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講演抄録/キーワード
講演名 2014-10-31 14:15
Otto配置による強磁性金属/誘電体界面へのプラズモンの励起
梅津沙緒里貝原輝則安藤健朗矢後佳貴清水大雅東京農工大OCS2014-78 OPE2014-122 LQE2014-96 エレソ技報アーカイブへのリンク:OPE2014-122 LQE2014-96
抄録 (和) 光アイソレータは半導体レーザへの戻り光を遮断する必要不可欠な素子であり、一体集積化に向けた研究が行われている。我々は強磁性金属/誘電体界面の表面プラズモンの光アイソレータへの応用を検討した。SiO$_{2}$ / Si / SiO$_{2}$からなる導波路の上部にCo / Si / SiO$_{2}$からなるプラズモン光導波路を配置した光導波路において、Siコア層からしみだすエバネセント波がOtto配置にて表面プラズモンに結合する様子と磁化反転時の反射率の変化を全反射減衰法(ATR法)により計算した。Siコア層からCo / Si / SiO$_{2}$層に光を入射したとき、反射率の変化が最大となる導波路構造において1$mu$mの伝搬長で表面プラズモンに移行する様子が時間領域有限差分法(FDTD法)により確認された。 
(英) Optical isolator is an essential component to prevent backward reflected light to laser diode. There are several waveguide optical isolators toward photonic integrated circuits. We have investigated surface plasmon at the interface between ferromagnetic metal / dielectric film and its application to waveguide optical isolators. Evanescent coupling of light from the Si core layer to the surface plasmon at Co / Si / SiO$_{2}$ and the reflectivity change upon magnetization reversal were calculated by ATR method (Otto configuration) on the Co / Si / SiO$_{2}$ / Si / SiO$_{2}$ waveguides. Evanescent coupling with a propagation distance (<1 $mu$m) was calculated by finite difference time domain (FDTD) method on the Co / Si / SiO$_{2}$ / Si / SiO$_{2}$ waveguides showing the largest reflectivity change.
キーワード (和) 光アイソレータ / 表面プラズモン / オットー配置 / 強磁性金属 / 横磁気カー効果 / 全反射減衰法 / /  
(英) Optical isolator / Surface plasmon / Otto confugulation / Ferromagnetic metal / Transverse magneto-optic Kerr effect / Attenuated total reflection method / /  
文献情報 信学技報, vol. 114, no. 282, OPE2014-122, pp. 189-194, 2014年10月.
資料番号 OPE2014-122 
発行日 2014-10-23 (OCS, OPE, LQE) 
ISSN Print edition: ISSN 0913-5685    Online edition: ISSN 2432-6380
著作権に
ついて
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034)
PDFダウンロード OCS2014-78 OPE2014-122 LQE2014-96 エレソ技報アーカイブへのリンク:OPE2014-122 LQE2014-96

研究会情報
研究会 OCS OPE LQE  
開催期間 2014-10-30 - 2014-10-31 
開催地(和) 長崎歴史文化博物館 
開催地(英) Nagasaki Museum of History and Culture 
テーマ(和) 超高速伝送,変復調,分散補償技術,超高速光信号処理技術,広帯域光増幅,WDM技術,受光デバイス,高光出力伝送技術,及び一般 (ECOC報告) 
テーマ(英)  
講演論文情報の詳細
申込み研究会 OPE 
会議コード 2014-10-OCS-OPE-LQE 
本文の言語 日本語 
タイトル(和) Otto配置による強磁性金属/誘電体界面へのプラズモンの励起 
サブタイトル(和)  
タイトル(英) Excitation of plasmon at the interface between ferromagnetic metal/dielectric film by Otto configuration 
サブタイトル(英)  
キーワード(1)(和/英) 光アイソレータ / Optical isolator  
キーワード(2)(和/英) 表面プラズモン / Surface plasmon  
キーワード(3)(和/英) オットー配置 / Otto confugulation  
キーワード(4)(和/英) 強磁性金属 / Ferromagnetic metal  
キーワード(5)(和/英) 横磁気カー効果 / Transverse magneto-optic Kerr effect  
キーワード(6)(和/英) 全反射減衰法 / Attenuated total reflection method  
キーワード(7)(和/英) /  
キーワード(8)(和/英) /  
第1著者 氏名(和/英/ヨミ) 梅津 沙緒里 / Saori Umetsu / ウメツ サオリ
第1著者 所属(和/英) 東京農工大学 (略称: 東京農工大)
Tokyo University of Agriculture and Technology (略称: TUAT)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) 貝原 輝則 / Terunori Kaihara / カイハラ テルノリ
第2著者 所属(和/英) 東京農工大学 (略称: 東京農工大)
Tokyo University of Agriculture and Technology (略称: TUAT)
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) 安藤 健朗 / Takeaki Ando / アンドウ タケアキ
第3著者 所属(和/英) 東京農工大学 (略称: 東京農工大)
Tokyo University of Agriculture and Technology (略称: TUAT)
第4著者 氏名(和/英/ヨミ) 矢後 佳貴 / Yoshiki Yago / ヤゴ ヨシキ
第4著者 所属(和/英) 東京農工大学 (略称: 東京農工大)
Tokyo University of Agriculture and Technology (略称: TUAT)
第5著者 氏名(和/英/ヨミ) 清水 大雅 / Hiromasa Shimizu / シミズ ヒロマサ
第5著者 所属(和/英) 東京農工大学 (略称: 東京農工大)
Tokyo University of Agriculture and Technology (略称: TUAT)
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講演者 第1著者 
発表日時 2014-10-31 14:15:00 
発表時間 25分 
申込先研究会 OPE 
資料番号 OCS2014-78, OPE2014-122, LQE2014-96 
巻番号(vol) vol.114 
号番号(no) no.281(OCS), no.282(OPE), no.283(LQE) 
ページ範囲 pp.189-194 
ページ数
発行日 2014-10-23 (OCS, OPE, LQE) 


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