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講演抄録/キーワード
講演名 2015-04-30 13:50
レーザーアニールによる低抵抗結晶化Si薄膜
野口 隆岡田竜弥琉球大SDM2015-15 OME2015-15 エレソ技報アーカイブへのリンク:SDM2015-15 OME2015-15
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文献情報 信学技報, vol. 115, no. 18, SDM2015-15, pp. 57-61, 2015年4月.
資料番号 SDM2015-15 
発行日 2015-04-22 (SDM, OME) 
ISSN Print edition: ISSN 0913-5685  Online edition: ISSN 2432-6380
著作権に
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研究会情報
研究会 OME SDM  
開催期間 2015-04-29 - 2015-04-30 
開催地(和) 大濱信泉記念館多目的ホール 
開催地(英) Oh-hama Nobumoto Memorial Hall 
テーマ(和) 薄膜(Si,化合物,有機,フレキシブル)機能デバイス・材料・評価技術、バイオテクノロジー、および一般 
テーマ(英) Thin FIlms, Functional Electronics Devices, New Functional Materials and Evaluation, BIomtechnology 
講演論文情報の詳細
申込み研究会 SDM 
会議コード 2015-04-OME-SDM 
本文の言語 日本語 
タイトル(和) レーザーアニールによる低抵抗結晶化Si薄膜 
サブタイトル(和)  
タイトル(英) Low Resistivity of poly-Si films by LA Laser Annealing 
サブタイトル(英)  
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第1著者 氏名(和/英/ヨミ) 野口 隆 / Takashi Noguchi / ノグチ タカシ
第1著者 所属(和/英) 琉球大学 (略称: 琉球大)
Univeristy of the Ryukyus (略称: Univ. Ryukyus)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) 岡田 竜弥 / Tatsuya Okada / オカダ タツヤ
第2著者 所属(和/英) 琉球大学 (略称: 琉球大)
Univeristy of the Ryukyus (略称: Univ. Ryukyus)
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講演者
発表日時 2015-04-30 13:50:00 
発表時間 25 
申込先研究会 SDM 
資料番号 IEICE-SDM2015-15,IEICE-OME2015-15 
巻番号(vol) IEICE-115 
号番号(no) no.18(SDM), no.19(OME) 
ページ範囲 pp.57-61 
ページ数 IEICE-5 
発行日 IEICE-SDM-2015-04-22,IEICE-OME-2015-04-22 


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