講演抄録/キーワード |
講演名 |
2012-12-07 10:30
電子線照射によるSiCの正孔の各種散乱機構の変化 ○村田耕司・森根達也・松浦秀治(阪電通大)・小野田 忍・大島 武(原子力機構) SDM2012-117 エレソ技報アーカイブへのリンク:SDM2012-117 |
抄録 |
(和) |
Si (Silicon) に比べ,放射線耐性及び絶縁破壊電界が大きいSiC (Silicon Carbide) は,次世代パワーデバイスとして注目されている.しかし,半導体デバイスの設計には詳細な物性パラメータが必要であるが,Si に比べSiC は放射線耐性についての詳細なデータが少ない.そのため当研究室ではvan der Pauw 法を用いたHall 効果測定によりキャリア密度と移動度の温度依存性を測定した.その結果,高エネルギーの電子線照射によりキャリア密度と移動度の減少が起こることが分かった.本研究では,各種散乱機構の内,実験で得られた正孔の移動度の変化に最も影響を与える散乱機構を検討する. |
(英) |
SiC has advantages of higher resistance to radiation and higher breakdown electric field, compared with Si. Therefore, SiC attracts attention as a next-generation power device. Although the designs for semiconductor device structures require a lot of electrical properties in semiconductors, however, there is little information on SiC, especially related with resistance to radiation. In our laboratory, therefore, the temperature dependences of majority-carrier concentrations and mobilities in SiC have been measured by Hall-effect measurements using the van der Pauw method. As a result, it turns out that the irradiation of high-energy electrons to Al-doped SiC reduces the hole concentration and mobility. In this study, we simulate the temperature dependences of hole mobilities due to several scattering mechanisms, and discuss the hole scattering mechanism which affects the experimentally-obtained hole mobility the most. |
キーワード |
(和) |
4H-SiC / 電子線 / 移動度 / 散乱機構 / / / / |
(英) |
4H-SiC / Electron Irradiation / Mobility / Scattering Mechanisms / / / / |
文献情報 |
信学技報, vol. 112, no. 337, SDM2012-117, pp. 13-18, 2012年12月. |
資料番号 |
SDM2012-117 |
発行日 |
2012-11-30 (SDM) |
ISSN |
Print edition: ISSN 0913-5685 Online edition: ISSN 2432-6380 |
著作権に ついて |
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