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講演抄録/キーワード
講演名 2014-11-27 14:55
ウエットエッチングによるサファイア表面加工基板(PSS)を用いた深紫外LED用高品質AlNテンプレートの作製
金沢裕也豊田史朗大島一晟埼玉大/理研)・鎌田憲彦埼玉大)・鹿嶋行雄松浦恵里子丸文)・嶋谷 聡東京応化)・小久保光典田代貴晴東芝機械)・大川貴史上村隆一郎長田大和アルバック)・平山秀樹理研ED2014-81 CPM2014-138 LQE2014-109 エレソ技報アーカイブへのリンク:ED2014-81 CPM2014-138 LQE2014-109
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文献情報 信学技報, vol. 114, no. 338, LQE2014-109, pp. 39-44, 2014年11月.
資料番号 LQE2014-109 
発行日 2014-11-20 (ED, CPM, LQE) 
ISSN Print edition: ISSN 0913-5685    Online edition: ISSN 2432-6380
著作権に
ついて
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034)
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研究会情報
研究会 LQE ED CPM  
開催期間 2014-11-27 - 2014-11-28 
開催地(和) 大阪大学 吹田キャンパス 理工学図書館 
開催地(英)  
テーマ(和) 窒化物半導体光・電子デバイス、材料、関連技術、及び一般 
テーマ(英)  
講演論文情報の詳細
申込み研究会 LQE 
会議コード 2014-11-LQE-ED-CPM 
本文の言語 日本語 
タイトル(和) ウエットエッチングによるサファイア表面加工基板(PSS)を用いた深紫外LED用高品質AlNテンプレートの作製 
サブタイトル(和)  
タイトル(英) Fabrication of high-quality AlN buffer layer for deep-UV LEDs grown on wet chemical etched patterned sapphire substrate 
サブタイトル(英)  
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第1著者 氏名(和/英/ヨミ) 金沢 裕也 / Yuya Kanazawa / カナザワ ユウヤ
第1著者 所属(和/英) 埼玉大学/理化学研究所 (略称: 埼玉大/理研)
Saitama University/RIKEN (略称: Saitama Univ./RIKEN)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) 豊田 史朗 / Shiro Toyoda / トヨダ シロウ
第2著者 所属(和/英) 埼玉大学/理化学研究所 (略称: 埼玉大/理研)
Saitama University/RIKEN (略称: Saitama Univ./RIKEN)
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) 大島 一晟 / Issei Ohshima / オオシマ イッセイ
第3著者 所属(和/英) 埼玉大学/理化学研究所 (略称: 埼玉大/理研)
Saitama University/RIKEN (略称: Saitama Univ./RIKEN)
第4著者 氏名(和/英/ヨミ) 鎌田 憲彦 / Norihiko Kamata / カマタ ノリヒコ
第4著者 所属(和/英) 埼玉大学 (略称: 埼玉大)
Saitama University (略称: Saitama Univ.)
第5著者 氏名(和/英/ヨミ) 鹿嶋 行雄 / Yukio Kashima / カシマ ユキオ
第5著者 所属(和/英) 丸文株式会社 (略称: 丸文)
Marubun Corporaiton (略称: Marubun)
第6著者 氏名(和/英/ヨミ) 松浦 恵里子 / Eriko Matsuura / マツウラ エリコ
第6著者 所属(和/英) 丸文株式会社 (略称: 丸文)
MARUBUN CORPORATION (略称: MARUBUN)
第7著者 氏名(和/英/ヨミ) 嶋谷 聡 / Satoshi Shimatani / シマタニ サトシ
第7著者 所属(和/英) 東京応化工業株式会社 (略称: 東京応化)
TOKYO OHKA KOGYO (略称: TOK)
第8著者 氏名(和/英/ヨミ) 小久保 光典 / Mitsunori Kokubo / コクボ ミツノリ
第8著者 所属(和/英) 東芝機械株式会社 (略称: 東芝機械)
TOSHIBA MACHINE (略称: TOSHIBA MACHINE)
第9著者 氏名(和/英/ヨミ) 田代 貴晴 / Takaharu Tashiro / タシロ タカハル
第9著者 所属(和/英) 東芝機械株式会社 (略称: 東芝機械)
TOSHIBA MACHINE (略称: TOSHIBA MACHINE)
第10著者 氏名(和/英/ヨミ) 大川 貴史 / Takashi Ohkawa / オオカワ タカシ
第10著者 所属(和/英) アルバック株式会社 (略称: アルバック)
ULVAC (略称: ULVAC)
第11著者 氏名(和/英/ヨミ) 上村 隆一郎 / Ryuichiro Kamimura / カミムラ リュウイチロウ
第11著者 所属(和/英) アルバック株式会社 (略称: アルバック)
ULVAC (略称: ULVAC)
第12著者 氏名(和/英/ヨミ) 長田 大和 / Yamato Osada / オサダ ヤマト
第12著者 所属(和/英) アルバック株式会社 (略称: アルバック)
ULVAC (略称: ULVAC)
第13著者 氏名(和/英/ヨミ) 平山 秀樹 / Hideki Hirayama / ヒラヤマ ヒデキ
第13著者 所属(和/英) 理化学研究所 (略称: 理研)
RIKEN (略称: RIKEN)
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第20著者 所属(和/英) (略称: )
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講演者 第1著者 
発表日時 2014-11-27 14:55:00 
発表時間 25分 
申込先研究会 LQE 
資料番号 ED2014-81, CPM2014-138, LQE2014-109 
巻番号(vol) vol.114 
号番号(no) no.336(ED), no.337(CPM), no.338(LQE) 
ページ範囲 pp.39-44 
ページ数
発行日 2014-11-20 (ED, CPM, LQE) 


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