研究会情報 |
研究会 |
CPM |
開催期間 |
2013-10-24 - 2013-10-25 |
開催地(和) |
新潟大ときめいと |
開催地(英) |
Niigata Univ. Satellite Campus TOKIMEITO |
テーマ(和) |
薄膜プロセス・材料、一般 |
テーマ(英) |
Preparation of Thin Films, Materials for Physics and Applications, etc. |
講演論文情報の詳細 |
申込み研究会 |
CPM |
会議コード |
2013-10-CPM |
本文の言語 |
日本語 |
タイトル(和) |
SiCコーティングフィラメントを用いたHWCVD法によるSiC薄膜の低温形成と構造評価 |
サブタイトル(和) |
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タイトル(英) |
Low temperature growth and structural characterization for SiC films by HWCVD using filaments coated with SiC |
サブタイトル(英) |
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キーワード(1)(和/英) |
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キーワード(2)(和/英) |
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キーワード(3)(和/英) |
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キーワード(4)(和/英) |
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キーワード(6)(和/英) |
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キーワード(7)(和/英) |
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キーワード(8)(和/英) |
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第1著者 氏名(和/英/ヨミ) |
阿部 克也 / Katsuya Abe / アベ カツヤ |
第1著者 所属(和/英) |
信州大学 (略称: 信州大)
Shinshu University (略称: Shinshu Univ.) |
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) |
小澤 勇斗 / Hayato Ozawa / オザワ ハヤト |
第2著者 所属(和/英) |
信州大学 (略称: 信州大)
Shinshu University (略称: Shinshu Univ.) |
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) |
山上 朋彦 / Tomohiko Yamakami / ヤマカミ トモヒコ |
第3著者 所属(和/英) |
信州大学 (略称: 信州大)
Shinshu University (略称: Shinshu Univ.) |
第4著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第4著者 所属(和/英) |
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第5著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第6著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第7著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第8著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第9著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第10著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第11著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第12著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第13著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第14著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第15著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第16著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第17著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第18著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第19著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第20著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第20著者 所属(和/英) |
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講演者 |
第1著者 |
発表日時 |
2013-10-25 11:00:00 |
発表時間 |
25分 |
申込先研究会 |
CPM |
資料番号 |
CPM2013-105 |
巻番号(vol) |
vol.113 |
号番号(no) |
no.268 |
ページ範囲 |
pp.59-62 |
ページ数 |
4 |
発行日 |
2013-10-17 (CPM) |