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講演抄録/キーワード
講演名 2011-08-25 13:10
UVレーザ直接描画による光配線板用交差光導波路の損失特性
石倉隆広隠岐正義加藤圭亮千歳科技大)・須田俊央フォトニックサイエンステクノロジ)・小林壮一千歳科技大EMD2011-35 CPM2011-79 OPE2011-70 LQE2011-33 エレソ技報アーカイブへのリンク:EMD2011-35 CPM2011-79 OPE2011-70 LQE2011-33
抄録 (和) 本報告ではナノハイブリッドシリコーンを用いた光配線板用ポリマーマルチモード交差光導波路の作製及びその評価について述べている。作製にはレーザ直接描画法を採用し,光配線板用ポリマーマルチモード交差光導波路及び多重交差光導波路を作製し,損失特性,クロストークについて検討した。 
(英) We report the fabrications and measurements of the polymer multimode optical cross waveguides of the nano-hybrid silicone. The laser direct drawing method for fabricating the tilted polymer multimode optical cross waveguides and the multiple optical cross waveguides was adopted. The insertion loss and the cross talk of the cross waveguides are measured and discussed.
キーワード (和) ポリマー光導波路 / 光配線板 / レーザ直接描画法 / / / / /  
(英) Polymer optical waveguide / Optical backplane / Laser direct drawing / / / / /  
文献情報 信学技報, vol. 111, no. 185, OPE2011-70, pp. 23-26, 2011年8月.
資料番号 OPE2011-70 
発行日 2011-08-18 (EMD, CPM, OPE, LQE) 
ISSN Print edition: ISSN 0913-5685  Online edition: ISSN 2432-6380
著作権に
ついて
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PDFダウンロード EMD2011-35 CPM2011-79 OPE2011-70 LQE2011-33 エレソ技報アーカイブへのリンク:EMD2011-35 CPM2011-79 OPE2011-70 LQE2011-33

研究会情報
研究会 CPM OPE LQE EMD  
開催期間 2011-08-25 - 2011-08-26 
開催地(和) 北海道大学 創成科学研究棟 5階 大会議室 
開催地(英) Hokkaido Univ. 
テーマ(和) 光部品・電子デバイス実装技術、一般 
テーマ(英)  
講演論文情報の詳細
申込み研究会 OPE 
会議コード 2011-08-CPM-OPE-LQE-EMD 
本文の言語 日本語 
タイトル(和) UVレーザ直接描画による光配線板用交差光導波路の損失特性 
サブタイトル(和)  
タイトル(英) Loss Characteristics of Optical cross Waveguides for Optical Backplane by Direct UV Laser Drawing 
サブタイトル(英)  
キーワード(1)(和/英) ポリマー光導波路 / Polymer optical waveguide  
キーワード(2)(和/英) 光配線板 / Optical backplane  
キーワード(3)(和/英) レーザ直接描画法 / Laser direct drawing  
キーワード(4)(和/英) /  
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キーワード(7)(和/英) /  
キーワード(8)(和/英) /  
第1著者 氏名(和/英/ヨミ) 石倉 隆広 / Takahiro Ishikura / イシクラ タカヒロ
第1著者 所属(和/英) 千歳科学技術大学 (略称: 千歳科技大)
Chitose Institute of Science and Technology (略称: CIST)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) 隠岐 正義 / Seigi Oki / オキ セイギ
第2著者 所属(和/英) 千歳科学技術大学 (略称: 千歳科技大)
Chitose Institute of Science and Technology (略称: CIST)
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) 加藤 圭亮 / Keisuke Katou / カトウ ケイスケ
第3著者 所属(和/英) 千歳科学技術大学 (略称: 千歳科技大)
Chitose Institute of Science and Technology (略称: CIST)
第4著者 氏名(和/英/ヨミ) 須田 俊央 / Toshihiro Suda / スダ トシヒロ
第4著者 所属(和/英) フォトニクスサイエンステクノロジ株式会社 (略称: フォトニックサイエンステクノロジ)
Photonic Science Technology, Inc. (略称: PSTI)
第5著者 氏名(和/英/ヨミ) 小林 壮一 / Soichi Kobayashi / コバヤシ ソウイチ
第5著者 所属(和/英) 千歳科学技術大学 (略称: 千歳科技大)
Chitose Institute of Science and Technology (略称: CIST)
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講演者
発表日時 2011-08-25 13:10:00 
発表時間 25 
申込先研究会 OPE 
資料番号 IEICE-EMD2011-35,IEICE-CPM2011-79,IEICE-OPE2011-70,IEICE-LQE2011-33 
巻番号(vol) IEICE-111 
号番号(no) no.183(EMD), no.184(CPM), no.185(OPE), no.186(LQE) 
ページ範囲 pp.23-26 
ページ数 IEICE-4 
発行日 IEICE-EMD-2011-08-18,IEICE-CPM-2011-08-18,IEICE-OPE-2011-08-18,IEICE-LQE-2011-08-18 


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