お知らせ 2023年度・2024年度 学生員 会費割引キャンペーン実施中です
お知らせ 技術研究報告と和文論文誌Cの同時投稿施策(掲載料1割引き)について
お知らせ 電子情報通信学会における研究会開催について
お知らせ NEW 参加費の返金について
電子情報通信学会 研究会発表申込システム
講演論文 詳細
技報閲覧サービス
[ログイン]
技報アーカイブ
 トップに戻る 前のページに戻る   [Japanese] / [English] 

講演抄録/キーワード
講演名 2013-06-21 10:35
300 mm基板上にArF液侵リソグラフィーを用いて作製したシリコンフォトニクスデバイス
北 智洋田主裕一朗奈良匡樹平野 秀東北大)・外山宗博関 三好越野圭二横山信幸大塚 実杉山曜宣石塚栄一佐野 作堀川 剛産総研)・山田博仁東北大OPE2013-7 LQE2013-17 エレソ技報アーカイブへのリンク:OPE2013-7 LQE2013-17
抄録 (和) ArF液侵リソグラフィー技術を用いて300 mm SOIウェハ上にチャネル型シリコン細線導波路,方向性結合器,リング共振器を作製し,光学特性を評価した.評価結果は数値計算結果との良い一致を示し,シリコンフォトニクスデバイス作製に本プロセス工程を用いることの有効性が確認された. 
(英) We have investigated optical characteristics of Si photonics devices formed on 300 mm SOI wafers by using ArF immersion lithography process. The measurement results were in good agreement with the calculated results for designed structure and the process accuracy for silicon photonics devices were verified.
キーワード (和) シリコンフォトニクス / 方向性結合器 / リング共振器 / / / / /  
(英) Silicon Photonics / Directional Coupler / Ring resonator / / / / /  
文献情報 信学技報, vol. 113, no. 99, OPE2013-7, pp. 1-5, 2013年6月.
資料番号 OPE2013-7 
発行日 2013-06-14 (OPE, LQE) 
ISSN Print edition: ISSN 0913-5685    Online edition: ISSN 2432-6380
著作権に
ついて
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034)
PDFダウンロード OPE2013-7 LQE2013-17 エレソ技報アーカイブへのリンク:OPE2013-7 LQE2013-17

研究会情報
研究会 LQE OPE  
開催期間 2013-06-21 - 2013-06-21 
開催地(和) 機械振興会館 
開催地(英)  
テーマ(和) アクティブデバイスと集積化技術、一般 「材料デバイスサマーミーティング」 
テーマ(英)  
講演論文情報の詳細
申込み研究会 OPE 
会議コード 2013-06-LQE-OPE 
本文の言語 日本語 
タイトル(和) 300 mm基板上にArF液侵リソグラフィーを用いて作製したシリコンフォトニクスデバイス 
サブタイトル(和)  
タイトル(英) Silicon photonics devices on 300 mm wafer fabricated by using ArF immersion lithography 
サブタイトル(英)  
キーワード(1)(和/英) シリコンフォトニクス / Silicon Photonics  
キーワード(2)(和/英) 方向性結合器 / Directional Coupler  
キーワード(3)(和/英) リング共振器 / Ring resonator  
キーワード(4)(和/英) /  
キーワード(5)(和/英) /  
キーワード(6)(和/英) /  
キーワード(7)(和/英) /  
キーワード(8)(和/英) /  
第1著者 氏名(和/英/ヨミ) 北 智洋 / Tomohiro Kita / キタ トモヒロ
第1著者 所属(和/英) 東北大学 (略称: 東北大)
Tohoku University (略称: Tohoku Univ.)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) 田主 裕一朗 / Yuichiro Tanushi / タヌシ ユウイチロウ
第2著者 所属(和/英) 東北大学 (略称: 東北大)
Tohoku University (略称: Tohoku Univ.)
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) 奈良 匡樹 / Masaki Nara / ナラ マサキ
第3著者 所属(和/英) 東北大学 (略称: 東北大)
Tohoku University (略称: Tohoku Univ.)
第4著者 氏名(和/英/ヨミ) 平野 秀 / Syu Hirano / ヒラノ シュウ
第4著者 所属(和/英) 東北大学 (略称: 東北大)
Tohoku University (略称: Tohoku Univ.)
第5著者 氏名(和/英/ヨミ) 外山 宗博 / Munehiro Toyama / トヤマ ムネヒロ
第5著者 所属(和/英) 産業技術総合研究所 (略称: 産総研)
National Institute of Advanced Industrial Science and Technology (略称: AIST)
第6著者 氏名(和/英/ヨミ) 関 三好 / Miyoshi Seki / セキ ミヨシ
第6著者 所属(和/英) 産業技術総合研究所 (略称: 産総研)
National Institute of Advanced Industrial Science and Technology (略称: AIST)
第7著者 氏名(和/英/ヨミ) 越野 圭二 / Keiji Koshino / コシノ ケイジ
第7著者 所属(和/英) 産業技術総合研究所 (略称: 産総研)
National Institute of Advanced Industrial Science and Technology (略称: AIST)
第8著者 氏名(和/英/ヨミ) 横山 信幸 / Nobuyuki Yokoyama / ヨコヤマ ノブユキ
第8著者 所属(和/英) 産業技術総合研究所 (略称: 産総研)
National Institute of Advanced Industrial Science and Technology (略称: AIST)
第9著者 氏名(和/英/ヨミ) 大塚 実 / Minoru Ohtsuka / オオツカ ミノル
第9著者 所属(和/英) 産業技術総合研究所 (略称: 産総研)
National Institute of Advanced Industrial Science and Technology (略称: AIST)
第10著者 氏名(和/英/ヨミ) 杉山 曜宣 / Akinobu Sugiyama / スギヤマ アキノブ
第10著者 所属(和/英) 産業技術総合研究所 (略称: 産総研)
National Institute of Advanced Industrial Science and Technology (略称: AIST)
第11著者 氏名(和/英/ヨミ) 石塚 栄一 / Eiichi Ishitsuka / イシズカ エイイチ
第11著者 所属(和/英) 産業技術総合研究所 (略称: 産総研)
National Institute of Advanced Industrial Science and Technology (略称: AIST)
第12著者 氏名(和/英/ヨミ) 佐野 作 / Tsukuru Sano / サノ ツクル
第12著者 所属(和/英) 産業技術総合研究所 (略称: 産総研)
National Institute of Advanced Industrial Science and Technology (略称: AIST)
第13著者 氏名(和/英/ヨミ) 堀川 剛 / Tsuyoshi Horikawa / ホリカワ ツヨシ
第13著者 所属(和/英) 産業技術総合研究所 (略称: 産総研)
National Institute of Advanced Industrial Science and Technology (略称: AIST)
第14著者 氏名(和/英/ヨミ) 山田 博仁 / Hirohito Yamada / ヤマダ ヒロヒト
第14著者 所属(和/英) 東北大学 (略称: 東北大)
Tohoku University (略称: Tohoku Univ.)
第15著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第15著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第16著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第16著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第17著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第17著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第18著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第18著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第19著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第19著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第20著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第20著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
講演者 第1著者 
発表日時 2013-06-21 10:35:00 
発表時間 25分 
申込先研究会 OPE 
資料番号 OPE2013-7, LQE2013-17 
巻番号(vol) vol.113 
号番号(no) no.99(OPE), no.100(LQE) 
ページ範囲 pp.1-5 
ページ数
発行日 2013-06-14 (OPE, LQE) 


[研究会発表申込システムのトップページに戻る]

[電子情報通信学会ホームページ]


IEICE / 電子情報通信学会