講演抄録/キーワード |
講演名 |
2015-04-29 16:25
[招待講演]クラスタ除去によるa-Si太陽電池の光劣化抑制 ○白谷正治・都甲 将・鳥越祥宏・毛屋公孝・古閑一憲(九大) SDM2015-7 OME2015-7 エレソ技報アーカイブへのリンク:SDM2015-7 OME2015-7 |
抄録 |
(和) |
本研究では,水素化アモルファスシリコン(a-Si:H)薄膜太陽電池の最重要課題である光劣化に対す るシランプラズマ中 a-Si:H ナノ粒子(クラスタ)の膜への取り込みの影響について放電開始直後に焦点を絞り調べ た.放電初期の膜中クラスタ取り込み量は,定常状態の膜中クラスタ量よりも 15 倍多いことが分かった.a-Si:H 膜 の光安定性に対する製膜初期の膜中クラスタ混入の影響をショットキーセルを用いて評価した.放電初期のクラス タ取り込みがないセルの光劣化率は1%未満となり極めて高い光安定性を示した. |
(英) |
We studied effects of incorporation of hydrogenated amorphous silicon (a-Si:H) nanoparticles (clusters) generated in the initial discharge phase on light induced degradation of a-Si:H films. The amount of clusters incorporated into the films in the initial discharge phase is 15 times larger than that in the steady state. To evaluate the effects of such initial cluster incorporation on stability of a-Si:H films, we fabricated a-Si:H Schottky cells with and without initial cluster incorporation. The cells without initial cluster incorporation shows quite high stability less than 1% degradation. |
キーワード |
(和) |
水素化アモルファスシリコン / 光劣化 / クラスタ / プラズマ化学気相成長 / / / / |
(英) |
A-Si:H / Light-induced degradation / Cluster / Plasma CVD / / / / |
文献情報 |
信学技報, vol. 115, no. 19, OME2015-7, pp. 25-30, 2015年4月. |
資料番号 |
OME2015-7 |
発行日 |
2015-04-22 (SDM, OME) |
ISSN |
Print edition: ISSN 0913-5685 Online edition: ISSN 2432-6380 |
著作権に ついて |
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