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| 講演抄録／キーワード | ||
| 講演名 | 2012-10-25 15:45 AR-XPS及びHAX-PESによるSiO2/SiC界面の化学結合状態評価 ○岡田葉月・小松 新・渡辺将人（東京都市大）・泉 雄大・室 隆圭介（高輝度光科学研究センター）・澤野憲太郎・野平博司（東京都市大）  SDM2012-90 エレソ技報アーカイブへのリンク：SDM2012-90 |
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| 抄録 | （和） | 我々は、SPring-8のBL27SUでSiO2/SiCの角度分解X線光電子分光(AR-XPS)測定とエッチングにより酸化膜厚を変化させたSiO2/SiC界面構造を硬X線光電子分光法（HAX-PES）により調べた。これら測定から、SiO2/SiC界面にはサブオキサイドが存在することを見出した。また、SiC中のC-C結合およびSiO2中の炭素に起因すると考えられる信号を見出した。 |
| （英） | (Not available yet) | |
| キーワード | （和） | SiC / SiO2/SiC界面 / XPS / AR-XPS / HAX-PES / / / |
| （英） | SiC / SiO2/SiC / XPS / AR-XPS / HAX-PES / / / | |
| 文献情報 | 信学技報, vol. 112, no. 263, SDM2012-90, pp. 5-9, 2012年10月. | |
| 資料番号 | SDM2012-90 | |
| 発行日 | 2012-10-18 (SDM) | |
| ISSN | Print edition: ISSN 0913-5685 Online edition: ISSN 2432-6380 | |
| 著作権に ついて |
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します．(許諾番号：10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034) | |
| PDFダウンロード | SDM2012-90 エレソ技報アーカイブへのリンク：SDM2012-90 |
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| 研究会情報 | |
| 研究会 | SDM |
| 開催期間 | 2012-10-25 - 2012-10-26 |
| 開催地（和） | 東北大学未来研 |
| 開催地（英） | Tohoku Univ. (Niche) |
| テーマ（和） | プロセス科学と新プロセス技術 |
| テーマ（英） | Process science and new process technologies |
| 講演論文情報の詳細 | |
| 申込み研究会 | SDM |
| 会議コード | 2012-10-SDM |
| 本文の言語 | 日本語 |
| タイトル（和） | AR-XPS及びHAX-PESによるSiO2/SiC界面の化学結合状態評価 |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | AR-XPS and HAX-PES Studies on Chemical bonding states at SiO2/SiC Interfaces |
| サブタイトル（英） | |
| キーワード(1)（和/英） | SiC / SiC |
| キーワード(2)（和/英） | SiO2/SiC界面 / SiO2/SiC |
| キーワード(3)（和/英） | XPS / XPS |
| キーワード(4)（和/英） | AR-XPS / AR-XPS |
| キーワード(5)（和/英） | HAX-PES / HAX-PES |
| キーワード(6)（和/英） | / |
| キーワード(7)（和/英） | / |
| キーワード(8)（和/英） | / |
| 第1著者 氏名（和/英/ヨミ） | 岡田 葉月 / Hazuki Okada / オカダ ハヅキ |
| 第1著者 所属（和/英） | 東京都市大学 (略称： 東京都市大) Tokyo City University (略称： Tokyo City Univ.) |
| 第2著者 氏名（和/英/ヨミ） | 小松 新 / Arata Komatsu / コマツ アラタ |
| 第2著者 所属（和/英） | 東京都市大学 (略称： 東京都市大) Tokyo City University (略称： Tokyo City Univ.) |
| 第3著者 氏名（和/英/ヨミ） | 渡辺 将人 / Masato Watanabe / ワタナベ マサト |
| 第3著者 所属（和/英） | 東京都市大学 (略称： 東京都市大) Tokyo City University (略称： Tokyo City Univ.) |
| 第4著者 氏名（和/英/ヨミ） | 泉 雄大 / Yudai Izumi / イズミ ユウダイ |
| 第4著者 所属（和/英） | (財)高輝度光科学研究センター (略称： 高輝度光科学研究センター) Japan Synchrotron Radiation Research Institute (略称： JASRI) |
| 第5著者 氏名（和/英/ヨミ） | 室 隆圭介 / Takayuki Muro / ムロ タカユキ |
| 第5著者 所属（和/英） | (財)高輝度光科学研究センター (略称： 高輝度光科学研究センター) Japan Synchrotron Radiation Research Institute (略称： JASRI) |
| 第6著者 氏名（和/英/ヨミ） | 澤野 憲太郎 / Kentaro Sawano / サワノ ケンタロウ |
| 第6著者 所属（和/英） | 東京都市大学 (略称： 東京都市大) Tokyo City University (略称： Tokyo City Univ.) |
| 第7著者 氏名（和/英/ヨミ） | 野平 博司 / Hiroshi Nohira / ノヒラ ヒロシ |
| 第7著者 所属（和/英） | 東京都市大学 (略称： 東京都市大) Tokyo City University (略称： Tokyo City Univ.) |
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| 講演者 | 第1著者 |
| 発表日時 | 2012-10-25 15:45:00 |
| 発表時間 | 25分 |
| 申込先研究会 | SDM |
| 資料番号 | SDM2012-90 |
| 巻番号（vol） | vol.112 |
| 号番号（no） | no.263 |
| ページ範囲 | pp.5-9 |
| ページ数 | 5 |
| 発行日 | 2012-10-18 (SDM) |
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