講演抄録/キーワード |
講演名 |
2011-10-26 13:00
複合ターゲットを用いた反応性スパッタリング法によるCuAlO2薄膜の作製と構造評価 ○横本拓也・前田洋輔・宮澤 匠・山上朋彦・阿部克也(信州大) CPM2011-109 エレソ技報アーカイブへのリンク:CPM2011-109 |
抄録 |
(和) |
複合ターゲットを用いた反応性スパッタリング法を用いてCuAlO2薄膜の作製と構造評価を行った。
本研究での複合ターゲットはAl円板上に三角形のCu板を載せただけという簡易な構造をしている。
Alのターゲット面積比率(Al/(Al+Cu))を大きくしていくと膜中のAlとCuの比を制御できることがわかり、
また酸素流量を増加させることでCuターゲットのスパッタレートが減少し、
相対的にAl元素の組成比が増加することがわかった。
Alの面積比率95%、酸素流量3 sccmの時、ストイキオメトリーに近い膜を得ることができた。
また、この膜のXRD測定を行ったところアモルファスライクな膜であることがわかった。 |
(英) |
CuAlO2 films were prepared by reactive magnetron sputtering using Al-Cu hybrid targets
and these structural properties were characterized.
The hybrid targets were some Cu plates placed on an Al target.
The the film grown at an Al area ratio (Al/(Al+Cu)) of 95% and
oxygen flow rate of 3 sccm had a near stoichiometic composition ratio.
From XRD measurements, the film structure was found to be amorphous. |
キーワード |
(和) |
反応性スパッタリング / 透明導電性酸化物 / CuAlO2 / / / / / |
(英) |
reactive sputtering / TCO / CuAlO2 / / / / / |
文献情報 |
信学技報, vol. 111, no. 264, CPM2011-109, pp. 1-4, 2011年10月. |
資料番号 |
CPM2011-109 |
発行日 |
2011-10-19 (CPM) |
ISSN |
Print edition: ISSN 0913-5685 Online edition: ISSN 2432-6380 |
著作権に ついて |
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034) |
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