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講演抄録/キーワード
講演名 2014-12-12 10:30
B+およびB10H14+注入Si基板の軟X線照射による活性化
部家 彰草壁 史平野翔大松尾直人神田一浩兵庫県立大EID2014-15 SDM2014-110 エレソ技報アーカイブへのリンク:EID2014-15 SDM2014-110
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文献情報 信学技報, vol. 114, no. 360, SDM2014-110, pp. 13-16, 2014年12月.
資料番号 SDM2014-110 
発行日 2014-12-05 (EID, SDM) 
ISSN Print edition: ISSN 0913-5685    Online edition: ISSN 2432-6380
著作権に
ついて
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034)
PDFダウンロード EID2014-15 SDM2014-110 エレソ技報アーカイブへのリンク:EID2014-15 SDM2014-110

研究会情報
研究会 SDM EID  
開催期間 2014-12-12 - 2014-12-12 
開催地(和) 京都大学 
開催地(英) Kyoto University 
テーマ(和) シリコン関連材料の作製と評価、およびディスプレイ技術 
テーマ(英) Si and Si-related Materials and Devices, Display Technology 
講演論文情報の詳細
申込み研究会 SDM 
会議コード 2014-12-SDM-EID 
本文の言語 日本語 
タイトル(和) B+およびB10H14+注入Si基板の軟X線照射による活性化 
サブタイトル(和)  
タイトル(英) Activation of B+ or B10H14+ Implanted Silicon by Soft X-ray Irradiation 
サブタイトル(英)  
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第1著者 氏名(和/英/ヨミ) 部家 彰 / Akira Heya / ヘヤ アキラ
第1著者 所属(和/英) 兵庫県立大学 (略称: 兵庫県立大)
University of Hyogo (略称: Univ. of Hyogo)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) 草壁 史 / Fumito Kusakabe / クサカベ フミト
第2著者 所属(和/英) 兵庫県立大学 (略称: 兵庫県立大)
University of Hyogo (略称: Univ. of Hyogo)
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) 平野 翔大 / Shota Hirano / ヒラノ ショウタ
第3著者 所属(和/英) 兵庫県立大学 (略称: 兵庫県立大)
University of Hyogo (略称: Univ. of Hyogo)
第4著者 氏名(和/英/ヨミ) 松尾 直人 / Naoto Matsuo / マツオ ナオト
第4著者 所属(和/英) 兵庫県立大学 (略称: 兵庫県立大)
University of Hyogo (略称: Univ. of Hyogo)
第5著者 氏名(和/英/ヨミ) 神田 一浩 / Kazuhiro Kanda / カンダ カズヒロ
第5著者 所属(和/英) 兵庫県立大学 (略称: 兵庫県立大)
University of Hyogo (略称: Univ. of Hyogo)
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講演者 第1著者 
発表日時 2014-12-12 10:30:00 
発表時間 15分 
申込先研究会 SDM 
資料番号 EID2014-15, SDM2014-110 
巻番号(vol) vol.114 
号番号(no) no.359(EID), no.360(SDM) 
ページ範囲 pp.13-16 
ページ数
発行日 2014-12-05 (EID, SDM) 


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