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講演抄録/キーワード
講演名 2011-06-30 14:40
マグネトロンスパッタ法による薄膜太陽電池用AZO透明導電膜の作製
平野友康野本淳一宮田俊弘南 内嗣金沢工大EMD2011-13 CPM2011-49 OME2011-27 エレソ技報アーカイブへのリンク:EMD2011-13 CPM2011-49 OME2011-27
抄録 (和) マグネトロンスパッタ法で作製するAl添加酸化亜鉛(AZO)透明導電膜を薄膜太陽電池用透明電極用途へ適合化することを目的として、使用するスパッタ成膜方式と得られる膜特性との関係を調べた。中型矩形ターゲットを用いるマグネトロンスパッタ装置を用いて、直流、高周波及び高周波重畳直流マグネトロンスパッタ成膜方式を使用して、ガラス基板上に基板温度200[℃]でAZO薄膜を作製し、その電気的及び光学的特性について検討すると共に、濃度0.1[mol/l]の塩酸溶液を用いた湿式エッチングにより形成する膜表面テクスチャ構造と光散乱・閉じ込め効果との関係について検討した。 
(英) In order to determine the influence of different types of MS depositions on the characteristics of AZO thin films appropriate for applications as transparent electrodes in thin-film solar cells , transparent conducting Al-doped ZnO (AZO) thin films were prepared on glass substrates at 200℃ by direct current (dc) magnetron sputtering (dc-MS), radio frequency (rf)-MS and rf power superimposed dc-MS (rf+dc-MS) depositions using a MS apparatus with the same AZO target. AZO thin films prepared by an rf+dc-MS deposition exhibited both a higher deposition rate than that found with rf-MS depositions and a lower resistivity or higher Hall mobility than those found with dc-MS. The lower dc sputter voltage featured in rf-MS and rf+dc-MS depositions resulted in lower damage depositions, producing smoother surface morphology and better crystallinity than obtained with dc-MS depositions. The light scattering characteristics of surface-textured AZO thin films prepared by various types of MS depositions were evaluated by observing the surface texture and measuring the optical transmittance and the diffusive component. The obtainable haze property in the range from visible to near infrared in AZO films prepared by an rf+dc-MS deposition was markedly better than that obtained with dc-MS depositions.
キーワード (和) 薄膜太陽電池 / 透明導電膜 / 酸化亜鉛 / マグネトロンスパッタ法 / / / /  
(英) TCO / Texture / Thin-Film Solar Cell / Sputtering deposition / / / /  
文献情報 信学技報, vol. 111, no. 109, CPM2011-49, pp. 29-33, 2011年6月.
資料番号 CPM2011-49 
発行日 2011-06-23 (EMD, CPM, OME) 
ISSN Print edition: ISSN 0913-5685  Online edition: ISSN 2432-6380
著作権に
ついて
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034)
PDFダウンロード EMD2011-13 CPM2011-49 OME2011-27 エレソ技報アーカイブへのリンク:EMD2011-13 CPM2011-49 OME2011-27

研究会情報
研究会 EMD CPM OME  
開催期間 2011-06-30 - 2011-06-30 
開催地(和) 機械振興会館 
開催地(英)  
テーマ(和) 材料デバイスサマーミーティング 
テーマ(英)  
講演論文情報の詳細
申込み研究会 CPM 
会議コード 2011-06-EMD-CPM-OME 
本文の言語 日本語 
タイトル(和) マグネトロンスパッタ法による薄膜太陽電池用AZO透明導電膜の作製 
サブタイトル(和)  
タイトル(英) Preparation of Transparent Conducting AZO Thin Films for Thin-Film Solar Cell Applications by Magnetron Sputtering Depositions 
サブタイトル(英)  
キーワード(1)(和/英) 薄膜太陽電池 / TCO  
キーワード(2)(和/英) 透明導電膜 / Texture  
キーワード(3)(和/英) 酸化亜鉛 / Thin-Film Solar Cell  
キーワード(4)(和/英) マグネトロンスパッタ法 / Sputtering deposition  
キーワード(5)(和/英) /  
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キーワード(8)(和/英) /  
第1著者 氏名(和/英/ヨミ) 平野 友康 / Tomoyasu Hirano / ヒラノ トモヤス
第1著者 所属(和/英) 金沢工業大学 (略称: 金沢工大)
Kanazawa Institute of Technology (略称: Kanazawa Inst. of Tech.)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) 野本 淳一 / Jun-ichi Nomoto / ノモト ジュンイチ
第2著者 所属(和/英) 金沢工業大学 (略称: 金沢工大)
Kanazawa Institute of Technology (略称: Kanazawa Inst. of Tech.)
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) 宮田 俊弘 / Toshihiro Miyata / ミヤタ トシヒロ
第3著者 所属(和/英) 金沢工業大学 (略称: 金沢工大)
Kanazawa Institute of Technology (略称: Kanazawa Inst. of Tech.)
第4著者 氏名(和/英/ヨミ) 南 内嗣 / Tadatsugu Minami / ミナミ タダツグ
第4著者 所属(和/英) 金沢工業大学 (略称: 金沢工大)
Kanazawa Institute of Technology (略称: Kanazawa Inst. of Tech.)
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講演者
発表日時 2011-06-30 14:40:00 
発表時間 25 
申込先研究会 CPM 
資料番号 IEICE-EMD2011-13,IEICE-CPM2011-49,IEICE-OME2011-27 
巻番号(vol) IEICE-111 
号番号(no) no.108(EMD), no.109(CPM), no.110(OME) 
ページ範囲 pp.29-33 
ページ数 IEICE-5 
発行日 IEICE-EMD-2011-06-23,IEICE-CPM-2011-06-23,IEICE-OME-2011-06-23 


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