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講演抄録/キーワード
講演名 2014-04-11 09:30
ダブルラインビーム連続発振レーザラテラル結晶化による高性能poly-Si TFT
山野真幸黒木伸一郎佐藤 旦広島大)・小谷光司東北大)・吉川公麿広島大エレソ技報アーカイブへのリンク:SDM2014-11 OME2014-11
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文献情報 信学技報, vol. 114, no. 1, SDM2014-11, pp. 45-49, 2014年4月.
資料番号 SDM2014-11 
発行日 2014-04-03 (SDM, OME) 
ISSN Print edition: ISSN 0913-5685  Online edition: ISSN 2432-6380
著作権に
ついて
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研究会情報
研究会 SDM OME  
開催期間 2014-04-10 - 2014-04-11 
開催地(和) 沖縄県青年会館 
開催地(英) Okinawa-Ken-Seinen-Kaikan Bldg. 
テーマ(和) 薄膜(Si,化合物,有機,フレキシブル)機能デバイス・材料・評価技術、バイオテクノロジー、および一般 
テーマ(英) Advanced Thin-Film Devices (Si, Compound, Organic) and Related Topics 
講演論文情報の詳細
申込み研究会 SDM 
会議コード 2014-04-SDM-OME 
本文の言語 日本語 
タイトル(和) ダブルラインビーム連続発振レーザラテラル結晶化による高性能poly-Si TFT 
サブタイトル(和)  
タイトル(英) Fabrication of High-Performance Poly-Si TFTs with Highly Biaxially-Oriented Poly-Si Thin Films by Double-Line Beam Continuous-Wave Laser Lateral Crystallization 
サブタイトル(英)  
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第1著者 氏名(和/英/ヨミ) 山野 真幸 / Masayuki Yamano / ヤマノ マサユキ
第1著者 所属(和/英) 広島大学 (略称: 広島大)
Hiroshima University (略称: Hiroshima Univ.)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) 黒木 伸一郎 / Shin-Ichiro Kuroki / クロキ シンイチロウ
第2著者 所属(和/英) 広島大学 (略称: 広島大)
Hiroshima University (略称: Hiroshima Univ.)
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) 佐藤 旦 / Tadashi Sato / サトウ タダシ
第3著者 所属(和/英) 広島大学 (略称: 広島大)
Hiroshima University (略称: Hiroshima Univ.)
第4著者 氏名(和/英/ヨミ) 小谷 光司 / Koji Kotani / コタニ コウジ
第4著者 所属(和/英) 東北大学 (略称: 東北大)
Tohoku University (略称: Tohoku Univ.)
第5著者 氏名(和/英/ヨミ) 吉川 公麿 / Takamaro Kikkawa / キッカワ タカマロ
第5著者 所属(和/英) 広島大学 (略称: 広島大)
Hiroshima University (略称: Hiroshima Univ.)
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講演者
発表日時 2014-04-11 09:30:00 
発表時間 20 
申込先研究会 SDM 
資料番号 IEICE-SDM2014-11,IEICE-OME2014-11 
巻番号(vol) IEICE-114 
号番号(no) no.1(SDM), no.2(OME) 
ページ範囲 pp.45-49 
ページ数 IEICE-5 
発行日 IEICE-SDM-2014-04-03,IEICE-OME-2014-04-03 


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