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講演抄録/キーワード
講演名 2011-11-18 08:45
Current Density Analysis in Contact Area by Using Light Emission Diode Wafer
Shigeru SawadaShigeki TsukijiMie Univ.)・Terutaka TamaiElconTech Consulting)・Yasuhiro HattoriAutonetworks Lab.エレソ技報アーカイブへのリンク:EMD2011-88
抄録 (和) (まだ登録されていません) 
(英) In order to clarify the theory of contact resistance, there are many reports in these years. Mathematically the
constriction current is derived from Laplace equation at one contact which shape is circle, ellipse, triangle and square. And
numerical approach for constriction current analysis was also preformed by Minowa and Sawada. Although there are many
reports on the contact resistance measurement, not many reports on the detailed behavior of current density distribution in the
contact area experimentally. Therefore, we attempted to observe the behavior of the current density distribution in the contact
by using semiconductor wafers. As a result, it was confirmed that electric current is uniformly distributed over the contact area
covered by an oxide film, while it is concentrated at the periphery of the contact if there is no oxide film at contact. And the
contact resistance of apparent contact area is almost same as real contact area which is also agree with the theory of multi-spot
contact when the number of A-spot is large enough.
キーワード (和) / / / / / / /  
(英) Constriction Resistance / Electrical Contact / Contact resistance / Current constriction / light emitting diode / Direct observation / Current density distribution /  
文献情報 信学技報, vol. 111, no. 299, EMD2011-88, pp. 115-119, 2011年11月.
資料番号 EMD2011-88 
発行日 2011-11-10 (EMD) 
ISSN Print edition: ISSN 0913-5685  Online edition: ISSN 2432-6380
著作権に
ついて
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034)

研究会情報
研究会 EMD  
開催期間 2011-11-17 - 2011-11-18 
開催地(和) 秋田大学 手形キャンパス 
開催地(英) Akita Univ. Tegata Campus 
テーマ(和) 国際セッションIS-EMD2011 
テーマ(英) International Session IS-EMD2011 
講演論文情報の詳細
申込み研究会 EMD 
会議コード 2011-11-EMD 
本文の言語 英語 
タイトル(和)  
サブタイトル(和)  
タイトル(英) Current Density Analysis in Contact Area by Using Light Emission Diode Wafer 
サブタイトル(英)  
キーワード(1)(和/英) / Constriction Resistance  
キーワード(2)(和/英) / Electrical Contact  
キーワード(3)(和/英) / Contact resistance  
キーワード(4)(和/英) / Current constriction  
キーワード(5)(和/英) / light emitting diode  
キーワード(6)(和/英) / Direct observation  
キーワード(7)(和/英) / Current density distribution  
キーワード(8)(和/英) /  
第1著者 氏名(和/英/ヨミ) 澤田 滋 / Shigeru Sawada / サワダ シゲル
第1著者 所属(和/英) 三重大学 (略称: 三重大)
Mie university (略称: Mie Univ.)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) 筑地 茂樹 / Shigeki Tsukiji / ツキジ シゲキ
第2著者 所属(和/英) 三重大学 (略称: 三重大)
Mie university (略称: Mie Univ.)
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) 玉井 輝雄 / Terutaka Tamai / タマイ テルタカ
第3著者 所属(和/英) エルテックコンサルティング (略称: エルコンテック)
ElconTech Consulting Inc (略称: ElconTech Consulting)
第4著者 氏名(和/英/ヨミ) 服部 康弘 / Yasuhiro Hattori / ハットリ ヤスヒロ
第4著者 所属(和/英) オートネットワーク技術研究所 (略称: オートネットワーク技研)
Autonetworks Lab. (略称: Autonetworks Lab.)
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講演者
発表日時 2011-11-18 08:45:00 
発表時間 20 
申込先研究会 EMD 
資料番号 IEICE-EMD2011-88 
巻番号(vol) IEICE-111 
号番号(no) no.299 
ページ範囲 pp.115-119 
ページ数 IEICE-5 
発行日 IEICE-EMD-2011-11-10 


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