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講演抄録/キーワード
講演名 2012-08-09 10:15
DC-RFマグネトロンスパッタ法におけるCr2O3薄膜の作製
中村拓未黒田卓司岩田展幸山本 寛日大CPM2012-46 エレソ技報アーカイブへのリンク:CPM2012-46
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文献情報 信学技報, vol. 112, no. 175, CPM2012-46, pp. 55-59, 2012年8月.
資料番号 CPM2012-46 
発行日 2012-08-01 (CPM) 
ISSN Print edition: ISSN 0913-5685  Online edition: ISSN 2432-6380
著作権に
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研究会情報
研究会 CPM  
開催期間 2012-08-08 - 2012-08-09 
開催地(和) 山形大学工学部100周年記念会館セミナー室 
開催地(英)  
テーマ(和) 電子部品・材料,一般 
テーマ(英)  
講演論文情報の詳細
申込み研究会 CPM 
会議コード 2012-08-CPM 
本文の言語 日本語 
タイトル(和) DC-RFマグネトロンスパッタ法におけるCr2O3薄膜の作製 
サブタイトル(和)  
タイトル(英) Production of Cr2O3 thin film using the DC-RF magnetron sputtering method 
サブタイトル(英)  
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第1著者 氏名(和/英/ヨミ) 中村 拓未 / Takumi Nakamura / ナカムラ タクミ
第1著者 所属(和/英) 日本大学 (略称: 日大)
Nihon University (略称: Nihon Univ.)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) 黒田 卓司 / Takuji Kuroda / クロダ タクジ
第2著者 所属(和/英) 日本大学 (略称: 日大)
Nihon University (略称: Nihon Univ.)
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) 岩田 展幸 / Nobuyuki Iwata / イワタ ノブユキ
第3著者 所属(和/英) 日本大学 (略称: 日大)
Nihon University (略称: Nihon Univ.)
第4著者 氏名(和/英/ヨミ) 山本 寛 / Hiroshi Yamamoto / ヤマモト ヒロシ
第4著者 所属(和/英) 日本大学 (略称: 日大)
Nihon University (略称: Nihon Univ.)
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講演者
発表日時 2012-08-09 10:15:00 
発表時間 25 
申込先研究会 CPM 
資料番号 IEICE-CPM2012-46 
巻番号(vol) IEICE-112 
号番号(no) no.175 
ページ範囲 pp.55-59 
ページ数 IEICE-5 
発行日 IEICE-CPM-2012-08-01 


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