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| 講演抄録／キーワード | ||
| 講演名 | 2012-10-22 14:25 レーザ誘起応力波による細胞への影響と外来物質の取り込み ○竹内光恵・小木美恵子・會澤康治・西村 駿・木村政尊・西脇基晃・得永嘉昭（金沢工大）  US2012-64 |
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| 抄録 | （和） | 我々はこれまで、QスイッチNd:YAGパルスレーザによるレーザ誘起応力波(Laser induced emergent stress wave : LIESW)を用いた細胞への遺伝子導入の開発を行ってきた。しかし、LIESWによる遺伝子導入効率は数%と低く、まだ、解決しなければいけない問題が多くある。そこで、本研究では、この低い導入効率を向上させるための基礎研究として、光吸収体である黒色ゴムの厚さを変化させて、異なる波形のLIESWを発生させ、それぞれのLIESWが細胞の接着状態や外来物質の取り込みに及ぼす影響を調べた。 |
| （英） | We have developed a method of the gene transfection that has used the laser induced emergent stress wave (LIESW) generating by the Q-switch Nd:YAG pulse laser. However, the transfection efficiency used LIESW has been low. We need improve many problems to establish a way with much higher efficiency. Therefore, in this study, we used some thickness natural rubber. We examined the effect and transfer of the foreign substance on HeLa cells by the acoustic signature of LIESW. | |
| キーワード | （和） | Nd:YAGレーザ / LIESW / FITCデキストラン / / / / / |
| （英） | Nd:YAG laser / LIESW / FITCdextran / / / / / | |
| 文献情報 | 信学技報, vol. 112, no. 254, US2012-64, pp. 5-8, 2012年10月. | |
| 資料番号 | US2012-64 | |
| 発行日 | 2012-10-15 (US) | |
| ISSN | Print edition: ISSN 0913-5685 Online edition: ISSN 2432-6380 | |
| 著作権に ついて |
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します．(許諾番号：10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034) | |
| PDFダウンロード | US2012-64 |
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| 研究会情報 | |
| 研究会 | US |
| 開催期間 | 2012-10-22 - 2012-10-22 |
| 開催地（和） | 金沢工大 |
| 開催地（英） | Kanazawa Inst. Tech. |
| テーマ（和） | 一般 |
| テーマ（英） | General |
| 講演論文情報の詳細 | |
| 申込み研究会 | US |
| 会議コード | 2012-10-US |
| 本文の言語 | 日本語 |
| タイトル（和） | レーザ誘起応力波による細胞への影響と外来物質の取り込み |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Transfer of FITC dextran by LIESW on HeLa cells |
| サブタイトル（英） | |
| キーワード(1)（和/英） | Nd:YAGレーザ / Nd:YAG laser |
| キーワード(2)（和/英） | LIESW / LIESW |
| キーワード(3)（和/英） | FITCデキストラン / FITCdextran |
| キーワード(4)（和/英） | / |
| キーワード(5)（和/英） | / |
| キーワード(6)（和/英） | / |
| キーワード(7)（和/英） | / |
| キーワード(8)（和/英） | / |
| 第1著者 氏名（和/英/ヨミ） | 竹内 光恵 / Terue Takeuchi / タケウチ テルエ |
| 第1著者 所属（和/英） | 金沢工業大学 (略称： 金沢工大) Kanazawa Institute of Technology (略称： KIT) |
| 第2著者 氏名（和/英/ヨミ） | 小木 美恵子 / Mieko Kogi / コギ ミエコ |
| 第2著者 所属（和/英） | 金沢工業大学 (略称： 金沢工大) Kanazawa Institute of Technology (略称： KIT) |
| 第3著者 氏名（和/英/ヨミ） | 會澤 康治 / Koji Aizawa / アイザワ コウジ |
| 第3著者 所属（和/英） | 金沢工業大学 (略称： 金沢工大) Kanazawa Institute of Technology (略称： KIT) |
| 第4著者 氏名（和/英/ヨミ） | 西村 駿 / Syun Nishimura / ニシムラ シュン |
| 第4著者 所属（和/英） | 金沢工業大学 (略称： 金沢工大) Kanazawa Institute of Technology (略称： KIT) |
| 第5著者 氏名（和/英/ヨミ） | 木村 政尊 / Masataka Kimura / キムラ マサタカ |
| 第5著者 所属（和/英） | 金沢工業大学 (略称： 金沢工大) Kanazawa Institute of Technology (略称： KIT) |
| 第6著者 氏名（和/英/ヨミ） | 西脇 基晃 / Motoaki Nishiwaki / ニシワキ モトアキ |
| 第6著者 所属（和/英） | 金沢工業大学 (略称： 金沢工大) Kanazawa Institute of Technology (略称： KIT) |
| 第7著者 氏名（和/英/ヨミ） | 得永 嘉昭 / Yoshiaki Tokunaga / トクナガ ヨシアキ |
| 第7著者 所属（和/英） | 金沢工業大学 (略称： 金沢工大) Kanazawa Institute of Technology (略称： KIT) |
| 第8著者 氏名（和/英/ヨミ） | / / |
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| 講演者 | 第1著者 |
| 発表日時 | 2012-10-22 14:25:00 |
| 発表時間 | 25分 |
| 申込先研究会 | US |
| 資料番号 | US2012-64 |
| 巻番号（vol） | vol.112 |
| 号番号（no） | no.254 |
| ページ範囲 | pp.5-8 |
| ページ数 | 4 |
| 発行日 | 2012-10-15 (US) |
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