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講演抄録/キーワード
講演名 2015-04-29 16:25
[招待講演]クラスタ除去によるa-Si太陽電池の光劣化抑制
白谷正治都甲 将鳥越祥宏毛屋公孝古閑一憲九大SDM2015-7 OME2015-7 エレソ技報アーカイブへのリンク:SDM2015-7 OME2015-7
抄録 (和) 本研究では,水素化アモルファスシリコン(a-Si:H)薄膜太陽電池の最重要課題である光劣化に対す るシランプラズマ中 a-Si:H ナノ粒子(クラスタ)の膜への取り込みの影響について放電開始直後に焦点を絞り調べ た.放電初期の膜中クラスタ取り込み量は,定常状態の膜中クラスタ量よりも 15 倍多いことが分かった.a-Si:H 膜 の光安定性に対する製膜初期の膜中クラスタ混入の影響をショットキーセルを用いて評価した.放電初期のクラス タ取り込みがないセルの光劣化率は1%未満となり極めて高い光安定性を示した. 
(英) We studied effects of incorporation of hydrogenated amorphous silicon (a-Si:H) nanoparticles (clusters) generated in the initial discharge phase on light induced degradation of a-Si:H films. The amount of clusters incorporated into the films in the initial discharge phase is 15 times larger than that in the steady state. To evaluate the effects of such initial cluster incorporation on stability of a-Si:H films, we fabricated a-Si:H Schottky cells with and without initial cluster incorporation. The cells without initial cluster incorporation shows quite high stability less than 1% degradation.
キーワード (和) 水素化アモルファスシリコン / 光劣化 / クラスタ / プラズマ化学気相成長 / / / /  
(英) A-Si:H / Light-induced degradation / Cluster / Plasma CVD / / / /  
文献情報 信学技報, vol. 115, no. 19, OME2015-7, pp. 25-30, 2015年4月.
資料番号 OME2015-7 
発行日 2015-04-22 (SDM, OME) 
ISSN Print edition: ISSN 0913-5685    Online edition: ISSN 2432-6380
著作権に
ついて
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034)
PDFダウンロード SDM2015-7 OME2015-7 エレソ技報アーカイブへのリンク:SDM2015-7 OME2015-7

研究会情報
研究会 OME SDM  
開催期間 2015-04-29 - 2015-04-30 
開催地(和) 大濱信泉記念館多目的ホール 
開催地(英) Oh-hama Nobumoto Memorial Hall 
テーマ(和) 薄膜(Si,化合物,有機,フレキシブル)機能デバイス・材料・評価技術、バイオテクノロジー、および一般 
テーマ(英) Thin FIlms, Functional Electronics Devices, New Functional Materials and Evaluation, BIomtechnology 
講演論文情報の詳細
申込み研究会 OME 
会議コード 2015-04-OME-SDM 
本文の言語 日本語 
タイトル(和) クラスタ除去によるa-Si太陽電池の光劣化抑制 
サブタイトル(和)  
タイトル(英) Suppression of light induced degradation of a-Si solar cells by eliminating clusters 
サブタイトル(英)  
キーワード(1)(和/英) 水素化アモルファスシリコン / A-Si:H  
キーワード(2)(和/英) 光劣化 / Light-induced degradation  
キーワード(3)(和/英) クラスタ / Cluster  
キーワード(4)(和/英) プラズマ化学気相成長 / Plasma CVD  
キーワード(5)(和/英) /  
キーワード(6)(和/英) /  
キーワード(7)(和/英) /  
キーワード(8)(和/英) /  
第1著者 氏名(和/英/ヨミ) 白谷 正治 / Masaharu Shiratani / シラタニ マサハル
第1著者 所属(和/英) 九州大学 (略称: 九大)
Kyushu University (略称: Kyushu Univ.)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) 都甲 将 / Susumu Toko / トコウ ススム
第2著者 所属(和/英) 九州大学 (略称: 九大)
Kyushu University (略称: Kyushu Univ.)
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) 鳥越 祥宏 / Yoshihiro Torigoe / トリゴエ ヨシヒロ
第3著者 所属(和/英) 九州大学 (略称: 九大)
Kyushu University (略称: Kyushu Univ.)
第4著者 氏名(和/英/ヨミ) 毛屋 公孝 / Kimitaka Keya / ケヤ キミタカ
第4著者 所属(和/英) 九州大学 (略称: 九大)
Kyushu University (略称: Kyushu Univ.)
第5著者 氏名(和/英/ヨミ) 古閑 一憲 / Kazunori Koga / コガ カズノリ
第5著者 所属(和/英) 九州大学 (略称: 九大)
Kyushu University (略称: Kyushu Univ.)
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講演者 第1著者 
発表日時 2015-04-29 16:25:00 
発表時間 40分 
申込先研究会 OME 
資料番号 SDM2015-7, OME2015-7 
巻番号(vol) vol.115 
号番号(no) no.18(SDM), no.19(OME) 
ページ範囲 pp.25-30 
ページ数
発行日 2015-04-22 (SDM, OME) 


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