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| 講演抄録／キーワード | ||
| 講演名 | 2011-06-30 15:30 イオンアシスト蒸着によるフッ素薄膜の密着性改善 ○泉田和夫・松田 剛・田中邦明・臼井博明（東京農工大）  EMD2011-15 CPM2011-51 OME2011-29 エレソ技報アーカイブへのリンク：EMD2011-15 CPM2011-51 OME2011-29 |
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| 抄録 | （和） | ドライプロセスによる新たなフッ素系高分子膜形成技術として，イオンアシスト蒸着重合法を開発した．イオン照射によって基材表面をクリーニングすると同時にその表面を平滑化，活性化することにより膜／基板界面を改質し，密着性に優れた均質なフッ素系高分子膜を形成できる可能性が示された．スピンコート法による塗布型フッ素系高分子膜と比較した結果，イオンアシストを用いることで密着性の優れた薄膜が得られることを実証した．またイオン照射条件を制御することにより膜物性が変化し，低照射エネルギーで製膜することでフッ素系高分子固有の性質を持つ低表面エネルギーかつ低屈折率の薄膜が得られた．得られた膜は屈折率が低い特性を活かし，反射防止膜として応用可能である． |
| （英） | A novel dry process for depositing fluoropolymer thin film was developed by vapor deposition polymerization under the assistance by ion irradiation. The ion irradiation is effective in removing the impurities on the substrate surface. Moreover, it enables smoothening, chemical activation and physical treatment of the substrate surface. As a consequence, highly uniform fluoropolymer thin films with excellent adhesion were obtained. Their adhesion strength was compared to those fluoropolymer films that were prepared by the spin-coating method. Moreover, the ion-assisted deposition polymerization was capable of controlling the film characteristics by adjusting the ion acceleration voltage. The deposited films have low refractive index, which makes them attractive as the antireflective coating. | |
| キーワード | （和） | イオン照射アシスト蒸着 / 蒸着重合 / フッ素系高分子 / フッ化アルキルアクリレート / 密着性 / 表面改質 / 反射防止膜 / |
| （英） | ion-assisted deposition / deposition polymerization / fluoropolymer / fluorinated alkylacrylate / antireflective coating / surface treatment / adhesion strength / | |
| 文献情報 | 信学技報, vol. 111, no. 110, OME2011-29, pp. 41-46, 2011年6月. | |
| 資料番号 | OME2011-29 | |
| 発行日 | 2011-06-23 (EMD, CPM, OME) | |
| ISSN | Print edition: ISSN 0913-5685 Online edition: ISSN 2432-6380 | |
| 著作権に ついて |
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します．(許諾番号：10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034) | |
| PDFダウンロード | EMD2011-15 CPM2011-51 OME2011-29 エレソ技報アーカイブへのリンク：EMD2011-15 CPM2011-51 OME2011-29 |
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| 研究会情報 | |
| 研究会 | EMD CPM OME |
| 開催期間 | 2011-06-30 - 2011-06-30 |
| 開催地（和） | 機械振興会館 |
| 開催地（英） | |
| テーマ（和） | 材料デバイスサマーミーティング |
| テーマ（英） | |
| 講演論文情報の詳細 | |
| 申込み研究会 | OME |
| 会議コード | 2011-06-EMD-CPM-OME |
| 本文の言語 | 日本語 |
| タイトル（和） | イオンアシスト蒸着によるフッ素薄膜の密着性改善 |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Adhesion Improvement of Fluoropolymer Thin Films by Ion-Assisted Vapor Deposition Polymerization |
| サブタイトル（英） | |
| キーワード(1)（和/英） | イオン照射アシスト蒸着 / ion-assisted deposition |
| キーワード(2)（和/英） | 蒸着重合 / deposition polymerization |
| キーワード(3)（和/英） | フッ素系高分子 / fluoropolymer |
| キーワード(4)（和/英） | フッ化アルキルアクリレート / fluorinated alkylacrylate |
| キーワード(5)（和/英） | 密着性 / antireflective coating |
| キーワード(6)（和/英） | 表面改質 / surface treatment |
| キーワード(7)（和/英） | 反射防止膜 / adhesion strength |
| キーワード(8)（和/英） | / |
| 第1著者 氏名（和/英/ヨミ） | 泉田 和夫 / Kazuo Senda / センダ カズオ |
| 第1著者 所属（和/英） | 東京農工大学 (略称： 東京農工大) Tokyo University of Agriculture and Technology (略称： Tokyo Univ. Agricul. & Technol.) |
| 第2著者 氏名（和/英/ヨミ） | 松田 剛 / Tsuyoshi Matsuda / マツダ ツヨシ |
| 第2著者 所属（和/英） | 東京農工大学 (略称： 東京農工大) Tokyo University of Agriculture and Technology (略称： Tokyo Univ. Agricul. & Technol.) |
| 第3著者 氏名（和/英/ヨミ） | 田中 邦明 / Kuniaki Tanaka / タナカ クニアキ |
| 第3著者 所属（和/英） | 東京農工大学 (略称： 東京農工大) Tokyo University of Agriculture and Technology (略称： Tokyo Univ. Agricul. & Technol.) |
| 第4著者 氏名（和/英/ヨミ） | 臼井 博明 / Hiroaki Usui / |
| 第4著者 所属（和/英） | 東京農工大学 (略称： 東京農工大) Tokyo University of Agriculture and Technology (略称： Tokyo Univ. Agricul. & Technol.) |
| 第5著者 氏名（和/英/ヨミ） | / / |
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| 講演者 | 第1著者 |
| 発表日時 | 2011-06-30 15:30:00 |
| 発表時間 | 25分 |
| 申込先研究会 | OME |
| 資料番号 | EMD2011-15, CPM2011-51, OME2011-29 |
| 巻番号（vol） | vol.111 |
| 号番号（no） | no.108(EMD), no.109(CPM), no.110(OME) |
| ページ範囲 | pp.41-46 |
| ページ数 | 6 |
| 発行日 | 2011-06-23 (EMD, CPM, OME) |
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