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講演抄録/キーワード
講演名 2012-02-17 12:50
Si片持ち梁の貼り付き現象に与えるプロセス最終処理の影響
加藤一郎加藤真耶JAXAR2011-45 EMD2011-119 エレソ技報アーカイブへのリンク:EMD2011-119
抄録 (和) MEMSデバイスの開発は近年飛躍的に進み、宇宙適用に大きな期待が寄せられている。我々は特に期待されているMEMS-RFスイッチの信頼性を検証するため、スティクションのメカニズム解析を行った。
片持ち梁部分の幅・長さ・厚さや、プロセスの最終工程である乾燥方法を変化させた結果、スティクション形状が梁幅によって異なるということが明らかとなった。またIPAと水では梁下における液体蒸発の進行が異なることも観察された。さらに梁の先端が下向きになるようTEGチップを垂直に立てて、水平乾燥の場合と比較することで貼り付き現象の知見を得た。
プロセス終了後のMEMS貼り付きを制御するためには、寸法やTEG間隔に応じた乾燥手法の見極めが重要である。 
(英) Although the beam stiction theories predict the stiction shape that depend on the length and thickness and post-height, the shape analysis of cantilever beam leads to the fact that both S-type shape stiction and that of nearly detaching shape stiction occur in beams of different widths.
To investigate the process dependency, another rinsing liquid and air-drying layout are adopted in this work. It is important to ascertain the most suitable drying method for the beams of different dimensions and interval.
キーワード (和) MEMS / 片持ち梁 / カンチレバー / スティクション / 貼り付き / 水平乾燥 / 垂直乾燥 / RF-SW  
(英) MEMS / Single supported beam / Cantilever / Stiction / Adhesion / Drying treatment / RF-SW /  
文献情報 信学技報, vol. 111, no. 439, EMD2011-119, pp. 19-23, 2012年2月.
資料番号 EMD2011-119 
発行日 2012-02-10 (R, EMD) 
ISSN Print edition: ISSN 0913-5685    Online edition: ISSN 2432-6380
著作権に
ついて
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034)
PDFダウンロード R2011-45 EMD2011-119 エレソ技報アーカイブへのリンク:EMD2011-119

研究会情報
研究会 EMD R  
開催期間 2012-02-17 - 2012-02-17 
開催地(和) オムロンラーニングセンタ 
開催地(英)  
テーマ(和) 機構デバイスの信頼性,信頼性一般 (共催:継電器・コンタクトテクノロジ研究会,協賛:IEEE CPMT JAPAN) 
テーマ(英)  
講演論文情報の詳細
申込み研究会 EMD 
会議コード 2012-02-EMD-R 
本文の言語 日本語 
タイトル(和) Si片持ち梁の貼り付き現象に与えるプロセス最終処理の影響 
サブタイトル(和)  
タイトル(英) Influence of Final treatment on the Sticking figure of Silicon Cantilever-beam 
サブタイトル(英)  
キーワード(1)(和/英) MEMS / MEMS  
キーワード(2)(和/英) 片持ち梁 / Single supported beam  
キーワード(3)(和/英) カンチレバー / Cantilever  
キーワード(4)(和/英) スティクション / Stiction  
キーワード(5)(和/英) 貼り付き / Adhesion  
キーワード(6)(和/英) 水平乾燥 / Drying treatment  
キーワード(7)(和/英) 垂直乾燥 / RF-SW  
キーワード(8)(和/英) RF-SW /  
第1著者 氏名(和/英/ヨミ) 加藤 一郎 / Ichiroh Katoh / カトウ イチロウ
第1著者 所属(和/英) 宇宙航空研究開発機構 (略称: JAXA)
Japan Aerospace Exploration Agency (略称: JAXA)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) 加藤 真耶 / Maya Kato / カトウ マヤ
第2著者 所属(和/英) 宇宙航空研究開発機構 (略称: JAXA)
Japan Aerospace Exploration Agency (略称: JAXA)
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講演者 第1著者 
発表日時 2012-02-17 12:50:00 
発表時間 25分 
申込先研究会 EMD 
資料番号 R2011-45, EMD2011-119 
巻番号(vol) vol.111 
号番号(no) no.438(R), no.439(EMD) 
ページ範囲 pp.19-23 
ページ数
発行日 2012-02-10 (R, EMD) 


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