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講演抄録/キーワード
講演名 2015-05-28 13:25
マイクロ波表面波プラズマCVDによる多数層グラフェン合成と紫外光カットによる高品質化
市村 進内田秀雄脇田紘一中部大)・林 靖彦岡山大)・梅野正義中部大ED2015-17 CPM2015-2 SDM2015-19 エレソ技報アーカイブへのリンク:ED2015-17 CPM2015-2 SDM2015-19
抄録 (和) 本研究に置いては,グラフェンをバイオセンサ、生体適合材料として応用する事を主眼に置き研究を進めた。信頼性の観点、電気伝導性の観点から多数層グラフェンが望まれた。一方で、グラフェン特有の透過率も重視すべき項目で、本研究においての最終目標を透過率80%以上、シート抵抗200Ω/□以下と設定した。グラフェンの形成においては、一般的に用いられる熱CVD法とマイクロ波表面波プラズマCVD法の双方で研究を進めた。
マイクロ波表面波プラズマCVD法による多数層グラフェン合成において、高品質化には幾つかの課題が存在した。本研究においては合成中に生成する欠陥に注目した。因子として、紫外光、カーボンソース、キャリアガス、荷電粒子衝突、成長基板の表面状態、エッチングガス、基板温度および成長後の熱処理などを検討した。本研究では最も悪影響を及ぼす因子が、紫外光である事が判明した。 
(英) This study is aimed at applying the graphene as biosensor and biomaterials.From the viewpoint of reliability and electrical conductivity, the multi layer graphene is preferred.On the other hand, the transmittance of graphene is an item to be emphasized.In this study, the transmittance T>80% and the sheet resistance Rs<200Ω / □ is defined as the target value.In the formation of graphene, we were conducting research in both thermal CVD method which is generally used and Microwave Surface Wave Plasma CVD method.Several problems arise when the multi layer graphene synthesized by Microwave Surface Wave Plasma CVD method.In this study, we focused on the defect to be generated during the synthesis. We have examined the following factors, ultraviolet light, carbon source, a carrier gas, the charged particle bombardment, the surface state of the growth substrate, etching gas, substrate temperature and heat treatment after growth.In the present study, it has been confirmed that the most adversely affect factor is ultraviolet light.
キーワード (和) グラフェン / マイクロ波表面波プラズマCVD / 紫外線 / バイオセンサ / 生体適合材料 / / /  
(英) Graphene / Microwave Surface Wave Plasma CVD / Ultraviolet light / Biosensor / Biomaterials / / /  
文献情報 信学技報, vol. 115, no. 64, CPM2015-2, pp. 5-10, 2015年5月.
資料番号 CPM2015-2 
発行日 2015-05-21 (ED, CPM, SDM) 
ISSN Print edition: ISSN 0913-5685  Online edition: ISSN 2432-6380
著作権に
ついて
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034)
PDFダウンロード ED2015-17 CPM2015-2 SDM2015-19 エレソ技報アーカイブへのリンク:ED2015-17 CPM2015-2 SDM2015-19

研究会情報
研究会 ED CPM SDM  
開催期間 2015-05-28 - 2015-05-29 
開催地(和) 豊橋技科大VBL棟 
開催地(英) Venture Business Laboratory, Toyohashi University of Technology 
テーマ(和) 結晶成長、評価及びデバイス(化合物、Si、SiGe、電子・光材料) 
テーマ(英) crystal growth、devices characterization , etc. 
講演論文情報の詳細
申込み研究会 CPM 
会議コード 2015-05-ED-CPM-SDM 
本文の言語 日本語 
タイトル(和) マイクロ波表面波プラズマCVDによる多数層グラフェン合成と紫外光カットによる高品質化 
サブタイトル(和)  
タイトル(英) Multilayer layer graphene synthesis by Microwave Surface Wave Plasma CVD, and high quality according to ultraviolet light shading 
サブタイトル(英)  
キーワード(1)(和/英) グラフェン / Graphene  
キーワード(2)(和/英) マイクロ波表面波プラズマCVD / Microwave Surface Wave Plasma CVD  
キーワード(3)(和/英) 紫外線 / Ultraviolet light  
キーワード(4)(和/英) バイオセンサ / Biosensor  
キーワード(5)(和/英) 生体適合材料 / Biomaterials  
キーワード(6)(和/英) /  
キーワード(7)(和/英) /  
キーワード(8)(和/英) /  
第1著者 氏名(和/英/ヨミ) 市村 進 / Susumu Ichimura / イチムラ ススム
第1著者 所属(和/英) 中部大学 (略称: 中部大)
Chubu University (略称: Chubu Univ.)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) 内田 秀雄 / Hideo Uchida / ウチダ ヒデオ
第2著者 所属(和/英) 中部大学 (略称: 中部大)
Chubu University (略称: Chubu Univ.)
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) 脇田 紘一 / Koichi Wakita / ワキタ コウイチ
第3著者 所属(和/英) 中部大学 (略称: 中部大)
Chubu University (略称: Chubu Univ.)
第4著者 氏名(和/英/ヨミ) 林 靖彦 / Yasuhiko Hayashi / ハヤシ ヤスヒコ
第4著者 所属(和/英) 岡山大学 (略称: 岡山大)
Okayama University (略称: Okayama Univ.)
第5著者 氏名(和/英/ヨミ) 梅野 正義 / Masayoshi Umeno / ウメノ マサヨシ
第5著者 所属(和/英) 中部大学 (略称: 中部大)
Chubu University (略称: Chubu Univ.)
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講演者
発表日時 2015-05-28 13:25:00 
発表時間 25 
申込先研究会 CPM 
資料番号 IEICE-ED2015-17,IEICE-CPM2015-2,IEICE-SDM2015-19 
巻番号(vol) IEICE-115 
号番号(no) no.63(ED), no.64(CPM), no.65(SDM) 
ページ範囲 pp.5-10 
ページ数 IEICE-6 
発行日 IEICE-ED-2015-05-21,IEICE-CPM-2015-05-21,IEICE-SDM-2015-05-21 


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