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講演抄録/キーワード
講演名
2011-08-11 10:55
OHラジカル酸化法の開発とデバイス評価
○
出貝 求
・
黒沢正章
・
籾山克章
・
鈴木貴彦
・
廣瀬文彦
(
山形大
)
CPM2011-70
エレソ技報アーカイブへのリンク:
CPM2011-70
抄録
(和)
(まだ登録されていません)
(英)
(Not available yet)
キーワード
(和)
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(英)
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文献情報
信学技報, vol. 111, no. 176, CPM2011-70, pp. 69-71, 2011年8月.
資料番号
CPM2011-70
発行日
2011-08-03 (CPM)
ISSN
Print edition: ISSN 0913-5685 Online edition: ISSN 2432-6380
著作権に
ついて
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034)
PDFダウンロード
CPM2011-70
エレソ技報アーカイブへのリンク:
CPM2011-70
研究会情報
研究会
CPM
開催期間
2011-08-10 - 2011-08-11
開催地(和)
弘前大学 文京町キャンパス
開催地(英)
テーマ(和)
電子部品・材料,一般
テーマ(英)
講演論文情報の詳細
申込み研究会
CPM
会議コード
2011-08-CPM
本文の言語
日本語
タイトル(和)
OHラジカル酸化法の開発とデバイス評価
サブタイトル(和)
タイトル(英)
Development of OH-radical oxidation methods and their applications
サブタイトル(英)
キーワード(1)(和/英)
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キーワード(2)(和/英)
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キーワード(3)(和/英)
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キーワード(4)(和/英)
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キーワード(5)(和/英)
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キーワード(6)(和/英)
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キーワード(7)(和/英)
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キーワード(8)(和/英)
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第1著者 氏名(和/英/ヨミ)
出貝 求
/
Motomu Degai
/
デガイ モトム
第1著者 所属(和/英)
山形大学大学院
(略称:
山形大
)
Yamagata University
(略称:
Yamagata Univ.
)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ)
黒沢 正章
/
Masaaki Kurosawa
/
クロサワ マサアキ
第2著者 所属(和/英)
山形大学大学院
(略称:
山形大
)
Yamagata University
(略称:
Yamagata Univ.
)
第3著者 氏名(和/英/ヨミ)
籾山 克章
/
Katsuaki Momiyama
/
モミヤマ カツアキ
第3著者 所属(和/英)
山形大学大学院
(略称:
山形大
)
Yamagata University
(略称:
Yamagata Univ.
)
第4著者 氏名(和/英/ヨミ)
鈴木 貴彦
/
Takahiko Suzuki
/
スズキ タカヒコ
第4著者 所属(和/英)
山形大学大学院
(略称:
山形大
)
Yamagata University
(略称:
Yamagata Univ.
)
第5著者 氏名(和/英/ヨミ)
廣瀬 文彦
/
Fumihiko Hirose
/
ヒロセ フミヒコ
第5著者 所属(和/英)
山形大学大学院
(略称:
山形大
)
Yamagata University
(略称:
Yamagata Univ.
)
第6著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第6著者 所属(和/英)
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第7著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第7著者 所属(和/英)
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第8著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第8著者 所属(和/英)
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第9著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第9著者 所属(和/英)
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第10著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第10著者 所属(和/英)
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第11著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第11著者 所属(和/英)
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第12著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第12著者 所属(和/英)
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第13著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第13著者 所属(和/英)
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第14著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第14著者 所属(和/英)
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第15著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第15著者 所属(和/英)
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第16著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第16著者 所属(和/英)
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第17著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第17著者 所属(和/英)
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第18著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第19著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第19著者 所属(和/英)
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第20著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第20著者 所属(和/英)
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講演者
第1著者
発表日時
2011-08-11 10:55:00
発表時間
25分
申込先研究会
CPM
資料番号
CPM2011-70
巻番号(vol)
vol.111
号番号(no)
no.176
ページ範囲
pp.69-71
ページ数
3
発行日
2011-08-03 (CPM)
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