積法で作製したBiFeO3薄膜の化学当量性の評価
王 春大島佳祐稲葉隆哲宋 華平渡部雄太永田知子橋本拓也高瀬浩一山本 寛岩田展幸日大EMD2015-12 CPM2015-22 OME2015-25 エレソ技報アーカイブへのリンク:EMD2015-12 CPM2015-22 OME2015-25
抄録 (和) パルスレーザー堆積法を用いて作製したBiFeO3薄膜の表面組成比について調べた。BiFeO3薄膜表面においてBi/Fe=0.72でBiが欠損していることがわかった。また、レーザーアブレーションした後のBiFeO3ターゲット表面形状及び元素組成比を調べた。BiFeO3ターゲット表面のレーザースポット内の位置により異なる表面像を観測した。レーザーアブレーション回数によって、BFOターゲットのBi/Feの組成比も異なったことがわかった。Biが不足していることよりBi過剰なBi1.2FeOxターゲットを作製した。Bi1.2FeOxターゲットの密度は85.1%となった。 
(英) The study of the surface composition of BiFeO3 thin films grown by pulsed laser deposition showed that the surface of BiFeO3 is bismuth-poor with a ratio of Bi and Fe of Bi/Fe=0.72. We also investigated the surface composition and morphology of BiFeO3 target after laser ablation. The Bi/Fe ratios at the laser ablation positions were different if the times of pulsed were different. While all the Bi/Fe ratios were lower than 1 under different laser ablation conditions. In order to solve the problem of bismuth lack in the target and deposited BiFeO3 films. Bi-rich Bi1.2FeOx target was made successfully. The density of Bi1.2FeOx target is 85.1%.
キーワード (和) BiFeO3 / ペチーニ法 / Bi過剰 / BFOターゲット / / / /  
(英) BiFeO3 / Pechini method / Bi excess / BFO target / / / /  
文献情報 信学技報, vol. 115, no. 104, CPM2015-22, pp. 5-9, 2015年6月.
資料番号 CPM2015-22 
発行日 2015-06-12 (EMD, CPM, OME) 
ISSN Print edition: ISSN 0913-5685    Online edition: ISSN 2432-6380
著作権に
ついて
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034)
PDFダウンロード EMD2015-12 CPM2015-22 OME2015-25 エレソ技報アーカイブへのリンク:EMD2015-12 CPM2015-22 OME2015-25

研究会情報
研究会 EMD CPM OME  
開催期間 2015-06-19 - 2015-06-19 
開催地(和) 機械振興会館 
開催地(英) Kikai-Shinko-Kaikan Bldg. 
テーマ(和) 材料デバイスサマーミーティング 
テーマ(英)  
講演論文情報の詳細
申込み研究会 CPM 
会議コード 2015-06-EMD-CPM-OME 
本文の言語 日本語 
タイトル(和) ペチーニ法で作製したBi1+xFeO3 (x = 0.0, 0.2)ターゲットおよび パルスレーザー堆積法で作製したBiFeO3薄膜の化学当量性の評価 
サブタイトル(和)  
タイトル(英) Stoichiometric study of Bi1+xFeO3 (x =0.0, 0.2) target prepared by Pechini method and BiFeO3 thin film fabricated by pulsed laser deposition method 
サブタイトル(英)  
キーワード(1)(和/英) BiFeO3 / BiFeO3  
キーワード(2)(和/英) ペチーニ法 / Pechini method  
キーワード(3)(和/英) Bi過剰 / Bi excess  
キーワード(4)(和/英) BFOターゲット / BFO target  
キーワード(5)(和/英) /  
キーワード(6)(和/英) /  
キーワード(7)(和/英) /  
キーワード(8)(和/英) /  
第1著者 氏名(和/英/ヨミ) 王 春 / Chun Wang / オウ シュン
第1著者 所属(和/英) 日大大学 (略称: 日大)
Nihon University (略称: Nihon Univ.)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) 大島 佳祐 / Keisuke Oshima / オオシマ ケイスキ
第2著者 所属(和/英) 日大大学 (略称: 日大)
Nihon University (略称: Nihon Univ.)
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) 稲葉 隆哲 / Takaaki Inaba / イナバ タカアキ
第3著者 所属(和/英) 日大大学 (略称: 日大)
Nihon University (略称: Nihon Univ.)
第4著者 氏名(和/英/ヨミ) 宋 華平 / Huaping Song / ソン フアピン
第4著者 所属(和/英) 日大大学 (略称: 日大)
Nihon University (略称: Nihon Univ.)
第5著者 氏名(和/英/ヨミ) 渡部 雄太 / Yuta Watabe / ワタベ ユタ
第5著者 所属(和/英) 日大大学 (略称: 日大)
Nihon University (略称: Nihon Univ.)
第6著者 氏名(和/英/ヨミ) 永田 知子 / Tomoko Nagata / ナガタ トモコ
第6著者 所属(和/英) 日大大学 (略称: 日大)
Nihon University (略称: Nihon Univ.)
第7著者 氏名(和/英/ヨミ) 橋本 拓也 / Takuya Hashimoto / ハシモト タクヤ
第7著者 所属(和/英) 日大大学 (略称: 日大)
Nihon University (略称: Nihon Univ.)
第8著者 氏名(和/英/ヨミ) 高瀬 浩一 / Kouichi Takase / タカセ コウイチ
第8著者 所属(和/英) 日大大学 (略称: 日大)
Nihon University (略称: Nihon Univ.)
第9著者 氏名(和/英/ヨミ) 山本 寛 / Hiroshi Yamamoto / ヤマモト ヒロシ
第9著者 所属(和/英) 日大大学 (略称: 日大)
Nihon University (略称: Nihon Univ.)
第10著者 氏名(和/英/ヨミ) 岩田 展幸 / Nobuyuki Iwata / イワタ ノブユキ
第10著者 所属(和/英) 日大大学 (略称: 日大)
Nihon University (略称: Nihon Univ.)
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講演者 第1著者 
発表日時 2015-06-19 13:30:00 
発表時間 25分 
申込先研究会 CPM 
資料番号 EMD2015-12, CPM2015-22, OME2015-25 
巻番号(vol) vol.115 
号番号(no) no.103(EMD), no.104(CPM), no.105(OME) 
ページ範囲 pp.5-9 
ページ数
発行日 2015-06-12 (EMD, CPM, OME) 


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