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講演抄録/キーワード
講演名 2011-12-16 14:00
ゲル-ナノインプリントプロセスによるZnO-2次元フォトニック結晶の作製
張 敏荒木慎司呂 莉堀田昌宏西田貴司石河泰明浦岡行治奈良先端大SDM2011-140 エレソ技報アーカイブへのリンク:SDM2011-140
抄録 (和) 本研究では、プリント技術によるナノ構造体を持った酸化亜鉛(ZnO)形成を目指し、スピンコート法を利用したZnOゲル膜形成およびナノインプリント法によるZnOゲル膜のパターニングプロセスを検討し、2Dフォトニック結晶構造の作製を試みた。ZnOゲル膜はゾル-ゲル前駆体溶液をガラス基板上に塗布し、乾燥温度を80 ℃から250 ℃まで変化させることで形成した。180 ℃と220 ℃で乾燥させたZnOゲル膜に対してのみパターン転写が確認された。また220 ℃乾燥サンプルには、明瞭な転写パターンが見られ、220 ℃乾燥サンプルの表面像および断面像観察により、転写パターン幅とモールド幅の一致が確認された。ZnO膜を酸素及び大気中で焼成し、その結晶構造・屈折率を評価したところ、同程度のランダム配向を有す一方、酸素焼成ZnO膜がより高い屈折率(1.92)を有していることがわかった。 
(英) In this research, 2D-photonic-crystal ZnO films were fabricated using sol-gel spin-coating and nanoimprint lithography (NIL) processes. The temperatures for drying of the precursor coated on the glass substrate were set to 80-250 ℃ to evaporate the solvent. It was succeeded that the NIL patterning process was replicated only the samples which were heated at 180 and 220 ℃. However, the 220 ℃ heating process produced clear pattern which fitted the PDMS mold design very well. The ZnO films were annealed in oxygen and air atmosphere after patterned, in order to examine the dependence of the annealing conditions. The both of them showed same wurtzite structure. However the film annealed in oxygen atmosphere exhibited higher refractive index of 1.92 (at 790 nm) which closes to that of conventional ZnO film.
キーワード (和) 酸化亜鉛 / ゾル-ゲル溶液 / ナノインプリント法 / スピンコート法 / / / /  
(英) ZnO / Sol-gel / Nanoimprint lithography / Spin-coating / / / /  
文献情報 信学技報, vol. 111, no. 357, SDM2011-140, pp. 43-46, 2011年12月.
資料番号 SDM2011-140 
発行日 2011-12-09 (SDM) 
ISSN Print edition: ISSN 0913-5685  Online edition: ISSN 2432-6380
著作権に
ついて
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PDFダウンロード SDM2011-140 エレソ技報アーカイブへのリンク:SDM2011-140

研究会情報
研究会 SDM  
開催期間 2011-12-16 - 2011-12-16 
開催地(和) 奈良先端科学技術大学院大学 
開催地(英) NAIST 
テーマ(和) シリコン関連材料の作製と評価 
テーマ(英) Fabrication and Evaluation of Silicon related Materials 
講演論文情報の詳細
申込み研究会 SDM 
会議コード 2011-12-SDM 
本文の言語 日本語 
タイトル(和) ゲル-ナノインプリントプロセスによるZnO-2次元フォトニック結晶の作製 
サブタイトル(和)  
タイトル(英) Fabrication of 2D Photonic-Crystal by ZnO using Gel-Nanoimprint Process 
サブタイトル(英)  
キーワード(1)(和/英) 酸化亜鉛 / ZnO  
キーワード(2)(和/英) ゾル-ゲル溶液 / Sol-gel  
キーワード(3)(和/英) ナノインプリント法 / Nanoimprint lithography  
キーワード(4)(和/英) スピンコート法 / Spin-coating  
キーワード(5)(和/英) /  
キーワード(6)(和/英) /  
キーワード(7)(和/英) /  
キーワード(8)(和/英) /  
第1著者 氏名(和/英/ヨミ) 張 敏 / Min Zhang / チョウ ビン
第1著者 所属(和/英) 奈良先端科学技術大学院大学 (略称: 奈良先端大)
Nara Institute of Science and Technology (略称: NAIST)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) 荒木 慎司 / Shinji Araki / アラキ シンジ
第2著者 所属(和/英) 奈良先端科学技術大学院大学 (略称: 奈良先端大)
Nara Institute of Science and Technology (略称: NAIST)
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) 呂 莉 / Li Lu / ロ リ
第3著者 所属(和/英) 奈良先端科学技術大学院大学 (略称: 奈良先端大)
Nara Institute of Science and Technology (略称: NAIST)
第4著者 氏名(和/英/ヨミ) 堀田 昌宏 / Masahiro Horita / ホリタ マサヒロ
第4著者 所属(和/英) 奈良先端科学技術大学院大学 (略称: 奈良先端大)
Nara Institute of Science and Technology (略称: NAIST)
第5著者 氏名(和/英/ヨミ) 西田 貴司 / Takashi Nishida / ニシダ タカシ
第5著者 所属(和/英) 奈良先端科学技術大学院大学 (略称: 奈良先端大)
Nara Institute of Science and Technology (略称: NAIST)
第6著者 氏名(和/英/ヨミ) 石河 泰明 / Yasuaki Ishikawa / イシカワ ヤスアキ
第6著者 所属(和/英) 奈良先端科学技術大学院大学 (略称: 奈良先端大)
Nara Institute of Science and Technology (略称: NAIST)
第7著者 氏名(和/英/ヨミ) 浦岡 行治 / Yukiharu Uraoka / ウラオカ ユキハル
第7著者 所属(和/英) 奈良先端科学技術大学院大学 (略称: 奈良先端大)
Nara Institute of Science and Technology (略称: NAIST)
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講演者
発表日時 2011-12-16 14:00:00 
発表時間 20 
申込先研究会 SDM 
資料番号 IEICE-SDM2011-140 
巻番号(vol) IEICE-111 
号番号(no) no.357 
ページ範囲 pp.43-46 
ページ数 IEICE-4 
発行日 IEICE-SDM-2011-12-09 


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