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講演抄録/キーワード
講演名 2013-11-15 17:00
磁性/非磁性薄膜における表面プラズモンの磁気応答
芦澤好人立川 徹成嶌和樹中川活二日大MR2013-25 エレソ技報アーカイブへのリンク:MR2013-25
抄録 (和) 誘電率変化に敏感に応答する表面プラズモンを用いた新規磁気応答デバイスの実現を目指し,磁界印加全反射減衰(ATR)法を用いて表面プラズモンの磁気応答性の検討を行った.表面プラズモンの励起機能と磁気応答機能を含有する薄膜試料構造を用いることで,試料に表面プラズモンの磁気応答性を付与可能であることが示された.高い磁気応答信号を得るためには,表面プラズモン励起層である貴金属系材料の膜厚の最適化が有効であることが示された. 
(英) A response of surface plasmon polaritons (SPP) to a magnetic field was investigated by an attenuated total reflection (ATR) method with magnetic field in order to realize a new magnetic sensing device using the SPP, which is supersensitive to a dielectric constant change. The SPP was able to respond to the magnetic field in the films, which have both functions of excitation and magnetic activity of the SPP. It was shown that the optimization of the thickness of a noble metal layer as a SPP generation layer is effective to obtain high signal intensity.
キーワード (和) 表面プラズモン / 磁性薄膜 / 全反射減衰法 / / / / /  
(英) Surface plasmon / Magnetic thin films / Attenuated total reflection / / / / /  
文献情報 信学技報, vol. 113, 2013年11月.
資料番号  
発行日 2013-11-08 (MR) 
ISSN Print edition: ISSN 0913-5685    Online edition: ISSN 2432-6380
著作権に
ついて
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034)
PDFダウンロード MR2013-25 エレソ技報アーカイブへのリンク:MR2013-25

研究会情報
研究会 MRIS ITE-MMS  
開催期間 2013-11-15 - 2013-11-15 
開催地(和) 早稲田大学 
開催地(英) Waseda Univ. 
テーマ(和) ハードディスクドライブ, 一般 
テーマ(英) Hard disk drive technology, etc. 
講演論文情報の詳細
申込み研究会 MRIS 
会議コード 2013-11-MR-MMS 
本文の言語 日本語 
タイトル(和) 磁性/非磁性薄膜における表面プラズモンの磁気応答 
サブタイトル(和)  
タイトル(英) Magnetic activity of surface plasmon poraritons in maginetic/non-magnetic structures 
サブタイトル(英)  
キーワード(1)(和/英) 表面プラズモン / Surface plasmon  
キーワード(2)(和/英) 磁性薄膜 / Magnetic thin films  
キーワード(3)(和/英) 全反射減衰法 / Attenuated total reflection  
キーワード(4)(和/英) /  
キーワード(5)(和/英) /  
キーワード(6)(和/英) /  
キーワード(7)(和/英) /  
キーワード(8)(和/英) /  
第1著者 氏名(和/英/ヨミ) 芦澤 好人 / Yoshito Ashizawa / アシザワ ヨシト
第1著者 所属(和/英) 日本大学 (略称: 日大)
Nihon University (略称: Nihon Univ.)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) 立川 徹 / Toru Tachikawa / タチカワ トオル
第2著者 所属(和/英) 日本大学 (略称: 日大)
Nihon University (略称: Nihon Univ.)
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) 成嶌 和樹 / Kazuki Narushima / ナルシマ カズキ
第3著者 所属(和/英) 日本大学 (略称: 日大)
Nihon University (略称: Nihon Univ.)
第4著者 氏名(和/英/ヨミ) 中川 活二 / Katsuji Nakagawa / ナカガワ カツジ
第4著者 所属(和/英) 日本大学 (略称: 日大)
Nihon University (略称: Nihon Univ.)
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講演者 第1著者 
発表日時 2013-11-15 17:00:00 
発表時間 25分 
申込先研究会 MRIS 
資料番号 MR2013-25 
巻番号(vol) vol.113 
号番号(no) no.297 
ページ範囲 pp.41-44 
ページ数
発行日 2013-11-08 (MR) 


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