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講演抄録/キーワード
講演名 2014-03-04 13:20
[招待講演]Advanced Model-Based Hotspot Fix Flow for Layout Optimization with Genetic Algorithm
Shuhei SotaToshiba Microelectronics)・Taiga UnoMasanari KajiwaraChikaaki KodamaToshiba)・Hirotaka IchikawaToshiba Microelectronics)・Ryota AburadaToshiya KotaniToshiba)・Kei NakagawaTamaki SaitoToshiba MicroelectronicsVLD2013-148
抄録 (和) Low-k1リソグラフィ・プロセスでは、ホットスポットと呼ばれるリソグラフィ上の欠陥が多数発生するため、その削減が歩留り向上のため急務となっている。これまでホットスポットの解決手法として、ルールベースHSFとパターンマッチングベースHSFが提案されている。ルールベースHSFでは、露光後のパターン幅やパターン間のスペースが所望の寸法より狭くなっている個所を光学シミュレーションによって発見し、事前に決定した修正ルールに従ってパターン間の寸法を拡張して、ホットスポットを取り除く。しかし、微細化が進んだ、32nm, 28nmノードのプロセスでは、この手法では修正しきれないホットスポットが発生するようになった。一方パターンマッチングベースHSFは、ホットスポットのパターンを、ライブラリに作成した修正後のパターンに置き換えるため、ルールベースHSFよりも効果的に修正することができるが、置き換えるパターンが存在しない場合にはホットスポットを修正することができない。本講演では我々が提案するモデルベースHSF手法を紹介する。最小寸法と最小スペースを持つパターンを検出した後、エッジの移動でホットスポットの修正をする。移動するエッジの選択と移動量は、遺伝的アルゴリズムを用い決定している。最後に実験で本手法の効果を示す。 
(英) Under the low-k1 lithography process, many hotspots are generated and their reduction is an urgent issue for mass production. Several strategies for hotspots fix (HSF) were proposed so far. Among them, two major strategies are "rule-based HSF” and “pattern matching-based HSF". The former is a simple strategy of expanding the width of narrow patterns and spaces based on pre-determined rule to remove hotspots. However, hotspots unable to remove by this strategy are increasing in recent 32nm and 28nm node. On the other hand, the latter is more effective than the former. This HSF can remove hotspots by replacing the pattern with the corresponding fixed pattern if both patterns are registered in the library. When they are not registered, it is understood that hotspots cannot be removed. Therefore, we propose a new model-based HSF strategy. Our strategy finds minimum width of pattern and minimum space between patterns and tries to remove hotspots by moving edges of the patterns. Genetic algorithm determines appropriately which edges to move and how long. The experimental results show the effectiveness of our strategy.
キーワード (和) リソグラフィ / ホットスポット / HSF / 遺伝的アルゴリズム / モデルベースHSF / / /  
(英) Lithography / Hotspot / HSF / Genetic algorithm / Model-based HSF / / /  
文献情報 信学技報, vol. 113, no. 454, VLD2013-148, pp. 85-85, 2014年3月.
資料番号 VLD2013-148 
発行日 2014-02-24 (VLD) 
ISSN Print edition: ISSN 0913-5685    Online edition: ISSN 2432-6380
著作権に
ついて
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034)
PDFダウンロード VLD2013-148

研究会情報
研究会 VLD  
開催期間 2014-03-03 - 2014-03-05 
開催地(和) 沖縄県青年会館 
開催地(英) Okinawa Seinen Kaikan 
テーマ(和) システムオンシリコンを支える設計技術 
テーマ(英) Design Technology for System-on-Silicon 
講演論文情報の詳細
申込み研究会 VLD 
会議コード 2014-03-VLD 
本文の言語 英語 
タイトル(和)  
サブタイトル(和)  
タイトル(英) Advanced Model-Based Hotspot Fix Flow for Layout Optimization with Genetic Algorithm 
サブタイトル(英)  
キーワード(1)(和/英) リソグラフィ / Lithography  
キーワード(2)(和/英) ホットスポット / Hotspot  
キーワード(3)(和/英) HSF / HSF  
キーワード(4)(和/英) 遺伝的アルゴリズム / Genetic algorithm  
キーワード(5)(和/英) モデルベースHSF / Model-based HSF  
キーワード(6)(和/英) /  
キーワード(7)(和/英) /  
キーワード(8)(和/英) /  
第1著者 氏名(和/英/ヨミ) 曽田 周平 / Shuhei Sota / ソタ シュウヘイ
第1著者 所属(和/英) 東芝マイクロエレクトロニクス株式会社 (略称: 東芝マイクロエレクトロニクス)
Toshiba Microelectronics Corpration (略称: Toshiba Microelectronics)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) 宇野 太賀 / Taiga Uno / ウノ タイガ
第2著者 所属(和/英) 株式会社東芝 (略称: 東芝)
Toshiba Corporation (略称: Toshiba)
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) 梶原 誠生 / Masanari Kajiwara / カジワラ マサナリ
第3著者 所属(和/英) 株式会社東芝 (略称: 東芝)
Toshiba Corporation (略称: Toshiba)
第4著者 氏名(和/英/ヨミ) 児玉 親亮 / Chikaaki Kodama / コダマ チカアキ
第4著者 所属(和/英) 株式会社東芝 (略称: 東芝)
Toshiba Corporation (略称: Toshiba)
第5著者 氏名(和/英/ヨミ) 市川 裕隆 / Hirotaka Ichikawa / イチカワ ヒロタカ
第5著者 所属(和/英) 東芝マイクロエレクトロニクス株式会社 (略称: 東芝マイクロエレクトロニクス)
Toshiba Microelectronics Corpration (略称: Toshiba Microelectronics)
第6著者 氏名(和/英/ヨミ) 油田 良太 / Ryota Aburada / アブラダ リョウタ
第6著者 所属(和/英) 株式会社東芝 (略称: 東芝)
Toshiba Corporation (略称: Toshiba)
第7著者 氏名(和/英/ヨミ) 小谷 敏也 / Toshiya Kotani / コタニ トシヤ
第7著者 所属(和/英) 株式会社東芝 (略称: 東芝)
Toshiba Corporation (略称: Toshiba)
第8著者 氏名(和/英/ヨミ) 中川 敬 / Kei Nakagawa / ナカガワ ケイ
第8著者 所属(和/英) 東芝マイクロエレクトロニクス株式会社 (略称: 東芝マイクロエレクトロニクス)
Toshiba Microelectronics Corpration (略称: Toshiba Microelectronics)
第9著者 氏名(和/英/ヨミ) 齋藤 玉樹 / Tamaki Saito / サイトウ タマキ
第9著者 所属(和/英) 東芝マイクロエレクトロニクス株式会社 (略称: 東芝マイクロエレクトロニクス)
Toshiba Microelectronics Corpration (略称: Toshiba Microelectronics)
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講演者 第1著者 
発表日時 2014-03-04 13:20:00 
発表時間 25分 
申込先研究会 VLD 
資料番号 VLD2013-148 
巻番号(vol) vol.113 
号番号(no) no.454 
ページ範囲 p.85 
ページ数
発行日 2014-02-24 (VLD) 


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