お知らせ 2023年度・2024年度 学生員 会費割引キャンペーン実施中です
お知らせ 技術研究報告と和文論文誌Cの同時投稿施策(掲載料1割引き)について
お知らせ 電子情報通信学会における研究会開催について
お知らせ NEW 参加費の返金について
電子情報通信学会 研究会発表申込システム
講演論文 詳細
技報閲覧サービス
[ログイン]
技報アーカイブ
 トップに戻る 前のページに戻る   [Japanese] / [English] 

講演抄録/キーワード
講演名 2013-07-12 16:10
恒久的データアーカイブに向けた石英ガラスへの記録再生技術
渡辺康一渡部隆夫塩澤 学今井 亮梅田麻理子日立)・坂倉正明下間靖彦三浦清貴京大MR2013-12 エレソ技報アーカイブへのリンク:MR2013-12
抄録 (和) .耐熱性・耐水性に優れた石英ガラスを用い,レーザーでデジタルデータを記録し顕微鏡で再生する技術を開発した。記録済みサンプルは1000℃で2時間以上の耐熱性を備えており,文化遺産など貴重なデータの半永久的保存が可能となる。 
(英) Storage technology to record digital data with a laser and read with a microscope inside fused silica, which has thermal and water resistance, has been developed. The recorded sample comprises thermostability more than two hours at 1,000 ℃, and the semipermanent preservation of valuable data including the cultural heritage is enabled.
キーワード (和) 恒久的データアーカイブ / 石英 / 記録再生技術 / / / / /  
(英) Permanent Storage / Fused Silica / Read/Write Techniques / / / / /  
文献情報 信学技報, vol. 113, 2013年7月.
資料番号  
発行日 2013-07-05 (MR) 
ISSN Print edition: ISSN 0913-5685    Online edition: ISSN 2432-6380
著作権に
ついて
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034)
PDFダウンロード MR2013-12 エレソ技報アーカイブへのリンク:MR2013-12

研究会情報
研究会 MRIS ITE-MMS  
開催期間 2013-07-12 - 2013-07-12 
開催地(和) 中央大学 
開催地(英) Chuo Univ. 
テーマ(和) 固体メモリ・媒体,一般 
テーマ(英) Solid State Memory, Media, etc. 
講演論文情報の詳細
申込み研究会 MRIS 
会議コード 2013-07-MR-MMS 
本文の言語 日本語 
タイトル(和) 恒久的データアーカイブに向けた石英ガラスへの記録再生技術 
サブタイトル(和)  
タイトル(英) Read/Write Techniques in Fused Silica for Permanent Storage 
サブタイトル(英)  
キーワード(1)(和/英) 恒久的データアーカイブ / Permanent Storage  
キーワード(2)(和/英) 石英 / Fused Silica  
キーワード(3)(和/英) 記録再生技術 / Read/Write Techniques  
キーワード(4)(和/英) /  
キーワード(5)(和/英) /  
キーワード(6)(和/英) /  
キーワード(7)(和/英) /  
キーワード(8)(和/英) /  
第1著者 氏名(和/英/ヨミ) 渡辺 康一 / Koichi Watanabe / ワタナベ コウイチ
第1著者 所属(和/英) 株式会社日立製作所 (略称: 日立)
Hitachi,Ltd., (略称: Hitachi)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) 渡部 隆夫 / Takao Watanabe / ワタナベ タカオ
第2著者 所属(和/英) 株式会社日立製作所 (略称: 日立)
Hitachi,Ltd., (略称: Hitachi)
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) 塩澤 学 / Manabu Shiozawa / シオザワ マナブ
第3著者 所属(和/英) 株式会社日立製作所 (略称: 日立)
Hitachi,Ltd., (略称: Hitachi)
第4著者 氏名(和/英/ヨミ) 今井 亮 / Ryo Imai / イマイ リョウ
第4著者 所属(和/英) 株式会社日立製作所 (略称: 日立)
Hitachi,Ltd., (略称: Hitachi)
第5著者 氏名(和/英/ヨミ) 梅田 麻理子 / Mariko Umeda / ウメダ マリコ
第5著者 所属(和/英) 株式会社日立製作所 (略称: 日立)
Hitachi,Ltd., (略称: Hitachi)
第6著者 氏名(和/英/ヨミ) 坂倉 正明 / Masaaki Sakakura / サカクラ マサアキ
第6著者 所属(和/英) 京都大学 (略称: 京大)
Kyoto University (略称: Kyoto Univ.)
第7著者 氏名(和/英/ヨミ) 下間 靖彦 / Yasuhiko Shimotsuma / シモツマ ヨシヒコ
第7著者 所属(和/英) 京都大学 (略称: 京大)
Kyoto University (略称: Kyoto Univ.)
第8著者 氏名(和/英/ヨミ) 三浦 清貴 / Kiyotaka Miura / ミウラ キヨタカ
第8著者 所属(和/英) 京都大学 (略称: 京大)
Kyoto University (略称: Kyoto Univ.)
第9著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第9著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第10著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第10著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第11著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第11著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第12著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第12著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第13著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第13著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第14著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第14著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第15著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第15著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第16著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第16著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第17著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第17著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第18著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第18著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第19著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第19著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第20著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第20著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
講演者 第1著者 
発表日時 2013-07-12 16:10:00 
発表時間 25分 
申込先研究会 MRIS 
資料番号 MR2013-12 
巻番号(vol) vol.113 
号番号(no) no.127 
ページ範囲 pp.35-36 
ページ数
発行日 2013-07-05 (MR) 


[研究会発表申込システムのトップページに戻る]

[電子情報通信学会ホームページ]


IEICE / 電子情報通信学会