お知らせ 2023年度・2024年度 学生員 会費割引キャンペーン実施中です
お知らせ 技術研究報告と和文論文誌Cの同時投稿施策(掲載料1割引き)について
お知らせ 電子情報通信学会における研究会開催について
お知らせ NEW 参加費の返金について
電子情報通信学会 研究会発表申込システム
講演論文 詳細
技報閲覧サービス
[ログイン]
技報アーカイブ
 トップに戻る 前のページに戻る   [Japanese] / [English] 

講演抄録/キーワード
講演名 2012-04-19 10:15
P3HT/n-Si有機無機ヘテロ接合ダイオードにおける界面処理の電気特性への影響
大山直樹金子 翔鹿又健作廣瀬文彦山形大ED2012-14 エレソ技報アーカイブへのリンク:ED2012-14
抄録 (和) スピンコート法でP3HT/n-Siヘテロ接合ダイオードを製作し、I-V測定で電気的特性を評価した。このプロセスに対して、Si表面の前処理としてSiC処理、スピンコート後の処理としてHF酸浸漬処理を試験したところ、いずれの処理でも順方向電流の増強が見られた。XPS分析によると、各処理によってヘテロ界面での層間膜SiOxの膜厚が異なり、膜厚を抑えることが順方向電流の特性改善に関与している可能性が示された。MIS構造の解析モデルであるCardらのモデルを用いて測定した特性を解析しモデルの妥当性の検討を行った。 
(英) Current density–voltage (J-V) characteristics of P3HT/n-silicon heterojunction were investigated to evaluate electrical characteristics of the organic/inorganic heterojunction diodes. The diodes were fabricated by P3HT spin coating processes with surface treatments of SiC and HF treatments. The forward current density was enhanced by the treatments. The thicknesses of oxide layer between the P3HT film and the n-Si substrate strongly depends on the treatments. Effects of interfacial oxide layer of these heterojunction diodes on carrier transport properties were discussed with Card model.
キーワード (和) フレキシブル素子 / ヘテロ接合 / ショットキーダイオード / ポリ(3-ヘキシルチオフェン) / / / /  
(英) flexible device / heterojunction / Schottky diode / poly(3-hexylthiophene) / / / /  
文献情報 信学技報, vol. 112, no. 5, ED2012-14, pp. 59-64, 2012年4月.
資料番号 ED2012-14 
発行日 2012-04-11 (ED) 
ISSN Print edition: ISSN 0913-5685    Online edition: ISSN 2432-6380
著作権に
ついて
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034)
PDFダウンロード ED2012-14 エレソ技報アーカイブへのリンク:ED2012-14

研究会情報
研究会 ED  
開催期間 2012-04-18 - 2012-04-19 
開催地(和) 山形大学工学部 百周年記念会館大会議室 
開催地(英) Yamagata University 
テーマ(和) TFT(有機,酸化物),一般 
テーマ(英) TFT(organic matters, oxides), others 
講演論文情報の詳細
申込み研究会 ED 
会議コード 2012-04-ED 
本文の言語 日本語 
タイトル(和) P3HT/n-Si有機無機ヘテロ接合ダイオードにおける界面処理の電気特性への影響 
サブタイトル(和)  
タイトル(英) Effects of interfacial oxide layer of P3HT/n-Si organic/inorganic heterojunction diode on carrier transport properties 
サブタイトル(英)  
キーワード(1)(和/英) フレキシブル素子 / flexible device  
キーワード(2)(和/英) ヘテロ接合 / heterojunction  
キーワード(3)(和/英) ショットキーダイオード / Schottky diode  
キーワード(4)(和/英) ポリ(3-ヘキシルチオフェン) / poly(3-hexylthiophene)  
キーワード(5)(和/英) /  
キーワード(6)(和/英) /  
キーワード(7)(和/英) /  
キーワード(8)(和/英) /  
第1著者 氏名(和/英/ヨミ) 大山 直樹 / Naoki Oyama / オオヤマ ナオキ
第1著者 所属(和/英) 山形大学 (略称: 山形大)
Yamagata University (略称: Yamagata Univ.)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) 金子 翔 / Sho Kaneko / カネコ ショウ
第2著者 所属(和/英) 山形大学 (略称: 山形大)
Yamagata University (略称: Yamagata Univ.)
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) 鹿又 健作 / Kensaku Kanomata / カノマタ ケンサク
第3著者 所属(和/英) 山形大学 (略称: 山形大)
Yamagata University (略称: Yamagata Univ.)
第4著者 氏名(和/英/ヨミ) 廣瀬 文彦 / Fumihiko Hirose / ヒロセ フミヒコ
第4著者 所属(和/英) 山形大学 (略称: 山形大)
Yamagata University (略称: Yamagata Univ.)
第5著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第5著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第6著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第6著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第7著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第7著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第8著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第8著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第9著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第9著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第10著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第10著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第11著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第11著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第12著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第12著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第13著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第13著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第14著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第14著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第15著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第15著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第16著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第16著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第17著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第17著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第18著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第18著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第19著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第19著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第20著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第20著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
講演者 第1著者 
発表日時 2012-04-19 10:15:00 
発表時間 25分 
申込先研究会 ED 
資料番号 ED2012-14 
巻番号(vol) vol.112 
号番号(no) no.5 
ページ範囲 pp.59-64 
ページ数
発行日 2012-04-11 (ED) 


[研究会発表申込システムのトップページに戻る]

[電子情報通信学会ホームページ]


IEICE / 電子情報通信学会