講演抄録/キーワード |
講演名 |
2013-08-01 15:45
スパッタ法による上部電極膜の作製が有機EL素子の動作特性に及ぼす影響 ○星 陽一・小林信一・内田孝幸(東京工芸大)・清水英彦(新潟大) CPM2013-45 エレソ技報アーカイブへのリンク:CPM2013-45 |
抄録 |
(和) |
有機EL素子においてスパッタ法を用いた上部電極膜の堆積が素子特性に及ぼす影響を調べた。その結果、?有機EL素子の作製では、基板入射する高エネルギー2次電子の基板への入射があると、動作電圧が著しく高くなってしまうこと、?Al上部陰極膜の作製においては、基板に入射する高エネルギー電子や高エネルギースパッタ粒子を抑制するとともに、斜め入射堆積粒子の割合を減らすことが、低電圧で動作する素子の作製に必要であること、?ITO上部陽極膜の作製では、網マスクを基板付近に挿入して影になる部分を作ることが発光特性の改善に有効であることが分かった。 |
(英) |
In this study, we investigated the affect of the sputter-deposition of upper electrode films on the photo-emission performances in OLED. As a result, it was found that the incidence of high energy secondary electrons leads to a significant increase in the operating voltage of OLED. Suppression of the incidence of particles with high energy and high incidence angles in the sputter-deposition of Al upper cathode is necessary to obtain OLED which operate at low voltage. On the other hand, in the deposition of upper ITO anode, insertion of a mesh mask near substrate and making shadow was effective to improve the photo-emission properties of the OLED. |
キーワード |
(和) |
有機EL素子 / 電極膜 / スパッタ / Al陰極膜 / ITO陽極膜 / / / |
(英) |
OLED / Electrode film / Sputter-deposition / Al cathode / ITO anode / / / |
文献情報 |
信学技報, vol. 113, no. 171, CPM2013-45, pp. 29-34, 2013年8月. |
資料番号 |
CPM2013-45 |
発行日 |
2013-07-25 (CPM) |
ISSN |
Print edition: ISSN 0913-5685 Online edition: ISSN 2432-6380 |
著作権に ついて |
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034) |
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