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講演抄録/キーワード
講演名 2014-05-29 11:30
半正定値緩和法を用いたLELECUTトリプルパターニングのためのレイアウト分割手法
小平行秀会津大)・松井知己東工大)・横山陽子児玉親亮東芝)・高橋篤司東工大)・野嶋茂樹田中 聡東芝VLD2014-6
抄録 (和) 次世代リソグラフィ技術として,2つのマスクをパタン形成のために,3つ目のマスクを形成したパタンを削除するためのカットとして使用するLELECUTタイプのトリプルパターニングが議論されている.本稿では,与えられたレイアウトのパタンを形成するために,半正定値緩和法とランダマイズド算法を用いてLELECUTトリプルパターニングの3 つのマスクのパタン形状を求める手法を提案する. 
(英) One of the most promising techniques in the 14 nm logic node and beyond is triple patterning lithography (TPL). Recently, LELECUT type TPL technology, where the third mask is used to cut the patterns, is discussed to alleviate native conflict and overlay problems in LELELE type TPL. In this paper, we formulate LELECUT decomposition problem which maximizes the compliance to the lithography and apply positive semidefinite relaxations. In our proposed methods, LELECUT decomposition is obtained from an optimum solution of the positive semidefinite relaxations by randomized rounding technique.
キーワード (和) トリプルパターニング / LELECUT / 半正定値計画法 / / / / /  
(英) Triple Patterning / LELECUT / Semidefinite Programming / / / / /  
文献情報 信学技報, vol. 114, no. 59, VLD2014-6, pp. 27-32, 2014年5月.
資料番号 VLD2014-6 
発行日 2014-05-22 (VLD) 
ISSN Print edition: ISSN 0913-5685    Online edition: ISSN 2432-6380
著作権に
ついて
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034)
PDFダウンロード VLD2014-6

研究会情報
研究会 VLD IPSJ-SLDM  
開催期間 2014-05-28 - 2014-05-29 
開催地(和) 北九州国際会議場 11会議室 
開催地(英) Kitakyushu International Conference Center 
テーマ(和) システム設計および一般(5月28日はLSIとシステムのワークショップと共同企画) 
テーマ(英) System Design, etc. 
講演論文情報の詳細
申込み研究会 VLD 
会議コード 2014-05-VLD-SLDM 
本文の言語 日本語 
タイトル(和) 半正定値緩和法を用いたLELECUTトリプルパターニングのためのレイアウト分割手法 
サブタイトル(和)  
タイトル(英) LELECUT Triple Patterning Lithography Layout Decomposition using Positive Semidefinite Relaxation 
サブタイトル(英)  
キーワード(1)(和/英) トリプルパターニング / Triple Patterning  
キーワード(2)(和/英) LELECUT / LELECUT  
キーワード(3)(和/英) 半正定値計画法 / Semidefinite Programming  
キーワード(4)(和/英) /  
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キーワード(8)(和/英) /  
第1著者 氏名(和/英/ヨミ) 小平 行秀 / Yukihide Kohira / コヒラ ユキヒデ
第1著者 所属(和/英) 会津大学 (略称: 会津大)
The University of Aizu (略称: Univ. of Aizu)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) 松井 知己 / Tomomi Matsui / マツイ トモミ
第2著者 所属(和/英) 東京工業大学 (略称: 東工大)
Tokyo Institute of Technology (略称: Tokyo Tech)
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) 横山 陽子 / Yoko Yokoyama / ヨコヤマ ヨウコ
第3著者 所属(和/英) 株式会社東芝 (略称: 東芝)
Toshiba Corporation (略称: Toshiba)
第4著者 氏名(和/英/ヨミ) 児玉 親亮 / Chikaaki Kodama / コダマ チカアキ
第4著者 所属(和/英) 株式会社東芝 (略称: 東芝)
Toshiba Corporation (略称: Toshiba)
第5著者 氏名(和/英/ヨミ) 高橋 篤司 / Atsushi Takahashi / タカハシ アツシ
第5著者 所属(和/英) 東京工業大学 (略称: 東工大)
Tokyo Institute of Technology (略称: Tokyo Tech)
第6著者 氏名(和/英/ヨミ) 野嶋 茂樹 / Shigeki Nojima / ノジマ シゲキ
第6著者 所属(和/英) 株式会社東芝 (略称: 東芝)
Toshiba Corporation (略称: Toshiba)
第7著者 氏名(和/英/ヨミ) 田中 聡 / Satoshi Tanaka / タナカ サトシ
第7著者 所属(和/英) 株式会社東芝 (略称: 東芝)
Toshiba Corporation (略称: Toshiba)
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講演者 第1著者 
発表日時 2014-05-29 11:30:00 
発表時間 25分 
申込先研究会 VLD 
資料番号 VLD2014-6 
巻番号(vol) vol.114 
号番号(no) no.59 
ページ範囲 pp.27-32 
ページ数
発行日 2014-05-22 (VLD) 


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