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| 講演抄録／キーワード | ||
| 講演名 | 2014-11-27 14:30 ナノインプリントリソグラフィを用いたナノチャネルFIELO法により作製されたGaNテンプレートの2次元歪みマッピング ○南部優賢・山口敦史（金沢工大）・後藤裕輝・砂川晴夫・松枝敏晴（古河機械金属）・岡田愛姫子（早大）・篠原秀敏・後藤博史（東芝機械）・水野 潤（早大）・碓井 彰（古河機械金属）  ED2014-80 CPM2014-137 LQE2014-108 エレソ技報アーカイブへのリンク：ED2014-80 CPM2014-137 LQE2014-108 |
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| 抄録 | （和） | 白色LEDにおいて大電流領域で効率が低下する現象（Droop現象）を抑制する１つの手法として，下地のGaN膜（基板）の高品質化が提案されている．このような高品質GaN膜を低コストに実現する方法として，ナノチャネルファセット形成ELO（nano-FIELO）法が開発されている．本研究では，このnano-FIELO GaN膜の品質評価の１つとして，極低温顕微反射分光法を用いて，歪みの2次元マッピング測定を行った．この方法では，反射スペクトルから得られる励起子エネルギーが歪みに対して敏感にシフトすることを利用して，0.01%程度の微小歪みまでミクロンスケールの空間分解能で測定することが可能である．この歪みマッピングにより，nano-FIELO GaN膜ではミクロンスケールの歪み空間分布が生じ得ることがわかった．そして，この歪み分布はファセットの合体に起因しており，選択成長マスクのパターン形状によって抑制可能であることがわかった． |
| （英） | The efficiency droop phenomenon is a big problem for high-brightness white LEDs. It has been pointed out that the problem could be solved by the reduction of threading dislocation density in underlying GaN films (templates or substrates). Nano-channel facet-initiated epitaxial lateral overgrowth (nano-FIELO) technique has been developed as a low-cost fabrication method of such high-quality GaN templates. In this study, we performed two-dimentional strain mapping for the nano-FIELO GaN templates by low-temperature micro-reflectance spectroscopy, which can measure strain spatial distribution with high sensitivity and spatial resolution. It is found that micrometer-scale strain spatial distribution can be generated in nano-FIELO GaN surfaces and that the strain distribution can be reduced by optimizing the pattern structure of SiO2 masks used for the selective growth. | |
| キーワード | （和） | GaN / 歪み / マッピング / 反射スペクトル / ナノインプリントリソグラフィ / 選択成長 / / |
| （英） | GaN / Strain / Mapping / Reflectance spectra / Nanoimprint lithography / Selective growth / / | |
| 文献情報 | 信学技報, vol. 114, no. 338, LQE2014-108, pp. 33-38, 2014年11月. | |
| 資料番号 | LQE2014-108 | |
| 発行日 | 2014-11-20 (ED, CPM, LQE) | |
| ISSN | Print edition: ISSN 0913-5685 Online edition: ISSN 2432-6380 | |
| 著作権に ついて |
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します．(許諾番号：10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034) | |
| PDFダウンロード | ED2014-80 CPM2014-137 LQE2014-108 エレソ技報アーカイブへのリンク：ED2014-80 CPM2014-137 LQE2014-108 |
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| 研究会情報 | |
| 研究会 | LQE ED CPM |
| 開催期間 | 2014-11-27 - 2014-11-28 |
| 開催地（和） | 大阪大学 吹田キャンパス 理工学図書館 |
| 開催地（英） | |
| テーマ（和） | 窒化物半導体光・電子デバイス、材料、関連技術、及び一般 |
