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| 講演抄録／キーワード | ||
| 講演名 | 2011-11-29 13:00 超微細化を実現する側壁ダブルパターニングのためのレイアウト設計手法 ○児玉親亮・中山幸一・小谷敏也・野嶋茂樹・三本木省次・宮本晋示（東芝）  VLD2011-76 DC2011-52 |
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| 抄録 | （和） | 光リソグラフィの限界を超えたパターンを露光するために近年様々な技術が提案されており，その代表的なものにダブルパターニング技術がある．ダブルパターニング技術にはピッチスプリットと側壁ダブルパターニングの2つがあり，後者の側壁ダブルパターニングは側壁加工技術を用いて光リソグラフィでは露光できないサイズおよびピッチのパターンを形成する技術である． しかし側壁加工技術には，リソグラフィで露光するマスクパターンと最終的にシリコンウェハ上に形成される回路パターンが異なるという特徴があり，設計者は最終的な回路パターンを想定しながらマスクに描画するパターンを設計しなければならなず，これはとても困難な作業である． そこで本稿では，2色に塗り分けられたベースとなるレイアウトパターンに対して 定められた設計ルールのもと設計者が配線の接続および切断操作を行い，その結果得られたレイアウトパターンからマスク描画用のパターンを容易に求めることが可能な，側壁ダブルパターニングのための設計手法を提案する． |
| （英） | We propose a new layout method for the damascene process of self-aligned double patterning (SADP). In this method, we prepare a fundamental layout data painted in different two colors interchangeably. We can connect arbitrary patterns of one color of the two and at the same time, patterns of the other color will be cut to avoid two colors' crossing each other. Additionally, we can also cut arbitrary patterns in the layout. According to the above connecting and cutting rules, the two colors in the resultant patterns are kept as initially colored interchangeablly, and we can select either of the two colored patterns as mandrel. |
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| キーワード | （和） | リソグラフィ / ダブルパターニング / 側壁加工 / 側壁ダブルパターニング / SADP / レイアウト設計 / / |
| （英） | Lithography / Double patterning / Sidewall process / Self-aligned double patterning / SADP / Layout design / / | |
| 文献情報 | 信学技報, vol. 111, no. 324, VLD2011-76, pp. 141-146, 2011年11月. | |
| 資料番号 | VLD2011-76 | |
| 発行日 | 2011-11-21 (VLD, DC) | |
| ISSN | Print edition: ISSN 0913-5685 Online edition: ISSN 2432-6380 | |
| 著作権に ついて |
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します．(許諾番号：10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034) | |
| PDFダウンロード | VLD2011-76 DC2011-52 |
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| 研究会情報 | |
| 研究会 | VLD DC IPSJ-SLDM CPSY RECONF ICD CPM |
| 開催期間 | 2011-11-28 - 2011-11-30 |
| 開催地（和） | ニューウェルシティ宮崎 |
| 開催地（英） | NewWelCity Miyazaki |
| テーマ（和） | デザインガイア2011 -VLSI設計の新しい大地― |
| テーマ（英） | Design Gaia 2010 -New Field of VLSI Design- |
| 講演論文情報の詳細 | |
| 申込み研究会 | VLD |
| 会議コード | 2011-11-VLD-DC-SLDM-CPSY-RECONF-ICD-CPM |
| 本文の言語 | 日本語 |
| タイトル（和） | 超微細化を実現する側壁ダブルパターニングのためのレイアウト設計手法 |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Layout Methodology for Self-Alinged Double Patterning |
| サブタイトル（英） | |
| キーワード(1)（和/英） | リソグラフィ / Lithography |
| キーワード(2)（和/英） | ダブルパターニング / Double patterning |
| キーワード(3)（和/英） | 側壁加工 / Sidewall process |
| キーワード(4)（和/英） | 側壁ダブルパターニング / Self-aligned double patterning |
| キーワード(5)（和/英） | SADP / SADP |
| キーワード(6)（和/英） | レイアウト設計 / Layout design |
| キーワード(7)（和/英） | / |
| キーワード(8)（和/英） | / |
| 第1著者 氏名（和/英/ヨミ） | 児玉 親亮 / Chikaaki Kodama / コダマ チカアキ |
| 第1著者 所属（和/英） | (株)東芝 (略称： 東芝) Toshiba Corporation (略称： Toshiba) |
| 第2著者 氏名（和/英/ヨミ） | 中山 幸一 / Koichi Nakayama / ナカヤマ コウイチ |
| 第2著者 所属（和/英） | (株)東芝 (略称： 東芝) Toshiba Corporation (略称： Toshiba) |
| 第3著者 氏名（和/英/ヨミ） | 小谷 敏也 / Toshiya Kotani / コタニ トシヤ |
| 第3著者 所属（和/英） | (株)東芝 (略称： 東芝) Toshiba Corporation (略称： Toshiba) |
| 第4著者 氏名（和/英/ヨミ） | 野嶋 茂樹 / Shigeki Nojima / ノジマ シゲキ |
| 第4著者 所属（和/英） | (株)東芝 (略称： 東芝) Toshiba Corporation (略称： Toshiba) |
| 第5著者 氏名（和/英/ヨミ） | 三本木 省次 / Shoji Mimotogi / ミモトギ ショウジ |
| 第5著者 所属（和/英） | (株)東芝 (略称： 東芝) Toshiba Corporation (略称： Toshiba) |
| 第6著者 氏名（和/英/ヨミ） | 宮本 晋示 / Shinji Miyamoto / ミヤモト シンジ |
| 第6著者 所属（和/英） | (株)東芝 (略称： 東芝) Toshiba Corporation (略称： Toshiba) |
| 第7著者 氏名（和/英/ヨミ） | / / |
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| 第8著者 氏名（和/英/ヨミ） | / / |
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| 講演者 | 第1著者 |
| 発表日時 | 2011-11-29 13:00:00 |
| 発表時間 | 25分 |
| 申込先研究会 | VLD |
| 資料番号 | VLD2011-76, DC2011-52 |
| 巻番号（vol） | vol.111 |
| 号番号（no） | no.324(VLD), no.325(DC) |
| ページ範囲 | pp.141-146 |
| ページ数 | 6 |
| 発行日 | 2011-11-21 (VLD, DC) |
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