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講演抄録/キーワード
講演名 2011-10-26 13:00
複合ターゲットを用いた反応性スパッタリング法によるCuAlO2薄膜の作製と構造評価
横本拓也前田洋輔宮澤 匠山上朋彦阿部克也信州大CPM2011-109 エレソ技報アーカイブへのリンク:CPM2011-109
抄録 (和) 複合ターゲットを用いた反応性スパッタリング法を用いてCuAlO2薄膜の作製と構造評価を行った。
本研究での複合ターゲットはAl円板上に三角形のCu板を載せただけという簡易な構造をしている。
Alのターゲット面積比率(Al/(Al+Cu))を大きくしていくと膜中のAlとCuの比を制御できることがわかり、
また酸素流量を増加させることでCuターゲットのスパッタレートが減少し、
相対的にAl元素の組成比が増加することがわかった。
Alの面積比率95%、酸素流量3 sccmの時、ストイキオメトリーに近い膜を得ることができた。
また、この膜のXRD測定を行ったところアモルファスライクな膜であることがわかった。 
(英) CuAlO2 films were prepared by reactive magnetron sputtering using Al-Cu hybrid targets
and these structural properties were characterized.
The hybrid targets were some Cu plates placed on an Al target.
The the film grown at an Al area ratio (Al/(Al+Cu)) of 95% and
oxygen flow rate of 3 sccm had a near stoichiometic composition ratio.
From XRD measurements, the film structure was found to be amorphous.
キーワード (和) 反応性スパッタリング / 透明導電性酸化物 / CuAlO2 / / / / /  
(英) reactive sputtering / TCO / CuAlO2 / / / / /  
文献情報 信学技報, vol. 111, no. 264, CPM2011-109, pp. 1-4, 2011年10月.
資料番号 CPM2011-109 
発行日 2011-10-19 (CPM) 
ISSN Print edition: ISSN 0913-5685    Online edition: ISSN 2432-6380
著作権に
ついて
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034)
PDFダウンロード CPM2011-109 エレソ技報アーカイブへのリンク:CPM2011-109

研究会情報
研究会 CPM  
開催期間 2011-10-26 - 2011-10-27 
開催地(和) 福井大学 産学官連携本部研修室 
開催地(英) Fukui Univ. 
テーマ(和) 薄膜プロセス・材料,一般 
テーマ(英)  
講演論文情報の詳細
申込み研究会 CPM 
会議コード 2011-10-CPM 
本文の言語 日本語 
タイトル(和) 複合ターゲットを用いた反応性スパッタリング法によるCuAlO2薄膜の作製と構造評価 
サブタイトル(和)  
タイトル(英) Structual characterization of CuAlO2 films deposited by reactive sputtering using composite target 
サブタイトル(英)  
キーワード(1)(和/英) 反応性スパッタリング / reactive sputtering  
キーワード(2)(和/英) 透明導電性酸化物 / TCO  
キーワード(3)(和/英) CuAlO2 / CuAlO2  
キーワード(4)(和/英) /  
キーワード(5)(和/英) /  
キーワード(6)(和/英) /  
キーワード(7)(和/英) /  
キーワード(8)(和/英) /  
第1著者 氏名(和/英/ヨミ) 横本 拓也 / Takuya Yokomoto / ヨコモト タクヤ
第1著者 所属(和/英) 信州大学 (略称: 信州大)
Sinshu University (略称: SinshuUniv.)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) 前田 洋輔 / Yosuke Maeda / マエダ ヨウスケ
第2著者 所属(和/英) 信州大学 (略称: 信州大)
Sinshu University (略称: SinshuUniv.)
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) 宮澤 匠 / Takumi Miyazawa / ミヤザワ タクミ
第3著者 所属(和/英) 信州大学 (略称: 信州大)
Sinshu University (略称: SinshuUniv.)
第4著者 氏名(和/英/ヨミ) 山上 朋彦 / Tomohiko Yamakami / ヤマガミ トモヒコ
第4著者 所属(和/英) 信州大学 (略称: 信州大)
Sinshu University (略称: SinshuUniv.)
第5著者 氏名(和/英/ヨミ) 阿部 克也 / Katsuya Abe / アベ カツヤ
第5著者 所属(和/英) 信州大学 (略称: 信州大)
Sinshu University (略称: SinshuUniv.)
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講演者 第1著者 
発表日時 2011-10-26 13:00:00 
発表時間 25分 
申込先研究会 CPM 
資料番号 CPM2011-109 
巻番号(vol) vol.111 
号番号(no) no.264 
ページ範囲 pp.1-4 
ページ数
発行日 2011-10-19 (CPM) 


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