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| 講演抄録／キーワード | ||
| 講演名 | 2011-11-29 17:00 ［基調講演］リソグラフィの歴史と今後の展望 ○野嶋茂樹（東芝）  VLD2011-81 CPM2011-161 ICD2011-93 CPSY2011-48 DC2011-57 RECONF2011-49 エレソ技報アーカイブへのリンク：CPM2011-161 ICD2011-93 |
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| 抄録 | （和） | リソグラフィ技術は，半導体を微細化するために大きな役割を担ってきた技術の一つである．例えばリソグラフィ工程で用いられる露光装置は，露光波長の短波長化，レンズの大口径化を進めることにより微細化要求に応えてきた．しかしながらパタンの微細化が進むにつれてリソグラフィ技術単独ではその要求に応えることができなくなってきている．このため導入された考え方が全体最適化技術である．全体最適化技術とは，小さい範囲では複数の評価指標，大きくは複数の技術分野を同時に考慮することにより，微細化や歩留まり等の観点でより優れた技術を提 供するものである．DFM(design for manufacturability) は，設計と製造という複数の技術分野を考慮する総合最適化技術の一つであると位置付けることが可能である．本発表ではリソグラフィ技術と微細化の進化について概観すると同時に，全体最適化技術についてこれまでの事例を交えながら議論を行う．さらには現在から将来におけるリソグラフィ技術の動向を鑑み，全体最適化技術がどのように対応していくべきかについて議論する． |
| （英） | Lithography is one of the key technologies for semiconductor device shrink. For example, wave length becomes shorter and numerical aperture becomes larger with advanced exposure tools to meet the device shrink requirements. However, as the device shrink continues, it is harder to meet the requirements by lithography technology only. This is the reason why total optimization concept is introduced. The concept considers several metrics and/or several different technologies at the same time to improve a yield and to reduce a pattern size. DFM is one of the total optimization methods and it provides a layout methodology corresponding to process performance. In this paper, we will review the history of lithography and device shrink trend and also will discuss the total optimization concept along with several examples which the proposed concept is applied to. Furthermore we will discuss the goal of total optimization concept with the future trend of lithography technology. |
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| キーワード | （和） | リソグラフィ / Design for manufacturability / DFM / 全体最適化技術 / / / / |
| （英） | lithography / Design for manufacturability / DFM / Total optimization / / / / | |
| 文献情報 | 信学技報, vol. 111, no. 324, VLD2011-81, pp. 171-171, 2011年11月. | |
| 資料番号 | VLD2011-81 | |
| 発行日 | 2011-11-21 (VLD, CPM, ICD, DC, RECONF), 2011-11-22 (CPSY) | |
| ISSN | Print edition: ISSN 0913-5685 Online edition: ISSN 2432-6380 | |
| 著作権に ついて |
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します．(許諾番号：10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034) | |
| PDFダウンロード | VLD2011-81 CPM2011-161 ICD2011-93 CPSY2011-48 DC2011-57 RECONF2011-49 エレソ技報アーカイブへのリンク：CPM2011-161 ICD2011-93 |
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| 研究会情報 | |
| 研究会 | VLD DC IPSJ-SLDM CPSY RECONF ICD CPM |
| 開催期間 | 2011-11-28 - 2011-11-30 |
| 開催地（和） | ニューウェルシティ宮崎 |
| 開催地（英） | NewWelCity Miyazaki |
| テーマ（和） | デザインガイア2011 -VLSI設計の新しい大地― |
| テーマ（英） | Design Gaia 2010 -New Field of VLSI Design- |
| 講演論文情報の詳細 | |
| 申込み研究会 | VLD |
| 会議コード | 2011-11-VLD-DC-SLDM-CPSY-RECONF-ICD-CPM |
| 本文の言語 | 日本語 |
| タイトル（和） | リソグラフィの歴史と今後の展望 |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Lithography : past, present, and future |
| サブタイトル（英） | |
| キーワード(1)（和/英） | リソグラフィ / lithography |
| キーワード(2)（和/英） | Design for manufacturability / Design for manufacturability |
| キーワード(3)（和/英） | DFM / DFM |
| キーワード(4)（和/英） | 全体最適化技術 / Total optimization |
| キーワード(5)（和/英） | / |
| キーワード(6)（和/英） | / |
| キーワード(7)（和/英） | / |
| キーワード(8)（和/英） | / |
| 第1著者 氏名（和/英/ヨミ） | 野嶋 茂樹 / Shigeki Nojima / ノジマ シゲキ |
| 第1著者 所属（和/英） | 株式会社 東芝 (略称： 東芝) TOSHIBA Corporation (略称： Toshiba) |
| 第2著者 氏名（和/英/ヨミ） | / / |
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| 講演者 | 第1著者 |
| 発表日時 | 2011-11-29 17:00:00 |
| 発表時間 | 60分 |
| 申込先研究会 | VLD |
| 資料番号 | VLD2011-81, CPM2011-161, ICD2011-93, CPSY2011-48, DC2011-57, RECONF2011-49 |
| 巻番号（vol） | vol.111 |
| 号番号（no） | no.324(VLD), no.326(CPM), no.327(ICD), no.328(CPSY), no.325(DC), no.323(RECONF) |
| ページ範囲 | p.171(VLD), p.65(CPM), p.65(ICD), p.33(CPSY), p.171(DC), p.45(RECONF) |
| ページ数 | 1 |
| 発行日 | 2011-11-21 (VLD, CPM, ICD, DC, RECONF), 2011-11-22 (CPSY) |
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