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講演抄録/キーワード
講演名 2015-05-28 17:55
サファイア基板上におけるCo/Pt/r面配向Cr2O3積層膜の成膜条件最適化
隅田貴士橋本浩佑福井慎二郎永田知子山本 寛・○岩田展幸日大ED2015-26 CPM2015-11 SDM2015-28 エレソ技報アーカイブへのリンク:ED2015-26 CPM2015-11 SDM2015-28
抄録 (和) r面配向[Pt/Co]3/Pt/Cr2O3積層膜をDC-RFマグネトロンスパッタ法により作製し、結晶構造解析及び磁気特性の解析を行った。表面像より、1軸異方性の強いグレインが成長していることがわかった。2θ-θ patternより基板ピークの低角側にr面配向のCr2O3薄膜のピークを確認した。格子定数は0.363nmとなりバルク値と一致していた。面内方向および面直方向での磁場-磁化曲線および磁化-温度曲線を測定した。低温時、ゼロ点を中心としたヒステリシスループを示す磁場-磁化曲線を観測した。面内測定では5K時2×10-6OeのHEBのずれを確認した。200Kより高温側ではヒステリシスループは消失し、超常時性的性質を示していた。300K時、Coのイオン1個あたり面内では0.4μB、面直では0.8μBとなり、バルクの値1.7μBを下回った。 
(英) We report the crystal structures and magnetic properties of [Pt/Co]3/Pt/r-Cr2O3 multilayers fabricated by DC-RF magnetron sputtering method. The grown grains showed elongated shapes. The orientation and lattice parameter of Cr2O3 film were investigated from x-ray diffraction experiments. The lattice parameter was 0.363 nm, which was in agreement with that of the bulk. The magnetic property of the multilayer was investigated from magnetic field (H) and temperature (T) dependences of the in-plane and out-of-plane magnetizations (M). The hysteresis character was observed in M-H curve below 200K. The exchange bias 2×10-6Oe was observed in the negative direction at 5K. At higher than 200K the coercively became much smaller indicating the superparamagnetic property. The magnetic moments of in-plane and out-of-plane were 0.4μB and 0.8μB respectively per a cobalt ion at 300K. These values are lower than that of bulk, 1.7μB.
キーワード (和) 電気磁気効果 / Cr2O3 / 薄膜 / / / / /  
(英) Magnetelectric Effect / Cr2O3 / Film / / / / /  
文献情報 信学技報, vol. 115, no. 64, CPM2015-11, pp. 51-56, 2015年5月.
資料番号 CPM2015-11 
発行日 2015-05-21 (ED, CPM, SDM) 
ISSN Print edition: ISSN 0913-5685  Online edition: ISSN 2432-6380
著作権に
ついて
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034)
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研究会情報
研究会 ED CPM SDM  
開催期間 2015-05-28 - 2015-05-29 
開催地(和) 豊橋技科大VBL棟 
開催地(英) Venture Business Laboratory, Toyohashi University of Technology 
テーマ(和) 結晶成長、評価及びデバイス(化合物、Si、SiGe、電子・光材料) 
テーマ(英) crystal growth、devices characterization , etc. 
講演論文情報の詳細
申込み研究会 CPM 
会議コード 2015-05-ED-CPM-SDM 
本文の言語 日本語 
タイトル(和) サファイア基板上におけるCo/Pt/r面配向Cr2O3積層膜の成膜条件最適化 
サブタイトル(和)  
タイトル(英) Optimization of Growth Condition in Co/Pt/r-oriented Cr2O3 Multilayer on Sapphire Substrates 
サブタイトル(英)  
キーワード(1)(和/英) 電気磁気効果 / Magnetelectric Effect  
キーワード(2)(和/英) Cr2O3 / Cr2O3  
キーワード(3)(和/英) 薄膜 / Film  
キーワード(4)(和/英) /  
キーワード(5)(和/英) /  
キーワード(6)(和/英) /  
キーワード(7)(和/英) /  
キーワード(8)(和/英) /  
第1著者 氏名(和/英/ヨミ) 隅田 貴士 / Takashi Sumida / スミダ タカシ
第1著者 所属(和/英) 日本大学 (略称: 日大)
Nihon University (略称: Nihon Univ.)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) 橋本 浩佑 / Kosuke Hashimoto / ハシモト コウスケ
第2著者 所属(和/英) 日本大学 (略称: 日大)
Nihon University (略称: Nihon Univ.)
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) 福井 慎二郎 / Shinjiro Fukui / フクイ シンジロウ
第3著者 所属(和/英) 日本大学 (略称: 日大)
Nihon University (略称: Nihon Univ.)
第4著者 氏名(和/英/ヨミ) 永田 知子 / Tomoko Nagata / ナガタ トモコ
第4著者 所属(和/英) 日本大学 (略称: 日大)
Nihon University (略称: Nihon Univ.)
第5著者 氏名(和/英/ヨミ) 山本 寛 / Hiroshi Yamamoto / ヤマモト ヒロシ
第5著者 所属(和/英) 日本大学 (略称: 日大)
Nihon University (略称: Nihon Univ.)
第6著者 氏名(和/英/ヨミ) 岩田 展幸 / Nobuyuki Iwata / イワタ ノブユキ
第6著者 所属(和/英) 日本大学 (略称: 日大)
Nihon University (略称: Nihon Univ.)
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講演者
発表日時 2015-05-28 17:55:00 
発表時間 25 
申込先研究会 CPM 
資料番号 IEICE-ED2015-26,IEICE-CPM2015-11,IEICE-SDM2015-28 
巻番号(vol) IEICE-115 
号番号(no) no.63(ED), no.64(CPM), no.65(SDM) 
ページ範囲 pp.51-56 
ページ数 IEICE-6 
発行日 IEICE-ED-2015-05-21,IEICE-CPM-2015-05-21,IEICE-SDM-2015-05-21 


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