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講演抄録/キーワード
講演名 2012-12-07 16:00
プロトンビームを用いた強誘電体微構造の作製
山口正樹渡辺和貴芝浦工大)・増田陽一郎八戸工大SDM2012-134 エレソ技報アーカイブへのリンク:SDM2012-134
抄録 (和) 次世代の微細加工手法であると考えられるプロトンビーム照射により,強誘電体膜へのパターン描画について検討を行なった.感光基を有するオクチル酸金属塩を原料として利用することで,750℃焼成膜において比較的平坦なc軸配向を得た.この前駆体膜に対するプロトンビーム照射において,マイクロパターンが形成されることが確認できた. 
(英) In the fabrication of micro-patterned ferroelectric bismuth titanate thin films were investigated. We use metal-octylate solutions as coating materials. Perovskite-phase bismuth titanate films without plate-like grains were formed over sintering temperature of 750 degree Celsius. Precursor micro-patterns were drawn by proton beam irradiation and development with toluene. The case of proton beam irradiation, shape of micro-patterns was just as a design.
キーワード (和) マイクロパターン / チタン酸ビスマス / プロトンビーム / オクチル酸金属塩 / / / /  
(英) Micro-Pattern / Bismuth Titanate / Proton Beam / Metal-Octylate / / / /  
文献情報 信学技報, vol. 112, no. 337, SDM2012-134, pp. 113-117, 2012年12月.
資料番号 SDM2012-134 
発行日 2012-11-30 (SDM) 
ISSN Print edition: ISSN 0913-5685  Online edition: ISSN 2432-6380
著作権に
ついて
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034)
PDFダウンロード SDM2012-134 エレソ技報アーカイブへのリンク:SDM2012-134

研究会情報
研究会 SDM  
開催期間 2012-12-07 - 2012-12-07 
開催地(和) 京都大学(桂) 
開催地(英) Kyoto Univ. (Katsura) 
テーマ(和) シリコン関連材料の作製と評価 
テーマ(英) Fabrication and Characterization of Si-related Materials and Devices 
講演論文情報の詳細
申込み研究会 SDM 
会議コード 2012-12-SDM 
本文の言語 日本語 
タイトル(和) プロトンビームを用いた強誘電体微構造の作製 
サブタイトル(和)  
タイトル(英) Fabrication of Ferroelectric Microstructures by Proton Beam Irradiation 
サブタイトル(英)  
キーワード(1)(和/英) マイクロパターン / Micro-Pattern  
キーワード(2)(和/英) チタン酸ビスマス / Bismuth Titanate  
キーワード(3)(和/英) プロトンビーム / Proton Beam  
キーワード(4)(和/英) オクチル酸金属塩 / Metal-Octylate  
キーワード(5)(和/英) /  
キーワード(6)(和/英) /  
キーワード(7)(和/英) /  
キーワード(8)(和/英) /  
第1著者 氏名(和/英/ヨミ) 山口 正樹 / Masaki Yamaguchi / ヤマグチ マサキ
第1著者 所属(和/英) 芝浦工業大学 (略称: 芝浦工大)
Shibaura Institute of Techinology (略称: Shibaura Inst. of Tech.)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) 渡辺 和貴 / Kazuki Watanabe / ワタナベ カズキ
第2著者 所属(和/英) 芝浦工業大学 (略称: 芝浦工大)
Shibaura Institute of Techinology (略称: Shibaura Inst. of Tech.)
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) 増田 陽一郎 / Yoichiro Masuda / マスダ ヨウイチロウ
第3著者 所属(和/英) 八戸工業大学 (略称: 八戸工大)
Hachinohe Institute of Techinology (略称: Hachinohe Inst. of Tech.)
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講演者
発表日時 2012-12-07 16:00:00 
発表時間 15 
申込先研究会 SDM 
資料番号 IEICE-SDM2012-134 
巻番号(vol) IEICE-112 
号番号(no) no.337 
ページ範囲 pp.113-117 
ページ数 IEICE-5 
発行日 IEICE-SDM-2012-11-30 


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