講演抄録/キーワード |
講演名 |
2012-08-02 10:00
SRAMセル安定性の一括ポストファブリケーション自己修復技術 ○クマール アニール・更屋拓哉(東大)・宮野信治(半導体理工学研究センター)・平本俊郎(東大) SDM2012-65 ICD2012-33 エレソ技報アーカイブへのリンク:SDM2012-65 ICD2012-33 |
抄録 |
(和) |
電源電圧線(VDD)へ高電圧ストレスを製造後に印加することにより,SRAMセルの安定性が自己修復することを1kビットのSRAM DMA TEGで実証した.個々のトランジスタのVTHシフトを調べた結果,セルのLOW側ノードに接続されているPMOSの|VTH|がストレス印加により低下していることを新たに発見し,このVTHシフトがSRAM自己修復に大きく貢献していることを初めて明らかにした. |
(英) |
The post fabrication technique for self-improvement of SRAM cell stability is validated by experiment using 1k DMA SRAM TEG array. It is shown that the stability of unbalance cells is automatically improved by merely applying stress voltage to VDD terminal. The mechanism of the phenomena is also analyzed by measuring VTH of all transistors before and after stress and it is newly found that |VTH| of the weaker PFET connected to the LOW node in the cell is selectively lowered by the self-improve mechanism and this |VTH| shift largely contributes to the self-improvement. |
キーワード |
(和) |
しきい値電圧 / CMOS / SRAM / / / / / |
(英) |
Threshold Voltage / CMOS / SRAM / / / / / |
文献情報 |
信学技報, vol. 112, no. 169, SDM2012-65, pp. 13-16, 2012年8月. |
資料番号 |
SDM2012-65 |
発行日 |
2012-07-26 (SDM, ICD) |
ISSN |
Print edition: ISSN 0913-5685 Online edition: ISSN 2432-6380 |
著作権に ついて |
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034) |
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