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講演抄録/キーワード
講演名 2013-12-13 16:20
誘電体厚膜の形成とプロトンビームによる直接パターニング
渡辺和貴山口正樹西川宏之芝浦工大SDM2013-130 エレソ技報アーカイブへのリンク:SDM2013-130
抄録 (和) 本研究では,非鉛系強誘電体材料の一つであるチタン酸ビスマス(Bi4Ti3O12,BIT)において,ポリビニルピロリドン(Polyvinylpyrrolidone, PVP)添加による厚膜形成と,プロトン照射による直接パターニングについて検討を行った.有機原料溶液にPVPを50%添加することで,Si基板上に作成した厚膜において,c軸配向性の促進ならびに応力緩和によるクラック抑制効果を確認した.また, Biを30%過剰に添加することで,PVP添加による組成ずれを補正することができた.これらの条件を反映させたBIT厚膜において,プロトンビーム照射による微細加工を施し,直径5μmのドットパターンおよび10μm程度の任意のパターンが形成できることを示した. 
(英) In this study, we performed examination to form a thick film with the thing which added Polyvinylpyrrolidone (PVP), in the bismuth titanate (Bi4Ti3O12) which was a lead-free ferroelectric materials. We examined the direct patterning with these materials by the proton beam irradiation. Promotion of the c-axis orientation and a crack suppressant effect by the stress-relaxation were confirmed by adding PVP 50% in organic source solution. And, we succeeded in revising a composition gap by 30% excess Bi atoms. In addition, we formed a dot and arbitrary shape micro-patterns to the BIT thick film, which applied these conditions by the micromachining using the proton beam.
キーワード (和) 強誘電体薄膜 / 微細加工 / クラック抑制 / PVP / チタン酸ビスマス / プロトンビーム / 直接描画 /  
(英) ferroelectric thin fIlm / micromachining / Prevention of cracking / PVP / bismuth titanate / proton beam writing / /  
文献情報 信学技報, vol. 113, no. 351, SDM2013-130, pp. 85-89, 2013年12月.
資料番号 SDM2013-130 
発行日 2013-12-06 (SDM) 
ISSN Print edition: ISSN 0913-5685  Online edition: ISSN 2432-6380
著作権に
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技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034)
PDFダウンロード SDM2013-130 エレソ技報アーカイブへのリンク:SDM2013-130

研究会情報
研究会 SDM  
開催期間 2013-12-13 - 2013-12-13 
開催地(和) 奈良先端科学技術大学院大学 
開催地(英) NAIST 
テーマ(和) シリコン関連材料の作製と評価 
テーマ(英) Fabrication and Characterization of Si related materials 
講演論文情報の詳細
申込み研究会 SDM 
会議コード 2013-12-SDM 
本文の言語 日本語 
タイトル(和) 誘電体厚膜の形成とプロトンビームによる直接パターニング 
サブタイトル(和)  
タイトル(英) Fabrication of Ferroelectric Microstructures by Proton Beam Irradiation 
サブタイトル(英)  
キーワード(1)(和/英) 強誘電体薄膜 / ferroelectric thin fIlm  
キーワード(2)(和/英) 微細加工 / micromachining  
キーワード(3)(和/英) クラック抑制 / Prevention of cracking  
キーワード(4)(和/英) PVP / PVP  
キーワード(5)(和/英) チタン酸ビスマス / bismuth titanate  
キーワード(6)(和/英) プロトンビーム / proton beam writing  
キーワード(7)(和/英) 直接描画 /  
キーワード(8)(和/英) /  
第1著者 氏名(和/英/ヨミ) 渡辺 和貴 / Kazuki Watanabe / ワタナベ カズキ
第1著者 所属(和/英) 芝浦工業大学 (略称: 芝浦工大)
Shibaura Institute of Techinology (略称: Shibaura Inst. of Tech.)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) 山口 正樹 / Masaki Yamaguchi / ヤマグチ マサキ
第2著者 所属(和/英) 芝浦工業大学 (略称: 芝浦工大)
Shibaura Institute of Techinology (略称: Shibaura Inst. of Tech.)
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) 西川 宏之 / Hiroyuki Nishikawa / ニシカワ ヒロユキ
第3著者 所属(和/英) 芝浦工業大学 (略称: 芝浦工大)
Shibaura Institute of Techinology (略称: Shibaura Inst. of Tech.)
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講演者
発表日時 2013-12-13 16:20:00 
発表時間 20 
申込先研究会 SDM 
資料番号 IEICE-SDM2013-130 
巻番号(vol) IEICE-113 
号番号(no) no.351 
ページ範囲 pp.85-89 
ページ数 IEICE-5 
発行日 IEICE-SDM-2013-12-06 


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