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| 講演名 | 2015-03-02 13:25 側壁プロセス配線におけるカットパターン削減手法 ○高橋紀之・井原岳志・高橋篤司（東工大）  VLD2014-154 |
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| 抄録 | （和） | 側壁プロセスによるダブルパターニング(SADP)によって実現可能な配線パターンを， 効率よく生成するために，二色配線グリッドを用いて配線を生成する手法が提案されている． また，SADPのためのパターンマスクにカットパターンを用いると， トリムマスクが不要となるが，多くのカットパターンを用いると ウェハ上に実現されるパターンの信頼性が低下する可能性が高い． 本研究では，SADPのためのパターンマスクで必要となるカットパターン数が少ない配線を生成する SADPのための二色配線グリッドを用いた配線手法を提案する． |
| （英） | In Self-Aligned Double Patterning (SADP), a routing method that generates a SADP friendly routing pattern efficiently by using two-color base grid was proposed. A routing pattern can be realized without trim mask if a special pattern called cut-pattern is used in a pattern mask of SADP. However the reliability of a wafer image is expected to be reduced if the number of cut-patterns used increases. In this paper, we propose a routing method that realizes a routing pattern with less cut-patterns by using two-color base grid. |
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| キーワード | （和） | SADP / 2色グリッド / マスク / カットパターン / / / / |
| （英） | SADP / Two-color base grid / Mask / Cut-Pattern / / / / | |
| 文献情報 | 信学技報, vol. 114, no. 476, VLD2014-154, pp. 7-12, 2015年3月. | |
| 資料番号 | VLD2014-154 | |
| 発行日 | 2015-02-23 (VLD) | |
| ISSN | Print edition: ISSN 0913-5685 Online edition: ISSN 2432-6380 | |
| 著作権に ついて |
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します．(許諾番号：10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034) | |
| PDFダウンロード | VLD2014-154 |
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| 研究会情報 | |
| 研究会 | VLD |
| 開催期間 | 2015-03-02 - 2015-03-04 |
| 開催地（和） | 沖縄県青年会館 |
| 開催地（英） | Okinawa Seinen Kaikan |
| テーマ（和） | システムオンシリコンを支える設計技術 |
| テーマ（英） | |
| 講演論文情報の詳細 | |
| 申込み研究会 | VLD |
| 会議コード | 2015-03-VLD |
| 本文の言語 | 日本語 |
| タイトル（和） | 側壁プロセス配線におけるカットパターン削減手法 |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | A cut-pattern reduction method for routing in Self-Aligned Double Patterning |
| サブタイトル（英） | |
| キーワード(1)（和/英） | SADP / SADP |
| キーワード(2)（和/英） | 2色グリッド / Two-color base grid |
| キーワード(3)（和/英） | マスク / Mask |
| キーワード(4)（和/英） | カットパターン / Cut-Pattern |
| キーワード(5)（和/英） | / |
| キーワード(6)（和/英） | / |
| キーワード(7)（和/英） | / |
| キーワード(8)（和/英） | / |
| 第1著者 氏名（和/英/ヨミ） | 高橋 紀之 / Noriyuki Takahashi / タカハシ ノリユキ |
| 第1著者 所属（和/英） | 東京工業大学 (略称： 東工大) Tokyo Institute of Technology (略称： Tokyo Tech) |
| 第2著者 氏名（和/英/ヨミ） | 井原 岳志 / Takeshi Ihara / イハラ タケシ |
| 第2著者 所属（和/英） | 東京工業大学 (略称： 東工大) Tokyo Institute of Technology (略称： Tokyo Tech) |
| 第3著者 氏名（和/英/ヨミ） | 高橋 篤司 / Atsushi Takahashi / タカハシ アツシ |
| 第3著者 所属（和/英） | 東京工業大学 (略称： 東工大) Tokyo Institute of Technology (略称： Tokyo Tech) |
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| 講演者 | 第1著者 |
| 発表日時 | 2015-03-02 13:25:00 |
| 発表時間 | 25分 |
| 申込先研究会 | VLD |
| 資料番号 | VLD2014-154 |
| 巻番号（vol） | vol.114 |
| 号番号（no） | no.476 |
| ページ範囲 | pp.7-12 |
| ページ数 | 6 |
| 発行日 | 2015-02-23 (VLD) |
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