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講演抄録/キーワード
講演名 2011-11-18 09:55
ELO-AlN上AlGaNの微細構造観察
井手公康山本準一岩谷素顕竹内哲也上山 智赤サキ 勇名城大)・天野 浩名大ED2011-89 CPM2011-138 LQE2011-112 エレソ技報アーカイブへのリンク:ED2011-89 CPM2011-138 LQE2011-112
抄録 (和) AlGaN系紫外発光素子は、UV-AからUV-Cの全領域で数%を超える高性能LEDが実現されつつあり、今後広く実用化することが期待されている。現在の紫外LEDはAlNテンプレート上に作製されているが、その上に形成されたAlGaNには圧縮応力による欠陥が導入される。今後、さらなる紫外LEDの高効率化を実現するためには、この欠陥の挙動を正確に把握し、それを制御することが非常に重要である。本研究では、ELOを用いて作製した高品質AlN上にAlGaNを形成し、その転位の挙動に関して観察した。特に本報告ではAlGaNの膜厚依存性に関して詳細に検討した。膜厚を厚くすることで界面付近に発生する転位に違いが見られたので、その結果について報告する。 
(英) AlGaN-based ultraviolet light emitting device has been achieved as the high spec LED from UV-A to UV-C. It is widely expected to be commercialized in the future. Currently UV LED is being fabricated on AlN template but formed AlGaN on the AlN template introduces the defect by the AlGaN compressive stress. After time, to achieve high efficiency UV LED further, we know exactly the behavior of this defect and it is very important to control it. In this study, to form a high-quality AlGaN on AlN prepared using ELO. We observed about the behavior of dislocations in this sample. In particular this study, we discussed in detail about the thickness dependence of AlGaN . Since there were differences in the dislocation to occur near the interface by the film thickness,and report its results .
キーワード (和) AlGaN / AlN / 転位 / TEM / 緩和 / / /  
(英) AlGaN / AlN / dislocation / TEM / relaxation / / /  
文献情報 信学技報, vol. 111, no. 292, LQE2011-112, pp. 81-85, 2011年11月.
資料番号 LQE2011-112 
発行日 2011-11-10 (ED, CPM, LQE) 
ISSN Print edition: ISSN 0913-5685    Online edition: ISSN 2432-6380
著作権に
ついて
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034)
PDFダウンロード ED2011-89 CPM2011-138 LQE2011-112 エレソ技報アーカイブへのリンク:ED2011-89 CPM2011-138 LQE2011-112

研究会情報
研究会 LQE ED CPM  
開催期間 2011-11-17 - 2011-11-18 
開催地(和) 京都大学桂キャンパス 桂ホール 
開催地(英) Katsura Hall,Kyoto Univ. 
テーマ(和) 窒化物半導体光・電子デバイス・材料,関連技術,及び一般 
テーマ(英)  
講演論文情報の詳細
申込み研究会 LQE 
会議コード 2011-11-LQE-ED-CPM 
本文の言語 日本語 
タイトル(和) ELO-AlN上AlGaNの微細構造観察 
サブタイトル(和)  
タイトル(英) Microstructural observation of AlGaN on ELO-AlN 
サブタイトル(英)  
キーワード(1)(和/英) AlGaN / AlGaN  
キーワード(2)(和/英) AlN / AlN  
キーワード(3)(和/英) 転位 / dislocation  
キーワード(4)(和/英) TEM / TEM  
キーワード(5)(和/英) 緩和 / relaxation  
キーワード(6)(和/英) /  
キーワード(7)(和/英) /  
キーワード(8)(和/英) /  
第1著者 氏名(和/英/ヨミ) 井手 公康 / Kimiyasu Ide / イデ キミヤス
第1著者 所属(和/英) 名城大学 (略称: 名城大)
Meijo University (略称: Meijo Univ.)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) 山本 準一 / Junichi Yamamoto / ヤマモト ジュンイチ
第2著者 所属(和/英) 名城大学 (略称: 名城大)
Meijo University (略称: Meijo Univ.)
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) 岩谷 素顕 / Motoaki Iwaya / イワヤ モトアキ
第3著者 所属(和/英) 名城大学 (略称: 名城大)
Meijo University (略称: Meijo Univ.)
第4著者 氏名(和/英/ヨミ) 竹内 哲也 / Tetsuya Takeuchi / タケウチ テツヤ
第4著者 所属(和/英) 名城大学 (略称: 名城大)
Meijo University (略称: Meijo Univ.)
第5著者 氏名(和/英/ヨミ) 上山 智 / Satoshi Kamiyama / カミヤマ サトシ
第5著者 所属(和/英) 名城大学 (略称: 名城大)
Meijo University (略称: Meijo Univ.)
第6著者 氏名(和/英/ヨミ) 赤サキ 勇 / Isamu Akasaki / アカサキ イサム
第6著者 所属(和/英) 名城大学 (略称: 名城大)
Meijo University (略称: Meijo Univ.)
第7著者 氏名(和/英/ヨミ) 天野 浩 / Hiroshi Amano / アマノ ヒロシ
第7著者 所属(和/英) 名古屋大学 (略称: 名大)
Nagoya University (略称: Nagoya Univ.)
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講演者 第1著者 
発表日時 2011-11-18 09:55:00 
発表時間 25分 
申込先研究会 LQE 
資料番号 ED2011-89, CPM2011-138, LQE2011-112 
巻番号(vol) vol.111 
号番号(no) no.290(ED), no.291(CPM), no.292(LQE) 
ページ範囲 pp.81-85 
ページ数
発行日 2011-11-10 (ED, CPM, LQE) 


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