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講演名 |
2014-05-28 15:15
超高密度ターゲットを用いたパルスレーザー堆積法によるFe系およびMn系ペロブスカイト型酸化物薄膜の作製 大島佳祐・○岩田展幸・渡部雄太・稲葉隆哲・橋本拓也・高瀬浩一・山本 寛(日大) ED2014-26 CPM2014-9 SDM2014-24 エレソ技報アーカイブへのリンク:ED2014-26 CPM2014-9 SDM2014-24 |
抄録 |
(和) |
LaFeO3 (LFO)およびCaFeOx (CFO)薄膜をパルスレーザ堆積(PLD)法により作製した。ターゲットは固相反応(SS) 法およびペチーニ(Pec)法で作製した粉末を用いて作製した。LFOおよびCFOのどちらのターゲットに関しても、Pec法を用いた場合、レーザーアブレーション後ターゲット表面は平坦であったことからターゲット内は均一な元素分布であると考えられる。さらに、ペチーニ法で作製した粉末を用いたターゲット密度はLFOが95.5%、CFOが96.4%と超高密度であった。薄膜表面はPec法で作製したターゲットを用いた場合のみステップテラス構造を示した。SS法によるLFOターゲットでは、高速電子線回折(RHEED)の反射強度振動がほとんど確認できなかった。成長の初期段階におけるRHEED強度振動から見積もった堆積膜厚の誤差は、SS法においては-48%と大幅に堆積量が少なかった。一方、Pec法での誤差は+6.3%(135ユニット,53.7nm)と非常に正確に成長速度を制御できることがわかった。LFO薄膜において逆格子マップ(Reciprocal Space Mappings : RSM)から算出した単位胞体積はバルクの体積と比較すると誤差0.4%で一致した。CFO薄膜は長時間の成膜により酸素欠損をしたCa2Fe2O5 (CFO2.5)となることがわかった。また、CFOの成膜速度はLFO薄膜同様一定であった。逆格子マッピングから算出した単位胞体積はCFO2.5のバルクの体積と一致した。RHEED反射強度振動より3ユニットまでと5ユニット以降の一層当たりの成長時間に2倍の差があった。それぞれ成膜し表面を比較すると5ユニット 成長させた表面では3ユニット成長させた表面よりも0.7nmの高さの粒子が多く存在していた。0.55[nm]から0.7[nm]までの粒子の割合を算出すると3ユニット成長させた場合では約18%、5ユニット成長させた場合では約34%であった。CFOの格子定数は約0.4nmであることから格子間隔が2倍のCFO2.5が成長したと考えている。またユニット数が増加するにしたがってCFO2.5の割合も増加していると考えている。Pec法により超高密度なターゲットの作製および超高密度ターゲットを用いて高精度に膜厚を制御した良質な薄膜の作製を実現した。 |
(英) |
LFO and CFO films are deposited by PLD method. Targets are calcined using powder prepared by traditional solid solution (SS) and Pechini method. The targets surface is quite smooth after ablation in both LFO and CFO cases, probably due to the homogeneous distribution of each atom in the target. Density of the target by Pechini is 95.5% and 96.4% for LFO and CFO. The surface of the CFO film using Pechini target shows step-terraces structure. Thickness difference between deposited film and estimated thickness from the periodicity of RHEED oscillation around the initial growth region is -48% and +6.3% using SS target and Pechini target, respectively. It reveals that the precise control of deposition rate is achived using Pechini target. The volume calculated from the XRD results of LFO thin film is correspondence with that of bulk within 0.4%. In the case of CFO thin film, the unit volume is of CFO2.5. The required growth period is doubled after 5 units growth comparing to that before 3 units growth. The probability of growth of the grain with 0.7 nm in height increased from 18% to 34% before and after 3 / 5 units growth. It is expected that the CFO2.5 grew with the doubled lattice constant along the normal direction of the surface. Highly dense target prepared by Pechini method is promising target to obtain high quality thin films. |
キーワード |
(和) |
PLD法 / ペチーニ法 / 超高密度ターゲット / ペロブスカイト系酸化物 / / / / |
(英) |
PLD Method / Pechini Method / Ultra-high-density target / Perovskite Oxide / / / / |
文献情報 |
信学技報, vol. 114, no. 57, CPM2014-9, pp. 41-46, 2014年5月. |
資料番号 |
CPM2014-9 |
発行日 |
2014-05-21 (ED, CPM, SDM) |
ISSN |
Print edition: ISSN 0913-5685 Online edition: ISSN 2432-6380 |
著作権に ついて |
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