講演抄録/キーワード |
講演名 |
2013-10-18 14:00
MOSFETのサブスレショルド領域におけるRandom Telegraph Noiseの時定数解析 ○米澤彰浩・寺本章伸・小原俊樹・黒田理人・須川成利・大見忠弘(東北大) SDM2013-98 エレソ技報アーカイブへのリンク:SDM2013-98 |
抄録 |
(和) |
MOSFETのサブスレッショルド領域におけるRandom Telegraph Noise(RTN)の捕獲・放出時定数を多数のサンプルに対しゲート電圧依存性を抽出し、キャリアの捕獲・放出過程を考察した。捕獲過程のゲート電圧依存性は、キャリアとトラップの距離はSiO2/Si界面とトラップの最短距離ではなく、キャリアの存在するパーコレーションパスとトラップの距離とトラップのエネルギ準位から決定される。放出過程はゲート電圧により、キャリアがSi基板側に抜けるもの、ゲート電極側に抜けるもの、電圧により放出先を変えると考えられるものが観測された。時定数を広範囲かつ正確に抽出し捕獲・放出時定数を個別に議論することがRTNの解析では重要となる。 |
(英) |
We extracted time constants of capture and emission of Random Telegraph Noise (RTN), and their dependencies of the gate-source voltage from numerous MOSFETs and discuss the trapping and detrapping processes of carriers at the subthreshold voltage region. The dependence of time to capture on the gate-source voltage can not be determined by the trap depth from the interface and but by the distance between the trap and percolation path and the trap energy level. It is considered that various emission processes caused by tunneling to Si substrate side, tunneling to gate electrode side and tunneling to either Si substrate side or gate electrode side depending on gate-source voltage. Evaluating the time constants individually is indispensable to characterize the trap which causes RTN in subthreshold voltage region. |
キーワード |
(和) |
RTN / MOSFET / 時定数 / / / / / |
(英) |
RTN / MOSFET / Time Constant / / / / / |
文献情報 |
信学技報, vol. 113, no. 247, SDM2013-98, pp. 51-56, 2013年10月. |
資料番号 |
SDM2013-98 |
発行日 |
2013-10-10 (SDM) |
ISSN |
Print edition: ISSN 0913-5685 Online edition: ISSN 2432-6380 |
著作権に ついて |
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