| 電子情報通信学会 研究会発表申込システム 講演論文 詳細 |
技報閲覧サービス [ログイン] 技報アーカイブ |
| トップに戻る | 前のページに戻る | [Japanese] / [English] |
| 講演抄録／キーワード | ||
| 講演名 | 2013-03-05 10:10 半導体製造およびプラズマ・バイオ科学のためのプラズマ源に関する研究 ○本村大成・笠嶋悠司・上杉文彦・菊永和也・福田 修（産総研）  OME2012-91 エレソ技報アーカイブへのリンク：OME2012-91 |
|
| 抄録 | （和） | 我々は地域産業の活性化を念頭に半導体産業，農業では特に畜産業などにも注目して研究を行っており，当該現場における計測技術を通したソリューションをテーマに研究開発を進めている．上記分野のニーズに対応すべく，半導体製造時に用いられる減圧プラズマ，生体の表面反応への応用が期待される大気圧プラズマなどのプラズマ源の開発も行っている．本発表ではそれらのプラズマ源の観測法，特に半導体生産現場におけるその場観測の必要性についても述べ，開発中のプラズマインピーダンスその場観測システムについて概説する． |
| （英） | To activate local industries with the aim of increasing the competitiveness of the local industry, we propose a useful measurement technique not only for semiconductor manufacturing but also for agriculture, especially livestock production. For applications to semiconductor manufacturing technology and plasma bioscience fields, various types of plasma sources have been developed in a wide range of gas pressure from 0.1 Pa to atmospheric pressure. In this presentation, we give an overview of various plasma sources, and a newly developed real-time monitoring system of characteristic impedance during plasma etching process is also presented. | |
| キーワード | （和） | プラズマ / 半導体プロセス / / / / / / |
| （英） | plasma / semiconductor manufacturing / / / / / / | |
| 文献情報 | 信学技報, vol. 112, no. 456, OME2012-91, pp. 5-7, 2013年3月. | |
| 資料番号 | OME2012-91 | |
| 発行日 | 2013-02-26 (OME) | |
| ISSN | Print edition: ISSN 0913-5685 Online edition: ISSN 2432-6380 | |
| 著作権に ついて |
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します．(許諾番号：10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034) | |
| PDFダウンロード | OME2012-91 エレソ技報アーカイブへのリンク：OME2012-91 |
|
| 研究会情報 | |
| 研究会 | OME |
| 開催期間 | 2013-03-05 - 2013-03-05 |
| 開催地（和） | 産総研九州センター |
| 開催地（英） | AIST Kyushu Center |
| テーマ（和） | バイオ、エレクトロニクス、材料、界面、その場観察、その他一般 |
| テーマ（英） | biotechnology, electronics, materials, interfaces, in situ observation, etc. |
| 講演論文情報の詳細 | |
| 申込み研究会 | OME |
| 会議コード | 2013-03-OME |
| 本文の言語 | 日本語 |
| タイトル（和） | 半導体製造およびプラズマ・バイオ科学のためのプラズマ源に関する研究 |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Study on plasma sources for semiconductor manufacturing and plasma bioscience |
| サブタイトル（英） | |
| キーワード(1)（和/英） | プラズマ / plasma |
| キーワード(2)（和/英） | 半導体プロセス / semiconductor manufacturing |
| キーワード(3)（和/英） | / |
| キーワード(4)（和/英） | / |
| キーワード(5)（和/英） | / |
| キーワード(6)（和/英） | / |
| キーワード(7)（和/英） | / |
| キーワード(8)（和/英） | / |
| 第1著者 氏名（和/英/ヨミ） | 本村 大成 / Taisei Motomura / モトムラ タイセイ |
| 第1著者 所属（和/英） | 産業技術総合研究所 (略称： 産総研) National Institute of Advanced Industrial Science and Technology (略称： AIST) |
| 第2著者 氏名（和/英/ヨミ） | 笠嶋 悠司 / Yuji Kasashima / カサシマ ユウジ |
| 第2著者 所属（和/英） | 産業技術総合研究所 (略称： 産総研) National Institute of Advanced Industrial Science and Technology (略称： AIST) |
| 第3著者 氏名（和/英/ヨミ） | 上杉 文彦 / Fumihiko Uesugi / ウエスギ フミヒコ |
| 第3著者 所属（和/英） | 産業技術総合研究所 (略称： 産総研) National Institute of Advanced Industrial Science and Technology (略称： AIST) |
| 第4著者 氏名（和/英/ヨミ） | 菊永 和也 / Kazuya Kikunaga / キクナガ カズヤ |
| 第4著者 所属（和/英） | 産業技術総合研究所 (略称： 産総研) National Institute of Advanced Industrial Science and Technology (略称： AIST) |
| 第5著者 氏名（和/英/ヨミ） | 福田 修 / Osamu Fukuda / フクダ オサム |
| 第5著者 所属（和/英） | 産業技術総合研究所 (略称： 産総研) National Institute of Advanced Industrial Science and Technology (略称： AIST) |
| 第6著者 氏名（和/英/ヨミ） | / / |
| 第6著者 所属（和/英） | (略称： ) (略称： ) |
| 第7著者 氏名（和/英/ヨミ） | / / |
| 第7著者 所属（和/英） | (略称： ) (略称： ) |
| 第8著者 氏名（和/英/ヨミ） | / / |
| 第8著者 所属（和/英） | (略称： ) (略称： ) |
| 第9著者 氏名（和/英/ヨミ） | / / |
| 第9著者 所属（和/英） | (略称： ) (略称： ) |
| 第10著者 氏名（和/英/ヨミ） | / / |
| 第10著者 所属（和/英） | (略称： ) (略称： ) |
| 第11著者 氏名（和/英/ヨミ） | / / |
| 第11著者 所属（和/英） | (略称： ) (略称： ) |
| 第12著者 氏名（和/英/ヨミ） | / / |
| 第12著者 所属（和/英） | (略称： ) (略称： ) |
| 第13著者 氏名（和/英/ヨミ） | / / |
| 第13著者 所属（和/英） | (略称： ) (略称： ) |
| 第14著者 氏名（和/英/ヨミ） | / / |
| 第14著者 所属（和/英） | (略称： ) (略称： ) |
| 第15著者 氏名（和/英/ヨミ） | / / |
| 第15著者 所属（和/英） | (略称： ) (略称： ) |
| 第16著者 氏名（和/英/ヨミ） | / / |
| 第16著者 所属（和/英） | (略称： ) (略称： ) |
| 第17著者 氏名（和/英/ヨミ） | / / |
| 第17著者 所属（和/英） | (略称： ) (略称： ) |
| 第18著者 氏名（和/英/ヨミ） | / / |
| 第18著者 所属（和/英） | (略称： ) (略称： ) |
| 講演者 | 第1著者 |
| 発表日時 | 2013-03-05 10:10:00 |
| 発表時間 | 25分 |
| 申込先研究会 | OME |
| 資料番号 | OME2012-91 |
| 巻番号（vol） | vol.112 |
| 号番号（no） | no.456 |
| ページ範囲 | pp.5-7 |
| ページ数 | 3 |
| 発行日 | 2013-02-26 (OME) |
[研究会発表申込システムのトップページに戻る]