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講演抄録/キーワード
講演名 2014-05-29 14:55
光化学堆積酸化スズ薄膜(SnO2)の光応答性
朴木貴法市村正也名工大ED2014-42 CPM2014-25 SDM2014-40 エレソ技報アーカイブへのリンク:ED2014-42 CPM2014-25 SDM2014-40
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文献情報 信学技報, vol. 114, no. 56, ED2014-42, pp. 119-123, 2014年5月.
資料番号 ED2014-42 
発行日 2014-05-21 (ED, CPM, SDM) 
ISSN Print edition: ISSN 0913-5685  Online edition: ISSN 2432-6380
著作権に
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研究会情報
研究会 CPM ED SDM  
開催期間 2014-05-28 - 2014-05-29 
開催地(和) 名古屋大学VBL3階 
開催地(英)  
テーマ(和) 結晶成長、評価及びデバイス(化合物、Si、SiGe、電子・光材料)およびその他 
テーマ(英)  
講演論文情報の詳細
申込み研究会 ED 
会議コード 2014-05-CPM-ED-SDM 
本文の言語 日本語 
タイトル(和) 光化学堆積酸化スズ薄膜(SnO2)の光応答性 
サブタイトル(和)  
タイトル(英) Photo-response of photochemically deposited SnO2 thin films 
サブタイトル(英)  
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第1著者 氏名(和/英/ヨミ) 朴木 貴法 / Takanori Hounoki / ホウノキ タカノリ
第1著者 所属(和/英) 名古屋工業大学 (略称: 名工大)
Nagoya Institute of Technology (略称: NIT)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) 市村 正也 / Masaya Ichimura / イチムラ マサヤ
第2著者 所属(和/英) 名古屋工業大学 (略称: 名工大)
Nagoya Institute of Technology (略称: NIT)
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講演者
発表日時 2014-05-29 14:55:00 
発表時間 20 
申込先研究会 ED 
資料番号 IEICE-ED2014-42,IEICE-CPM2014-25,IEICE-SDM2014-40 
巻番号(vol) IEICE-114 
号番号(no) no.56(ED), no.57(CPM), no.58(SDM) 
ページ範囲 pp.119-123 
ページ数 IEICE-5 
発行日 IEICE-ED-2014-05-21,IEICE-CPM-2014-05-21,IEICE-SDM-2014-05-21 


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