講演抄録/キーワード |
講演名 |
2011-08-11 11:20
下地基板の影響を軽減した結晶薄膜の形成法 ○野毛 悟・梅原 猛(沼津高専)・宇野武彦(神奈川工科大) CPM2011-71 エレソ技報アーカイブへのリンク:CPM2011-71 |
抄録 |
(和) |
現在対象としている磁気光学特性に優れたセリウム置換YIG {(CexY3-x)Fe5O12, Ce:YIG}のみならず,多くの薄膜材料においては,SiO2薄膜上への結晶薄膜形成が期待されている.例えば,非晶質膜上への単結晶薄膜形成法には,グラフォエピタキシャル成長法なども研究されているが課題の解決には至っていない.本報告は,SiO2のような非晶質基板上への薄膜単結晶形成方法を提案するものである.提案手法は,酸化物結晶薄膜形成時における下地基板への依存性という課題を解決する一つの方法として有効であると考えられる. |
(英) |
A growth technique for single crystal film on silica substrate is strongly desired, not only for Ce:YIG but also for many other kinds of materials. Although several kinds of methods such as graphoepitaxial growth have been tested, a successful method has not been established yet. In this paper, we propose a simple method of obtaining a single crystal film on silica substrate. This method will be useful for fabrication of various single oxide crystal films on silica, silicon and many other substrates. |
キーワード |
(和) |
磁気光学効果 / YIG / セリウム置換YIG / 単結晶薄膜 / エピタキシャル / 熱処理 / / |
(英) |
Magneto-Optic Effect / YIG / Cerium Substituted YIG / Single Crystal Film / Epitaxial / Thermal Treatment / / |
文献情報 |
信学技報, vol. 111, no. 176, CPM2011-71, pp. 73-78, 2011年8月. |
資料番号 |
CPM2011-71 |
発行日 |
2011-08-03 (CPM) |
ISSN |
Print edition: ISSN 0913-5685 Online edition: ISSN 2432-6380 |
著作権に ついて |
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034) |
PDFダウンロード |
CPM2011-71 エレソ技報アーカイブへのリンク:CPM2011-71 |