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講演抄録/キーワード
講演名 2014-03-04 15:05
クラスタリングによる高速なリソグラフィ照明形状最適化
多和田雅師柳澤政生戸川 望早大)・橋本隆希坂主圭史野嶋茂樹小谷敏也東芝
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抄録 (和) リソグラフィでは光をフォトマスクに通してウェハ上にパターンを生成する.
近年の微細化により生成されるパターンはフォトマスクと異なってしまい,フォトマスクや照明形状を最適化する処理が必要となる.
フォトマスク最適化に対し照明形状最適化は高速に関して研究が少ない.
提案手法ではクラスタリングを用いて照明を表現するパラメータの総数を性能が劣化することなく削減する.
最適化に関係するパラメータを削減し高速に解を求める. 
(英) In lithography, we generate patterns on a wafer through a photomask,
where patterns generated have to be close to ideal patterns by
optimizing a photomask as well as an exposure source. One of the most
important tasks here is to speed-up exposure source optimization to
have overall optimized photomask and exposure source.
In this paper, we propose a speeding-up method for exposure source
optimization by clustering for lithography.
In our method, we cluster several source grid-points utilizing the lithography property and reduce the
number of parameters to be optimized simultaneously.
Experimental results demonstrate that our method achieves 8X speed-up compared with
a conventional method.
キーワード (和) リソグラフィ / 照明最適化 / クラスタリング / / / / /  
(英) lithography / source optimization / clustering / / / / /  
文献情報 信学技報, vol. 113, no. 454, VLD2013-152, pp. 105-110, 2014年3月.
資料番号 VLD2013-152 
発行日 2014-02-24 (VLD) 
ISSN Print edition: ISSN 0913-5685  Online edition: ISSN 2432-6380

研究会情報
研究会 VLD  
開催期間 2014-03-03 - 2014-03-05 
開催地(和) 沖縄県青年会館 
開催地(英) Okinawa Seinen Kaikan 
テーマ(和) システムオンシリコンを支える設計技術 
テーマ(英) Design Technology for System-on-Silicon 
講演論文情報の詳細
申込み研究会 VLD 
会議コード 2014-03-VLD 
本文の言語 日本語 
タイトル(和) クラスタリングによる高速なリソグラフィ照明形状最適化 
サブタイトル(和)  
タイトル(英) Exposure source optimization by clustering for lithography 
サブタイトル(英)  
キーワード(1)(和/英) リソグラフィ / lithography  
キーワード(2)(和/英) 照明最適化 / source optimization  
キーワード(3)(和/英) クラスタリング / clustering  
キーワード(4)(和/英) /  
キーワード(5)(和/英) /  
キーワード(6)(和/英) /  
キーワード(7)(和/英) /  
キーワード(8)(和/英) /  
第1著者 氏名(和/英/ヨミ) 多和田 雅師 / Masashi Tawada / タワダ マサシ
第1著者 所属(和/英) 早稲田大学 (略称: 早大)
Waseda University (略称: Waseda Univ.)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) 柳澤 政生 / Masao Yanagisawa / ヤナギサワ マサオ
第2著者 所属(和/英) 早稲田大学 (略称: 早大)
Waseda University (略称: Waseda Univ.)
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) 戸川 望 / Nozomu Togawa / トガワ ノゾム
第3著者 所属(和/英) 早稲田大学 (略称: 早大)
Waseda University (略称: Waseda Univ.)
第4著者 氏名(和/英/ヨミ) 橋本 隆希 / Takaki Hashimoto / ハシモト タカキ
第4著者 所属(和/英) 株式会社東芝 (略称: 東芝)
Toshiba Corporation (略称: Toshiba)
第5著者 氏名(和/英/ヨミ) 坂主 圭史 / Keishi Sakanushi / サカヌシ ケイシ
第5著者 所属(和/英) 株式会社東芝 (略称: 東芝)
Toshiba Corporation (略称: Toshiba)
第6著者 氏名(和/英/ヨミ) 野嶋 茂樹 / Shigeki Nojima / ノジマ シゲキ
第6著者 所属(和/英) 株式会社東芝 (略称: 東芝)
Toshiba Corporation (略称: Toshiba)
第7著者 氏名(和/英/ヨミ) 小谷 敏也 / Toshiya Kotani / コタニ トシヤ
第7著者 所属(和/英) 株式会社東芝 (略称: 東芝)
Toshiba Corporation (略称: Toshiba)
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講演者
発表日時 2014-03-04 15:05:00 
発表時間 25 
申込先研究会 VLD 
資料番号 IEICE-VLD2013-152 
巻番号(vol) IEICE-113 
号番号(no) no.454 
ページ範囲 pp.105-110 
ページ数 IEICE-6 
発行日 IEICE-VLD-2014-02-24 


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