講演抄録/キーワード |
講演名 |
2011-06-30 10:25
CVD法及び溶液成長法による酸化物ナノ構造の形成と形状制御 ○寺迫智昭・藤原哲郎・竹川晃平・白方 祥(愛媛大) EMD2011-9 CPM2011-45 OME2011-23 エレソ技報アーカイブへのリンク:EMD2011-9 CPM2011-45 OME2011-23 |
抄録 |
(和) |
様々な形状を有するZnO,CdO及びMgOナノ構造が,Auナノコロイドを触媒に用いた大気圧CVD法によって得られた.ZnO及びCdOナノロッド(NRs)の形状は,基板温度の上昇とともに円柱状から円錐状へと変化した.ZnO NRsに対しては,原料のZnとH$_2$Oとを時間的に分離して基板上に供給する方法がこの円錐化の抑制に有効であることが明らかにされた.また酢酸亜鉛二水和物を原料とする溶液成長法によってスプレー法(MgZn)Oシード層上への垂直配向ZnO NRsの成長にも成功した.溶液成長ZnO NRsでは,溶液濃度の増加に伴う直径の増加が確認された. |
(英) |
Various shapes of nanostructures of oxide materials ZnO, CdO and MgO have been obtained by atmospheric-pressure chemical vapor deposition methods using Au nanocolloids as catalyst. Shapes of ZnO and CdO nanorods (NRs) changed from cylinders to cones with increasing substrate temperature, so-called “tapering”. It was confirmed for the ZnO NRs that the alternate source supply of Zn and H$_2$O is effective for suppressing the tapering behavior. The ZnO NRs were also successfully grown on sprayed (MgZn)O seed layers by the solution growth (SG) using the aqueous solution of Zn(CH$_3$COO)$_2$2H2O. It was found that the averaged diameter of the SG-ZnO NRs increased with the increase in concentration of the solution. |
キーワード |
(和) |
酸化物 / ナノ構造 / 化学気相堆積法 / 気相-液相-固相成長 / 溶液成長 / / / |
(英) |
Oxide / Nanostructures / Atmospheric-pressure chemical vapor deposition / VLS growth / Solution growth / / / |
文献情報 |
信学技報, vol. 111, no. 109, CPM2011-45, pp. 5-10, 2011年6月. |
資料番号 |
CPM2011-45 |
発行日 |
2011-06-23 (EMD, CPM, OME) |
ISSN |
Print edition: ISSN 0913-5685 Online edition: ISSN 2432-6380 |
著作権に ついて |
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034) |
PDFダウンロード |
EMD2011-9 CPM2011-45 OME2011-23 エレソ技報アーカイブへのリンク:EMD2011-9 CPM2011-45 OME2011-23 |
研究会情報 |
研究会 |
EMD CPM OME |
開催期間 |
2011-06-30 - 2011-06-30 |
開催地(和) |
機械振興会館 |
開催地(英) |
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テーマ(和) |
材料デバイスサマーミーティング |
テーマ(英) |
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講演論文情報の詳細 |
申込み研究会 |
CPM |
会議コード |
2011-06-EMD-CPM-OME |
本文の言語 |
日本語 |
タイトル(和) |
CVD法及び溶液成長法による酸化物ナノ構造の形成と形状制御 |
サブタイトル(和) |
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タイトル(英) |
Formation and Shape Control of Oxide Nanostrutures by CVD and Solution Growth Techniques |
サブタイトル(英) |
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キーワード(1)(和/英) |
酸化物 / Oxide |
キーワード(2)(和/英) |
ナノ構造 / Nanostructures |
キーワード(3)(和/英) |
化学気相堆積法 / Atmospheric-pressure chemical vapor deposition |
キーワード(4)(和/英) |
気相-液相-固相成長 / VLS growth |
キーワード(5)(和/英) |
溶液成長 / Solution growth |
キーワード(6)(和/英) |
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キーワード(7)(和/英) |
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キーワード(8)(和/英) |
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第1著者 氏名(和/英/ヨミ) |
寺迫 智昭 / Tomoaki Terasako / テラサコ トモアキ |
第1著者 所属(和/英) |
愛媛大学 (略称: 愛媛大)
Ehime University (略称: Ehime Univ.) |
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) |
藤原 哲郎 / Tetsuro Fujiwara / フジワラ テツロウ |
第2著者 所属(和/英) |
愛媛大学 (略称: 愛媛大)
Ehime University (略称: Ehime Univ.) |
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) |
竹川 晃平 / Kohei Takegawa / タケガワ コウヘイ |
第3著者 所属(和/英) |
愛媛大学 (略称: 愛媛大)
Ehime University (略称: Ehime Univ.) |
第4著者 氏名(和/英/ヨミ) |
白方 祥 / Sho Shirakata / シラカタ ショウ |
第4著者 所属(和/英) |
愛媛大学 (略称: 愛媛大)
Ehime University (略称: Ehime Univ.) |
第5著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第6著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第11著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第12著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第13著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第14著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第15著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第17著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第20著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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講演者 |
第1著者 |
発表日時 |
2011-06-30 10:25:00 |
発表時間 |
25分 |
申込先研究会 |
CPM |
資料番号 |
EMD2011-9, CPM2011-45, OME2011-23 |
巻番号(vol) |
vol.111 |
号番号(no) |
no.108(EMD), no.109(CPM), no.110(OME) |
ページ範囲 |
pp.5-10 |
ページ数 |
6 |
発行日 |
2011-06-23 (EMD, CPM, OME) |