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講演抄録/キーワード
講演名 2011-11-18 09:25
Deformation of Crystal Morphology in Tin Plated Contact Layer caused by Loading
Terutaka TamaiElcontech Consulting)・Shigeru SawadaMie Univ.)・Yasuhiro HattoriAutoNetworks Lab.EMD2011-90 エレソ技報アーカイブへのリンク:EMD2011-90
抄録 (和) (まだ登録されていません) 
(英) Tin (Sn) plated contacts are widely applied to connector contacts in aut
omotive industries. Surfaces of plated tin are covered with their oxide
film. But it is possible to obtain low contact resistance by applying hi
gh contact load. Tendency in down size of connectors will increase in ne
ar future. Therefore, it is important to study contact resistance charac
teristics under low contact load. In this study, mechanical deformation
phenomena of tin crystal morophology of the plated layerin a contact are
a under loading was studyed with respect to contact resistance behavior.
It was found that in the contact configuration for hemisphere of platin
um and tin plated flatcontacts, the hemisphere surfsce indented into the
softer tin plated flat surface. As results, piling up the crystal grain
s of the periphery of the contact trace occurs. During the piling up the
periphery, sudden decrease in contact resistance was found. To clarify
these phenomena, the mechanical stress distribution in the layer wasnume
rically analyzed by FEM. Change in crystal morphorogy was obserbed by ST
M and EBSP. The mechanical stress in the layer propagated to the periphe
ry of the contact area along radial direction during loading. This pheno
mena is very different from usual decrease in contact resistanec due to
elastic and plastc deformation.
キーワード (和) / / / / / / /  
(英) tin plated contact / contact resistance / contact load / contact trace / connector / crystal morophlogy / /  
文献情報 信学技報, vol. 111, no. 299, EMD2011-90, pp. 127-132, 2011年11月.
資料番号 EMD2011-90 
発行日 2011-11-10 (EMD) 
ISSN Print edition: ISSN 0913-5685    Online edition: ISSN 2432-6380
著作権に
ついて
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034)
PDFダウンロード EMD2011-90 エレソ技報アーカイブへのリンク:EMD2011-90

研究会情報
研究会 EMD  
開催期間 2011-11-17 - 2011-11-18 
開催地(和) 秋田大学 手形キャンパス 
開催地(英) Akita Univ. Tegata Campus 
テーマ(和) 国際セッションIS-EMD2011 
テーマ(英) International Session IS-EMD2011 
講演論文情報の詳細
申込み研究会 EMD 
会議コード 2011-11-EMD 
本文の言語 英語 
タイトル(和)  
サブタイトル(和)  
タイトル(英) Deformation of Crystal Morphology in Tin Plated Contact Layer caused by Loading 
サブタイトル(英)  
キーワード(1)(和/英) / tin plated contact  
キーワード(2)(和/英) / contact resistance  
キーワード(3)(和/英) / contact load  
キーワード(4)(和/英) / contact trace  
キーワード(5)(和/英) / connector  
キーワード(6)(和/英) / crystal morophlogy  
キーワード(7)(和/英) /  
キーワード(8)(和/英) /  
第1著者 氏名(和/英/ヨミ) 玉井 輝雄 / Terutaka Tamai / タマイ テルタカ
第1著者 所属(和/英) エルコンテックコンサルティング (略称: エルコンテック)
Elcontech Consulting (略称: Elcontech Consulting)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) 澤田 滋 / Shigeru Sawada / サワダ シゲル
第2著者 所属(和/英) 三重大学 (略称: 三重大)
Mie University (略称: Mie Univ.)
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) 服部 康弘 / Yasuhiro Hattori / ハットリ ヤスヒロ
第3著者 所属(和/英) オートネットワーク技術研究所 (略称: オートネットワーク技研)
AutoNetworks Technologies, Ltd. (略称: AutoNetworks Lab.)
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講演者 第1著者 
発表日時 2011-11-18 09:25:00 
発表時間 20分 
申込先研究会 EMD 
資料番号 EMD2011-90 
巻番号(vol) vol.111 
号番号(no) no.299 
ページ範囲 pp.127-132 
ページ数
発行日 2011-11-10 (EMD) 


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