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講演抄録/キーワード
講演名 2011-05-19 09:50
エピタキシャルAlN膜のラマン散乱分光による評価
楊 士波宮川鈴衣奈三宅秀人平松和政三重大)・播磨 弘京都工繊大ED2011-3 CPM2011-10 SDM2011-16 エレソ技報アーカイブへのリンク:ED2011-3 CPM2011-10 SDM2011-16
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文献情報 信学技報, vol. 111, no. 45, CPM2011-10, pp. 11-14, 2011年5月.
資料番号 CPM2011-10 
発行日 2011-05-12 (ED, CPM, SDM) 
ISSN Print edition: ISSN 0913-5685    Online edition: ISSN 2432-6380
著作権に
ついて
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034)
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研究会情報
研究会 CPM SDM ED  
開催期間 2011-05-19 - 2011-05-20 
開催地(和) 名古屋大学 VBL 
開催地(英) Nagoya Univ. (VBL) 
テーマ(和) 結晶成長、評価技術及びデバイス(化合物、Si、SiGe、電子・光材料) 
テーマ(英)  
講演論文情報の詳細
申込み研究会 CPM 
会議コード 2011-05-CPM-SDM-ED 
本文の言語 日本語 
タイトル(和) エピタキシャルAlN膜のラマン散乱分光による評価 
サブタイトル(和)  
タイトル(英) Raman Scattering Spectroscopy for Epitaxial AlN films 
サブタイトル(英)  
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第1著者 氏名(和/英/ヨミ) 楊 士波 / Shibo Yang / ヨウ シハ
第1著者 所属(和/英) 三重大学 (略称: 三重大)
Mie University (略称: Mie Univ.)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) 宮川 鈴衣奈 / Reina Miyagawa / ミヤガワ レイナ
第2著者 所属(和/英) 三重大学 (略称: 三重大)
Mie University (略称: Mie Univ.)
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) 三宅 秀人 / Hideto Miyake / ミヤケ ヒデト
第3著者 所属(和/英) 三重大学 (略称: 三重大)
Mie University (略称: Mie Univ.)
第4著者 氏名(和/英/ヨミ) 平松 和政 / Kazumasa Hiramatsu / ヒラマツ カズマサ
第4著者 所属(和/英) 三重大学 (略称: 三重大)
Mie University (略称: Mie Univ.)
第5著者 氏名(和/英/ヨミ) 播磨 弘 / Hiroshi Harima / ハリマ ヒロシ
第5著者 所属(和/英) 京都工芸繊維大学京都工芸繊維大学 (略称: 京都工繊大)
Kyoto Institute of Technology (略称: Kyoto Inst. Tech.)
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講演者 第1著者 
発表日時 2011-05-19 09:50:00 
発表時間 25分 
申込先研究会 CPM 
資料番号 ED2011-3, CPM2011-10, SDM2011-16 
巻番号(vol) vol.111 
号番号(no) no.44(ED), no.45(CPM), no.46(SDM) 
ページ範囲 pp.11-14 
ページ数
発行日 2011-05-12 (ED, CPM, SDM) 


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