| テーマ（英） | |
| 講演論文情報の詳細 | |
| 申込み研究会 | LQE |
| 会議コード | 2014-11-LQE-ED-CPM |
| 本文の言語 | 日本語 |
| タイトル（和） | ナノインプリントリソグラフィを用いたナノチャネルFIELO法により作製されたGaNテンプレートの2次元歪みマッピング |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Two-Dimensional Strain Mapping of GaN Templates Fabricated by Nano-Channel FIELO Method Using Nanoimprint Lithography |
| サブタイトル（英） | |
| キーワード(1)（和/英） | GaN / GaN |
| キーワード(2)（和/英） | 歪み / Strain |
| キーワード(3)（和/英） | マッピング / Mapping |
| キーワード(4)（和/英） | 反射スペクトル / Reflectance spectra |
| キーワード(5)（和/英） | ナノインプリントリソグラフィ / Nanoimprint lithography |
| キーワード(6)（和/英） | 選択成長 / Selective growth |
| キーワード(7)（和/英） | / |
| キーワード(8)（和/英） | / |
| 第1著者 氏名（和/英/ヨミ） | 南部 優賢 / Masanori Nambu / ナンブ マサノリ |
| 第1著者 所属（和/英） | 金沢工業大学 (略称： 金沢工大) Kanazawa Institute of Technology (略称： Kanazawa Inst. of Tech.) |
| 第2著者 氏名（和/英/ヨミ） | 山口 敦史 / Atsushi Yamaguchi / ヤマグチ アツシ |
| 第2著者 所属（和/英） | 金沢工業大学 (略称： 金沢工大) Kanazawa Institute of Technology (略称： Kanazawa Inst. of Tech.) |
| 第3著者 氏名（和/英/ヨミ） | 後藤 裕輝 / Hiroki Goto / ゴトウ ヒロキ |
| 第3著者 所属（和/英） | 古河機械金属株式会社 (略称： 古河機械金属) Furukawa Company Limited (略称： Furukawa Co. Ltd.) |
| 第4著者 氏名（和/英/ヨミ） | 砂川 晴夫 / Haruo Sunakawa / スナカワ ハルオ |
| 第4著者 所属（和/英） | 古河機械金属株式会社 (略称： 古河機械金属) Furukawa Company Limited (略称： Furukawa Co. Ltd.) |
| 第5著者 氏名（和/英/ヨミ） | 松枝 敏晴 / Toshiharu Matsueda / マツエダ トシハル |
| 第5著者 所属（和/英） | 古河機械金属株式会社 (略称： 古河機械金属) Furukawa Company Limited (略称： Furukawa Co. Ltd.) |
| 第6著者 氏名（和/英/ヨミ） | 岡田 愛姫子 / Akiko Okada / オカダ アキコ |
| 第6著者 所属（和/英） | 早稲田大学 (略称： 早大) Waseda University (略称： Waseda Univ.) |
| 第7著者 氏名（和/英/ヨミ） | 篠原 秀敏 / Hidetoshi Shinohara / シノハラ ヒデトシ |
| 第7著者 所属（和/英） | 東芝機械株式会社 (略称： 東芝機械) Toshiba Machine Company Limited (略称： Toshiba Machine Co. Ltd.) |
| 第8著者 氏名（和/英/ヨミ） | 後藤 博史 / Hiroshi Goto / ゴトウ ヒロシ |
| 第8著者 所属（和/英） | 東芝機械株式会社 (略称： 東芝機械) Toshiba Machine Company Limited (略称： Toshiba Machine Co. Ltd.) |
| 第9著者 氏名（和/英/ヨミ） | 水野 潤 / Jun Mizuno / ミズノ ジュン |
| 第9著者 所属（和/英） | 早稲田大学 (略称： 早大) Waseda University (略称： Waseda Univ.) |
| 第10著者 氏名（和/英/ヨミ） | 碓井 彰 / Akira Usui / ウスイ アキラ |
| 第10著者 所属（和/英） | 古河機械金属株式会社 (略称： 古河機械金属) Furukawa Company Limited (略称： Furukawa Co. Ltd.) |
| 第11著者 氏名（和/英/ヨミ） | / / |
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| 講演者 | 第1著者 |
| 発表日時 | 2014-11-27 14:30:00 |
| 発表時間 | 25分 |
| 申込先研究会 | LQE |
| 資料番号 | ED2014-80, CPM2014-137, LQE2014-108 |
| 巻番号（vol） | vol.114 |
| 号番号（no） | no.336(ED), no.337(CPM), no.338(LQE) |
| ページ範囲 | pp.33-38 |
| ページ数 | 6 |
| 発行日 | 2014-11-20 (ED, CPM, LQE) |
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