講演抄録/キーワード |
講演名 |
2012-04-19 10:15
P3HT/n-Si有機無機ヘテロ接合ダイオードにおける界面処理の電気特性への影響 ○大山直樹・金子 翔・鹿又健作・廣瀬文彦(山形大) ED2012-14 エレソ技報アーカイブへのリンク:ED2012-14 |
抄録 |
(和) |
スピンコート法でP3HT/n-Siヘテロ接合ダイオードを製作し、I-V測定で電気的特性を評価した。このプロセスに対して、Si表面の前処理としてSiC処理、スピンコート後の処理としてHF酸浸漬処理を試験したところ、いずれの処理でも順方向電流の増強が見られた。XPS分析によると、各処理によってヘテロ界面での層間膜SiOxの膜厚が異なり、膜厚を抑えることが順方向電流の特性改善に関与している可能性が示された。MIS構造の解析モデルであるCardらのモデルを用いて測定した特性を解析しモデルの妥当性の検討を行った。 |
(英) |
Current density–voltage (J-V) characteristics of P3HT/n-silicon heterojunction were investigated to evaluate electrical characteristics of the organic/inorganic heterojunction diodes. The diodes were fabricated by P3HT spin coating processes with surface treatments of SiC and HF treatments. The forward current density was enhanced by the treatments. The thicknesses of oxide layer between the P3HT film and the n-Si substrate strongly depends on the treatments. Effects of interfacial oxide layer of these heterojunction diodes on carrier transport properties were discussed with Card model. |
キーワード |
(和) |
フレキシブル素子 / ヘテロ接合 / ショットキーダイオード / ポリ(3-ヘキシルチオフェン) / / / / |
(英) |
flexible device / heterojunction / Schottky diode / poly(3-hexylthiophene) / / / / |
文献情報 |
信学技報, vol. 112, no. 5, ED2012-14, pp. 59-64, 2012年4月. |
資料番号 |
ED2012-14 |
発行日 |
2012-04-11 (ED) |
ISSN |
Print edition: ISSN 0913-5685 Online edition: ISSN 2432-6380 |
著作権に ついて |
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034) |
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