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講演抄録/キーワード
講演名 2015-06-19 13:05
YAlO3(001)基板表面処理条件の違いによるCr2O3薄膜の結晶成長
橋本浩佑隅田貴士林 佑太郎福井慎二郎永田知子山本 寛岩田展幸日大EMD2015-11 CPM2015-21 OME2015-24 エレソ技報アーカイブへのリンク:EMD2015-11 CPM2015-21 OME2015-24
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文献情報 信学技報, vol. 115, no. 104, CPM2015-21, pp. 1-4, 2015年6月.
資料番号 CPM2015-21 
発行日 2015-06-12 (EMD, CPM, OME) 
ISSN Print edition: ISSN 0913-5685  Online edition: ISSN 2432-6380
著作権に
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研究会情報
研究会 EMD CPM OME  
開催期間 2015-06-19 - 2015-06-19 
開催地(和) 機械振興会館 
開催地(英) Kikai-Shinko-Kaikan Bldg. 
テーマ(和) 材料デバイスサマーミーティング 
テーマ(英)  
講演論文情報の詳細
申込み研究会 CPM 
会議コード 2015-06-EMD-CPM-OME 
本文の言語 日本語 
タイトル(和) YAlO3(001)基板表面処理条件の違いによるCr2O3薄膜の結晶成長 
サブタイトル(和)  
タイトル(英) Crystal Growth of Cr2O3 Thin Films on Surface Treated YAlO3(001) Substrate with Different Condition 
サブタイトル(英)  
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第1著者 氏名(和/英/ヨミ) 橋本 浩佑 / Kosuke Hashimoto / ハシモト コウスケ
第1著者 所属(和/英) 日本大学 (略称: 日大)
Nihon University (略称: Nihon Univ)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) 隅田 貴士 / Takashi Sumida / スミダ タカシ
第2著者 所属(和/英) 日本大学 (略称: 日大)
Nihon University (略称: Nihon Univ)
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) 林 佑太郎 / Yutaro Hayashi / ハヤシ ユウタロウ
第3著者 所属(和/英) 日本大学 (略称: 日大)
Nihon University (略称: Nihon Univ)
第4著者 氏名(和/英/ヨミ) 福井 慎二郎 / Shinjirou Fukui / フクイ シンジロウ
第4著者 所属(和/英) 日本大学 (略称: 日大)
Nihon University (略称: Nihon Univ)
第5著者 氏名(和/英/ヨミ) 永田 知子 / Tomoko Nagata / ナガタ トモコ
第5著者 所属(和/英) 日本大学 (略称: 日大)
Nihon University (略称: Nihon Univ)
第6著者 氏名(和/英/ヨミ) 山本 寛 / Hiroshi Yamamoto / ヤマモト ヒロシ
第6著者 所属(和/英) 日本大学 (略称: 日大)
Nihon University (略称: Nihon Univ)
第7著者 氏名(和/英/ヨミ) 岩田 展幸 / Nobuyuki Iwata / イワタ ノブユキ
第7著者 所属(和/英) 日本大学 (略称: 日大)
Nihon University (略称: Nihon Univ)
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講演者
発表日時 2015-06-19 13:05:00 
発表時間 25 
申込先研究会 CPM 
資料番号 IEICE-EMD2015-11,IEICE-CPM2015-21,IEICE-OME2015-24 
巻番号(vol) IEICE-115 
号番号(no) no.103(EMD), no.104(CPM), no.105(OME) 
ページ範囲 pp.1-4 
ページ数 IEICE-4 
発行日 IEICE-EMD-2015-06-12,IEICE-CPM-2015-06-12,IEICE-OME-2015-06-12 


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